高分辨率高生產(chǎn)量處理柔性基底導(dǎo)電圖形的系統(tǒng)和方法
【專利摘要】提出了一種高分辨率高生產(chǎn)量處理柔性基底導(dǎo)電圖形的系統(tǒng)和方法。為了適當(dāng)對(duì)準(zhǔn)，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被加入至多層基底的每一層中。光學(xué)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被應(yīng)用至每個(gè)基底層的表面上。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記組被布置在每個(gè)基底層的局部區(qū)域中。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的每個(gè)局部組被稱為對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域。所述第一基底層上的第一對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域之內(nèi)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與所述第二基底層上的第二對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域之內(nèi)的相應(yīng)的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記相對(duì)準(zhǔn)。在一些實(shí)施例中，所述第一對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域包括被配置用于手工對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和被配置用于機(jī)器對(duì)準(zhǔn)的另一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。所述第二對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域具有相對(duì)應(yīng)的手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
【專利說明】高分辨率高生產(chǎn)量處理柔性基底導(dǎo)電圖形的系統(tǒng)和方法
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本專利申請(qǐng)要求于2012年7月10日提交，題名為“System and MethodforHigh Resolution， High Throughput Processing of Conductive Patterns of FlexibleSubstrates”的序列號(hào)為61/670，055的共同待決的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)?jiān)?5U.S.C.119(e)下的優(yōu)先權(quán)。本申請(qǐng)通過引用將序列號(hào)為61/670，055的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)整體結(jié)合于此。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及多層基底和處理多層基底的方法。更具體的，本發(fā)明涉及具有導(dǎo)電圖形的多層基底和處理這種基底的方法。
【背景技術(shù)】
[0004]許多電氣設(shè)備包含觸摸屏類型的顯示器。觸摸屏為檢測(cè)顯示區(qū)域內(nèi)觸摸的存在、位置和壓力的顯示器，觸摸通常通過手指、手、觸筆，或其他定點(diǎn)設(shè)備進(jìn)行。觸摸屏使得使用者能直接與顯示面板互動(dòng)，不需任何中間設(shè)備，而不是間接的使用鼠標(biāo)或觸摸板。觸摸屏可以在計(jì)算機(jī)內(nèi)實(shí)施或者作為終端實(shí)施以接入網(wǎng)絡(luò)。觸摸屏通常出現(xiàn)在銷售點(diǎn)系統(tǒng)、自動(dòng)提款機(jī)(ATM)、移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、便攜式游戲控制臺(tái)、衛(wèi)星導(dǎo)航設(shè)備和信息器具中。
[0005]具有多種類型的觸摸屏技術(shù)。電容性觸摸傳感器包括多層涂有、部分涂有、或形成圖形有導(dǎo)電連續(xù)電流的材料。傳感器顯示出在水平軸和豎直軸兩者上的存儲(chǔ)的電子的精確控制場(chǎng)以獲得電容。人體可導(dǎo)電，因此影響電容內(nèi)存儲(chǔ)的電場(chǎng)。當(dāng)傳感器的參考電容被諸如手指的另外一個(gè)電容場(chǎng)改變，位于面板的每個(gè)拐角處的電子電路測(cè)量參考電容內(nèi)的合成失真。與觸摸事件相關(guān)的測(cè)量信息被發(fā)送至控制器用于數(shù)學(xué)處理。
[0006]電容性觸摸傳感器通常使用透明導(dǎo)體形成，諸如ITO(銦錫氧化物)導(dǎo)體，形成為層。在示例性配置中，第一層位于第二層之上。第二層具有形成驅(qū)動(dòng)電極的底部導(dǎo)體，也被稱為驅(qū)動(dòng)線路，并且第一層具有形成感測(cè)電極的頂部導(dǎo)體，也被稱為感測(cè)線路。每個(gè)驅(qū)動(dòng)線路和感測(cè)線路的交叉點(diǎn)形成具有測(cè)量電容的電容器。目標(biāo)為確定電容性觸摸傳感器上的估計(jì)觸摸位置。當(dāng)手指或其他接地的物體放置于或臨近于傳感器的交叉點(diǎn)，在該交叉點(diǎn)處的測(cè)量電容會(huì)出現(xiàn)變化。
[0007]具有電容性觸摸傳感器的觸摸屏的制造需要在高速處理下多層在側(cè)面并且旋轉(zhuǎn)地恰當(dāng)對(duì)準(zhǔn)。已經(jīng)使用印刷目標(biāo)來(lái)對(duì)齊各種裝配操作，包括層疊、激光切割和切除。圖1示出常見的印刷目標(biāo)。多個(gè)這些目標(biāo)被印刷在每層的重要的位置上。每層上的目標(biāo)與相對(duì)應(yīng)的層上的目標(biāo)對(duì)準(zhǔn)，以形成對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)組，每組包括來(lái)自每層的一個(gè)目標(biāo)。然后使用對(duì)準(zhǔn)打孔系統(tǒng)將對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)進(jìn)行打孔，從而使得針在每組的層之間穿過，由此根據(jù)對(duì)準(zhǔn)的目標(biāo)將層保持在適當(dāng)?shù)奈恢谩?br>
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008]對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被添加至每個(gè)基底層，用于多基底層的恰當(dāng)對(duì)準(zhǔn)。在一些實(shí)施例中，每層由一個(gè)表面上具有導(dǎo)電跡線的透明基底形成。導(dǎo)電跡線能夠被用在各種應(yīng)用中，例如電容性觸摸傳感器。多層基底的裝配包括單個(gè)基底層關(guān)于彼此恰當(dāng)對(duì)準(zhǔn)。在每個(gè)基底層的表面上應(yīng)用光學(xué)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，從而不干擾專用的導(dǎo)電跡線。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的組被布置在每個(gè)基底層上的局部區(qū)域。每個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的局部組被稱為對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域。第一基底層上的第一對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與相對(duì)應(yīng)的第二基底層上的第二對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記相對(duì)準(zhǔn)。在一些實(shí)施例中，第一對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域包括被配置用于手工對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，和被配置用于機(jī)器對(duì)準(zhǔn)的另一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。第二對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域具有相應(yīng)的手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
[0009]在一個(gè)方面，公開了用于對(duì)準(zhǔn)多基底層的對(duì)準(zhǔn)反饋裝置。所述裝置包括第一基底和第二基底。第一基底層具有形成在表面上的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第一部分，其中對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第一部分包括第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。第二基底層具有形成在表面上的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第二部分。第二基底層耦合于第一基底層。對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第二部分包括第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。當(dāng)?shù)谝换讓雍偷诙讓颖舜诉m當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)，并且第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)。
[0010]在一些實(shí)施例中，第一和第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記每個(gè)具有方形，并且第一和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記每個(gè)為圓形。在一些實(shí)施例中，第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為第一方形，并且第二手工標(biāo)記為第二方形，其中第一方形比第二方形小，并且當(dāng)?shù)谝换讓雍偷诙讓舆m當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，第一方形裝配在第二方形之內(nèi)。在其他實(shí)施例中，第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為具有孔的環(huán)形，并且第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為圓形，其中圓比孔小，并且當(dāng)?shù)谝换讓雍偷诙讓舆m當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，圓裝配在孔之內(nèi)。在一些實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第一部分進(jìn)一步包括對(duì)齊試樣(registration coupon)。這種情況下,對(duì)齊試樣能夠包括在第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記周圍形成的導(dǎo)電跡線。導(dǎo)電跡線能夠?yàn)棣│?。在一些實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第二部分進(jìn)一步包括蝕刻試樣。這種情況下，蝕刻試樣能夠包括在第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記周圍形成的導(dǎo)電跡線。導(dǎo)電跡線可以為銀系油墨。
[0011]在另一方面，公開了對(duì)準(zhǔn)多基底層的方法。該方法包括形成具有在表面上形成的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第一部分的第一基底層。對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第一部分包括第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。該方法還包括形成具有在表面上形成的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第二部分的第二基底層。第二基底層耦合于第一基底層。對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第二部分包括第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。該方法還包括對(duì)準(zhǔn)第一基底層和第二基底層從而使得第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)，并且第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)。
[0012]在一些實(shí)施例中，第一和第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記每個(gè)形成為方形，并且第一和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記每個(gè)形成為圓形。在一些實(shí)施例中，第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成為第一方形，并且第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成為第二方形，其中第一方形比第二方形小，并且當(dāng)?shù)谝换讓雍偷诙讓舆m當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，第一方形裝配在第二方形之內(nèi)。在其他實(shí)施例中，第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成為具有孔的環(huán)形，并且第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成為圓，其中圓比孔小，并且當(dāng)?shù)谝换讓雍偷诙讓舆m當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，圓裝配在孔之內(nèi)。在一些實(shí)施例中，形成對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第一部分進(jìn)一步包括形成對(duì)齊試樣。在一些實(shí)施例中，形成對(duì)齊試樣包括在第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的周圍形成導(dǎo)電跡線。導(dǎo)電跡線可以為ΙΤ0。在一些實(shí)施例中，形成對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第二部分包括形成蝕刻試樣。在一些實(shí)施例中，形成蝕刻試樣包括在第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記周圍形成導(dǎo)電跡線。導(dǎo)電跡線可以為銀系油墨。在一些實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)第一基底層和第二基底層從而使得第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)，包括手工對(duì)準(zhǔn)第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。在另外的實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)第一基底層和第二基底層使得第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)，包括機(jī)器對(duì)準(zhǔn)第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]參考附圖描述若干示例實(shí)施例，其中相似的部件具有相似的附圖標(biāo)記。示例實(shí)施例旨在說明，而不是限制本發(fā)明。附圖包括以下圖:
[0014]圖1圖示常用的印刷目標(biāo)。
[0015]圖2圖示導(dǎo)電油墨的示例性印刷圖形，被稱為對(duì)齊試樣。
[0016]圖3圖示根據(jù)實(shí)施例包括兩對(duì)排列整齊的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的自上而下的視圖。
[0017]圖4圖示對(duì)應(yīng)于第一基底層的圖3的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的部分。
[0018]圖5圖示對(duì)應(yīng)于第二基底層的圖3的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的部分。
【具體實(shí)施方式】
[0019]本申請(qǐng)的實(shí)施例針對(duì)用于使用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記處理多層基底的系統(tǒng)和方法。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將會(huì)意識(shí)到以下該系統(tǒng)和方法的詳細(xì)描述僅為示意性，而不旨在以任何方式進(jìn)行限制。該系統(tǒng)和方法的其他實(shí)施例將使得益于本公開的本領(lǐng)域技術(shù)人員很容易想到它們。
[0020]現(xiàn)將詳細(xì)參考在附圖中圖示的系統(tǒng)和方法的實(shí)施例。貫穿附圖和下列詳細(xì)描述，將使用相同的附圖標(biāo)記指代相同或相似的部件。為了清楚，并非示出和描述本文所描述的實(shí)施方式的所有常規(guī)特征。當(dāng)然，將理解的是，在任何這種實(shí)際的實(shí)施方式的研發(fā)過程中，必須做出多種特定的實(shí)施方式的決定，以達(dá)成開發(fā)者的特定目標(biāo)，諸如符合應(yīng)用以及與商務(wù)有關(guān)的限制，并且這些具體的目標(biāo)將從一個(gè)實(shí)施方式到另一個(gè)實(shí)施方式、并且從一個(gè)開發(fā)者到另一個(gè)開發(fā)者而變化。另外，將理解的是，這些開發(fā)工作可能是復(fù)雜的并且耗費(fèi)時(shí)間的，但對(duì)于得益于本公開的本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員這將仍然是常規(guī)的工程任務(wù)。
[0021]本應(yīng)用的實(shí)施例針對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和使用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以制造具有多層的基底的方法。在示例性應(yīng)用中，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被用于具有兩層的電容性觸摸屏傳感器的裝配中。下列討論針對(duì)兩層電容性觸摸傳感器的制造?？梢岳斫獾氖?，所描述的原則能夠被應(yīng)用至可替換的多層基底應(yīng)用中。在一些實(shí)施例中，每層均由在一個(gè)表面上具有導(dǎo)電跡線的透明基底制成。所述兩層裝配在彼此之上，從而使得每層上的導(dǎo)電跡線由其中至少一層的厚度分離開。在一些實(shí)施例中，每層上的導(dǎo)電跡線在裝配的層的相對(duì)的表面上。在一些實(shí)施例中，每層均由柔性基底、或者使用卷對(duì)卷處理來(lái)處理的卷材基底形成。
[0022]電容性觸摸屏的制造包括兩個(gè)基底層相對(duì)彼此適當(dāng)對(duì)準(zhǔn)。光學(xué)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被應(yīng)用在每個(gè)基底層的重要的但非突出的區(qū)域處。第一基底層上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與第二基底層上對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)。與在兩個(gè)基底層上對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記相對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記公差為專用，并且部分取決于基底層的材料、導(dǎo)電跡線材料、以及用于裝配步驟的生產(chǎn)速率。在一些實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)精度能夠被作為反饋機(jī)制使用以調(diào)整滾筒的速度、最優(yōu)化卷材基底的張力、以及卷對(duì)卷處理處理的生產(chǎn)量。
[0023]對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的組被布置在每個(gè)基底層上的局部區(qū)域內(nèi)，被稱為對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域。第一基底層上的第一對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域中的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與第二基底層上的第二對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域中的相對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記相對(duì)準(zhǔn)。在一些實(shí)施例中，每個(gè)對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域包括一個(gè)或多個(gè)對(duì)齊試樣和/或蝕刻試樣。蝕刻試樣能夠被用于測(cè)量正確線路的寬度和間隔。對(duì)齊試樣能夠被用于測(cè)試導(dǎo)電油墨被恰當(dāng)?shù)奶幚怼?br> [0024]圖2圖示導(dǎo)電油墨的示例性印刷圖形,稱為對(duì)齊試樣。在圖2所示的示例中，圖形為彎曲狀圖形2。也能夠使用其它圖形。圖形由用于諸如電容性觸摸傳感器中的導(dǎo)電跡線的設(shè)備應(yīng)用中的導(dǎo)電油墨制成。對(duì)齊試樣被用于測(cè)試導(dǎo)電墨水已經(jīng)干燥、或固化、并且適當(dāng)導(dǎo)電。對(duì)齊試樣具有已知的總長(zhǎng)度和寬度，由此可預(yù)期已知的電阻。當(dāng)導(dǎo)電油墨適當(dāng)干燥時(shí)，其具有符合預(yù)期電阻的所得到的電阻，或者電阻的范圍。為了測(cè)試，探針尖端被應(yīng)用至兩個(gè)測(cè)試墊4和6中的每一個(gè)，并且測(cè)量總電阻。將所測(cè)量的電阻與對(duì)應(yīng)于試樣長(zhǎng)度和寬度尺寸的設(shè)計(jì)的電阻進(jìn)行比較。
[0025]圖3圖示根據(jù)實(shí)施例包括兩對(duì)排列整齊的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的自上而下的視圖。在該示例性實(shí)施例中，對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域10對(duì)應(yīng)于兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)的基底層。圖4圖示對(duì)應(yīng)于第一基底層的圖3的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的部分。圖5圖示對(duì)應(yīng)于第二基底層的圖3的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的部分。第一基底層上的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域部分IOa包括邊界12，內(nèi)部方形標(biāo)記14和環(huán)形標(biāo)記16。在一些實(shí)施例中，邊界12作用為對(duì)齊試樣，其電阻能夠被測(cè)量。在其他實(shí)施例中，邊界12作用為用于限定對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域部分IOa的區(qū)域的視覺輔助。第二基底層上的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域部分IOb包括蝕刻試樣22、外部方形標(biāo)記24、和點(diǎn)標(biāo)記26。蝕刻試樣22能夠包括一個(gè)或多個(gè)由間隔分離的跡線，每條跡線和間隔具有不同的寬度。蝕刻試樣能夠被用于測(cè)量正確線路寬度和間隔。
[0026]在一些實(shí)施例中，邊界12、內(nèi)部方形標(biāo)記14、和環(huán)形標(biāo)記16由銀系油墨制成，并且蝕刻試樣22、外部方形標(biāo)記24和點(diǎn)標(biāo)記26由ITO(銦錫氧化物)制成?？梢岳斫獾氖牵軌蚴褂每商鎿Q的導(dǎo)電材料。還可以理解的是，對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的組件能夠由非導(dǎo)電材料制成。
[0027]標(biāo)記14、16、24和26被用作反饋對(duì)齊機(jī)制。在一些實(shí)施例中，內(nèi)部方形標(biāo)記14和外部方形標(biāo)記24用于人工可讀對(duì)齊反饋，也被稱為手工對(duì)準(zhǔn)。較小方形標(biāo)記14關(guān)于較大方形標(biāo)記24的相對(duì)尺寸根據(jù)對(duì)準(zhǔn)處理的公差進(jìn)行設(shè)計(jì)，并且能夠根據(jù)應(yīng)用進(jìn)行調(diào)整。當(dāng)內(nèi)部方形標(biāo)記14的一側(cè)遷移至較大方形標(biāo)記24的邊緣，即是允許的對(duì)齊公差的極限。
[0028]在一些實(shí)施例中，環(huán)形標(biāo)記16和點(diǎn)標(biāo)記26用于機(jī)器可讀對(duì)齊反饋，也被稱為機(jī)器對(duì)準(zhǔn)。環(huán)形標(biāo)記16和點(diǎn)標(biāo)記26的功能與內(nèi)部和外部方形標(biāo)記14和24相似，但是環(huán)形標(biāo)記16和點(diǎn)標(biāo)記26旨在用于光學(xué)對(duì)齊裝置。這樣的裝置在定位圓的中心比定位方形的中心更為成功，然而人工操作員優(yōu)選使用方形?？梢岳斫獾氖强商鎿Q形狀的標(biāo)記能夠被用于手工和機(jī)器對(duì)準(zhǔn)。點(diǎn)標(biāo)記26關(guān)于環(huán)形標(biāo)記16的相對(duì)尺寸根據(jù)對(duì)準(zhǔn)處理的公差進(jìn)行設(shè)計(jì)，并且能夠根據(jù)應(yīng)用進(jìn)行調(diào)整。
[0029]對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記是通過人、機(jī)器、或兩者使用的制造輔助，用以光學(xué)識(shí)別疊放的兩個(gè)基底層上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)，以及用以驗(yàn)證兩個(gè)基底層對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記能夠被用于最初對(duì)準(zhǔn)層或者用于驗(yàn)證前一步驟的對(duì)準(zhǔn)。兩個(gè)基底層被裝配從而使得具有導(dǎo)電圖形的表面不面對(duì)彼此。例如，第一基底層具有頂部表面或第一表面，以及底部表面或第二表面，其中電容性觸摸傳感器的導(dǎo)電跡線和對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域被印刷在第一表面上，以及第二基底層也具有第一表面和第二表面，其中電容性觸摸傳感器的導(dǎo)電跡線和對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域被印刷在第一表面上。在示例性配置中，第一基底層的第二層被放置于第二基底層的第二表面之上?？商鎿Q的，第一基底層的第二表面能夠被放置于第二基底層的第一表面上，或者第一基底層的第一表面能夠被放置于第二基底層的第二表面上。
[0030]本申請(qǐng)已按照結(jié)合細(xì)節(jié)的具體實(shí)施例進(jìn)行了描述以助于理解使用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以用于處理多基底層的系統(tǒng)和方法的結(jié)構(gòu)和操作的原理。在多個(gè)圖中示出和描述的許多組件能夠互換以實(shí)現(xiàn)需要的結(jié)果，并且應(yīng)當(dāng)理解本說明書也包含這些互換。同樣地，本文對(duì)具體實(shí)施例和其細(xì)節(jié)的參考目的不在于限制本文所附權(quán)利要求書的范圍。對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說，可在不背離本申請(qǐng)的精神和范圍情況下對(duì)所選擇用于說明的實(shí)施例作出改動(dòng)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于對(duì)準(zhǔn)多基底層的對(duì)準(zhǔn)反饋裝置，所述裝置包括: a.第一基底層，具有形成在表面上的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第一部分，其中所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的所述第一部分包括第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；以及 b.第二基底層，具有形成在表面上的所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第二部分，所述第二基底層耦合于所述第一基底層，其中所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的所述第二部分包括第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記， 其中當(dāng)所述第一基底層和所述第二基底層彼此適當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)，并且所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記均包括方形并且所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記均為圓形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括第一方形并且所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括第二方形，其中所述第一方形比所述第二方形小，并且當(dāng)所述第一基底層與所述第二基底層適當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，所述第一方形裝配在所述第二方形之內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記為具有孔的環(huán)形，并且所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括圓形，其中所述圓形比所述孔小，并且當(dāng)所述第一基底層與所述第二基底層適當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，所述圓形裝配在所述孔之內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的所述第一部分進(jìn)一步包括對(duì)齊試樣。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其中所述對(duì)齊試樣包括形成在所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記周圍的導(dǎo)電跡線?！?br> 7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中所述導(dǎo)電跡線包括ITO。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的所述第二部分進(jìn)一步包括蝕刻試樣。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述蝕刻試樣包括在所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記周圍形成的導(dǎo)電跡線。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中所述導(dǎo)電跡線包括銀系油墨。
11.一種對(duì)準(zhǔn)多基底層的方法，所述方法包括: a.形成具有在表面上形成的對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第一部分的第一基底層，其中所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的所述第一部分包括第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；以及 b.形成具有在表面上形成的所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的第二部分的第二基底層，所述第二基底層耦合至所述第一基底層，其中所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的所述第二部分包括第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；以及 c.將所述第一基底層與所述第二基底層對(duì)準(zhǔn)，從而使得所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)，并且所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記均形成為方形，并且所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記均形成為圓形。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被形成為第一方形，并且所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被形成為第二方形，其中所述第一方形比所述第二方形小，并且當(dāng)所述第一基底層和所述第二基底層適當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，所述第一方形裝配在所述第二方形之內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被形成為具有孔的環(huán)形，并且所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記被形成為圓形，其中所述圓形比所述孔小，并且當(dāng)所述第一基底層和所述第二基底層適當(dāng)對(duì)準(zhǔn)時(shí)，所述圓形裝配在所述孔之內(nèi)。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中形成所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的所述第一部分進(jìn)一步包括形成對(duì)齊試樣。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中形成所述對(duì)齊試樣包括在所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記周圍形成導(dǎo)電跡線。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中所述導(dǎo)電跡線包括ITO。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中形成所述對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域的所述第二部分進(jìn)一步包括形成蝕刻試樣。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中形成所述蝕刻試樣包括在所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記周圍形成導(dǎo)電跡線。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中所處導(dǎo)電跡線包括銀系油墨。
21.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中將所述第一基底層與所述第二基底層對(duì)準(zhǔn)從而使得所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，包括將所述第一手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與所述第二手工對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記手工對(duì)準(zhǔn)。
22.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中將所述第一基底層與所述第二基底層對(duì)準(zhǔn)從而使得所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，包括將所述第一機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與所述第二機(jī)器對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記機(jī)器對(duì)準(zhǔn)。`
【文檔編號(hào)】G06F3/044GK103577010SQ201310292308
【公開日】2014年2月12日 申請(qǐng)日期:2013年7月10日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月10日
【發(fā)明者】G·默里, K·科里根, E·瑪哈格努爾 申請(qǐng)人:偉創(chuàng)力國(guó)際美國(guó)公司