一種定位方法及電子設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種定位方法及電子設(shè)備。方法應(yīng)用于第一電子設(shè)備，第一電子設(shè)備和第二電子設(shè)備數(shù)據(jù)連接，第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，第二電子設(shè)備包括和第一采集單元匹配的第一發(fā)射單元，第一發(fā)射單元位于第二電子設(shè)備的第一區(qū)域，第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同，方法包括：通過第一采集單元對第一發(fā)射單元定位，獲取第一區(qū)域的位置信息；獲取校正參數(shù)信息；校正參數(shù)信息用于表示第一區(qū)域的位置與書寫端的位置之間的偏差；根據(jù)校正參數(shù)信息以及第一區(qū)域的位置信息，確定書寫端的位置信息。采用本發(fā)明的方法或電子設(shè)備，可以實現(xiàn)對采用超聲波定位原理的手寫筆筆跡的精確定位。
【專利說明】一種定位方法及電子設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及軌跡定位領(lǐng)域，特別是涉及一種定位方法及電子設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著電子設(shè)備的不斷發(fā)展，對于電子設(shè)備的使用方式也越來越多樣。現(xiàn)有技術(shù)中， 有一種利用超聲波定位原理實現(xiàn)手寫輸入功能的手寫筆。
[0003] 下面用一個例子對該利用超聲波定位原理實現(xiàn)手寫輸入功能的手寫筆進(jìn)行說明。 該手寫筆的下端，距離筆尖一定距離處，設(shè)置有超聲波發(fā)射單元。該手寫筆在手寫平面進(jìn)行 書寫時，手寫平面的一側(cè)設(shè)置有至少兩個超聲波接收單元。所述兩個超聲波接收單元之間 間隔一定距離。通過所述兩個超聲波接收單元接收到的超聲波信號，可以實現(xiàn)對手寫筆在 手寫平面上的筆跡定位。
[0004] 但是，現(xiàn)有技術(shù)中的對于手寫筆的筆跡的定位方法，由于是對超聲波發(fā)射單元進(jìn) 行定位，從而實現(xiàn)對于手寫筆筆跡的定位，所以實際定位出的是超聲波發(fā)射單元的位置和 軌跡。又因為超聲波發(fā)射單元與手寫筆的筆尖間隔一定距離，所以現(xiàn)有技術(shù)中的用于手寫 筆的筆跡定位方法，定位出的筆跡與筆尖實際的運行軌跡，兩者之間存在偏差。例如，當(dāng)用 戶以手寫筆筆尖上方的超聲波發(fā)射單元作為旋轉(zhuǎn)軸，用手寫筆在手寫平面畫一個圓時，由 于超聲波發(fā)射單元的位置保持不變，所以，采用現(xiàn)有技術(shù)中的筆跡定位方法，就無法識別出 手寫筆的筆尖所形成的圓形軌跡。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的是提供一種定位方法及電子設(shè)備，能夠消除現(xiàn)有技術(shù)中，單純根據(jù) 對超聲波發(fā)射單元進(jìn)行定位得到的筆跡與筆尖實際的運行軌跡，兩者之間存在的偏差，實 現(xiàn)對采用超聲波定位原理的手寫筆筆跡的精確定位。
[0006] 為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下方案：
[0007] -種定位方法，應(yīng)用于第一電子設(shè)備，所述第一電子設(shè)備和第二電子設(shè)備數(shù)據(jù)連 接，所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包括和所述第一采集單 元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的第一區(qū)域，所述第一 區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同，所述方法包括：
[0008] 通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單元定位，獲取所述第一區(qū)域的位置信 息；
[0009] 獲取校正參數(shù)信息；所述校正參數(shù)信息用于表示第一區(qū)域的位置與書寫端的位置 之間的偏差；
[0010] 根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域的位置信息，確定所述書寫端的位置信 息。
[0011] 可選的，所述獲取校正參數(shù)信息包括：
[0012] 獲取偏移距離信息，所述偏移距離信息表示所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投 影與所述書寫端之間的距離；
[0013] 和/或，獲取偏移方向信息，所述偏移方向信息表示所述第一發(fā)射單元在書寫平 面上的投影指向所述書寫端的方向。
[0014] 可選的，所述獲取偏移距離信息，包括：
[0015] 獲取所述第二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角；
[0016] 獲取第一距離，所述第一距離為所述第一發(fā)射單元與所述書寫端的距離；
[0017] 根據(jù)所述傾角與第一距離，計算所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影與所述書 寫端之間的距離，得到偏移距離信息。
[0018] 可選的，所述第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有多個第二發(fā)射單元，不同的第二發(fā)射單 元具有不同的識別信息，所述第一電子設(shè)備設(shè)置有與所述第二發(fā)射單元相匹配的第二采集 單元，所述獲取偏移方向信息，包括 ：
[0019] 獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息；所述第 一方向垂直于所述書寫平面；
[0020] 獲取第二方向上距離所述第二采集單元最近的第二發(fā)射單元的第二識別信息；所 述第二方向為從所述第二電子設(shè)備指向第二采集單元的方向；
[0021] 根據(jù)所述第一識別信息以及第二識別信息，確定所述第一發(fā)射單元在書寫平面上 的投影指向所述書寫端的方向，得到偏移方向信息。
[0022] 可選的，所述第二電子設(shè)備上設(shè)置有重力傳感器，所述書寫平面為水平面，所述獲 取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息，包括：
[0023] 通過所述重力傳感器獲取重力方向上距離所述水平面最近的第二發(fā)射單元的第 一識別信息。
[0024] -種電子設(shè)備，所述電子設(shè)備為第一電子設(shè)備，所述第一電子設(shè)備和第二電子設(shè) 備數(shù)據(jù)連接，所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包括和所述第 一采集單元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的第一區(qū)域， 所述第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同，所述第一電子設(shè)備包括：
[0025] 第一區(qū)域位置信息獲取模塊，用于通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單元定 位，獲取所述第一區(qū)域的位置信息；
[0026] 校正參數(shù)獲取模塊，用于獲取校正參數(shù)信息；所述校正參數(shù)信息用于表示第一區(qū) 域的位置與書寫端的位置之間的偏差；
[0027] 書寫端位置信息確定模塊，用于根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域的位置 信息，確定所述書寫端的位置信息。
[0028] 可選的，所述校正參數(shù)獲取模塊，包括：
[0029] 偏移距離信息獲取單元，用于獲取偏移距離信息，所述偏移距離信息表示所述第 一發(fā)射單元在書寫平面上的投影與所述書寫端之間的距離；
[0030] 和/或，偏移方向信息獲取單兀，用于獲取偏移方向信息，所述偏移方向信息表不 所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向。
[0031] 可選的，所述偏移距離信息獲取單元，包括：
[0032] 傾角獲取子單元，用于獲取所述第二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角；
[0033] 第一距離獲取子單元，用于獲取第一距離，所述第一距離為所述第一發(fā)射單元與 所述書寫端的距離；
[0034] 偏移距離信息計算子單元，用于根據(jù)所述傾角與第一距離，計算所述第一發(fā)射單 元在書寫平面上的投影與所述書寫端之間的距離，得到偏移距離信息。
[0035] 可選的，所述第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有多個第二發(fā)射單元，不同的第二發(fā)射單 元具有不同的識別信息，所述第一電子設(shè)備設(shè)置有與所述第二發(fā)射單元相匹配的第二采集 單元，所述偏移方向信息獲取單元，包括：
[0036] 第一識別信息獲取子單元，用于獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā) 射單元的第一識別信息；所述第一方向垂直于所述書寫平面；
[0037] 第二識別信息獲取子單元，用于獲取第二方向上距離所述第二采集單元最近的第 二發(fā)射單元的第二識別信息；所述第二方向為從所述第二電子設(shè)備指向第二采集單元的方 向；
[0038] 偏移方向信息確定子單元，用于根據(jù)所述第一識別信息以及第二識別信息，確定 所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向，得到偏移方向信息。
[0039] 可選的，所述第二電子設(shè)備上設(shè)置有重力傳感器，所述書寫平面為水平面，所述第 一識別信息獲取子單元，包括：
[0040] 重力方向第一識別信息獲取子單元，用于通過所述重力傳感器獲取重力方向上距 離所述水平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息。
[0041] 一種電子設(shè)備，所述電子設(shè)備為第二電子設(shè)備，所述第二電子設(shè)備與第一電子設(shè) 備數(shù)據(jù)連接，所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包括和所述第 一采集單元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的第一區(qū)域， 所述第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同，所述第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有多個第二發(fā) 射單元，不同的第二發(fā)射單元具有不同的識別信息，所述第一電子設(shè)備設(shè)置有與所述第二 發(fā)射單元相匹配的第二采集單元。
[0042] 可選的，所述第二電子設(shè)備上設(shè)置有重力傳感器，所述第二電子設(shè)備包括：
[0043] 第一識別信息獲取單元，用于通過所述重力傳感器獲取重力方向上距離所述水平 面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息；
[0044] 第一識別信息發(fā)送單元，用于向所述第一電子設(shè)備發(fā)送所述第一識別信息。
[0045] 根據(jù)本發(fā)明提供的具體實施例，本發(fā)明公開了以下技術(shù)效果：
[0046] 本發(fā)明的定位方法和電子設(shè)備，通過獲取校正參數(shù)信息；根據(jù)所述校正參數(shù)信息 以及所述第一區(qū)域的位置信息，確定所述書寫端的位置信息，能夠消除現(xiàn)有技術(shù)中，單純根 據(jù)對超聲波發(fā)射單元進(jìn)行定位得到的筆跡與筆尖實際的位置，兩者之間存在的偏差，實現(xiàn) 對采用超聲波定位原理的手寫筆筆跡的精確定位。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0047] 為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例中所 需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施 例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖 獲得其他的附圖。
[0048] 圖1為本發(fā)明的定位方法實施例1的流程圖；
[0049] 圖2為本發(fā)明的第二電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0050] 圖3為本發(fā)明的定位方法實施例2的流程圖；
[0051] 圖4為本發(fā)明的定位方法實施例3的流程圖；
[0052] 圖5為第二電子設(shè)備的俯視示意圖；
[0053] 圖6為本發(fā)明的定位方法實施例4的流程圖；
[0054] 圖7為本發(fā)明的電子設(shè)備實施例1的結(jié)構(gòu)圖；
[0055] 圖8為本發(fā)明的電子設(shè)備的偏移距離信息獲取單元的結(jié)構(gòu)圖；
[0056] 圖9為本發(fā)明的電子設(shè)備的偏移方向信息獲取單元的結(jié)構(gòu)圖。

【具體實施方式】
[0057] 下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于 本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他 實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0058] 為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實 施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0059] 本發(fā)明的定位方法，應(yīng)用于第一電子設(shè)備。所述第一電子設(shè)備可以是設(shè)置有第一 采集單元的電子設(shè)備，例如筆記本電腦。所述第一采集單元可以是超聲波信號采集單元。所 述第一采集單元采集的信號，可以被用來實現(xiàn)對第一發(fā)射單元的定位功能。所述第一發(fā)射 單元可以是超聲波信號發(fā)射單元。所述第一電子設(shè)備和第二電子設(shè)備數(shù)據(jù)連接。其中，所 述第二電子設(shè)備可以是手寫筆；數(shù)據(jù)連接的方式可以是有線連接，也可以是無線連接。
[0060] 所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包括和所述第一采 集單元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的第一區(qū)域，所述 第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同。具體的，所述第一發(fā)射單元可以位于所述第二電 子設(shè)備的書寫端的上方，即所述第一區(qū)域可以是所述第二電子設(shè)備的書寫端的上方。所述 第二電子設(shè)備的書寫端，可以是手寫筆的筆尖。
[0061] 圖1為本發(fā)明的定位方法實施例1的流程圖。如圖1所示，所述方法可以包括：
[0062] 步驟101 :通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單元定位，獲取所述第一區(qū)域 的位置信息；
[0063] 所述第一采集單元可以為超聲波信號采集單元，所述第一發(fā)射單元可以為超聲波 信號發(fā)射單元。所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元。所述至少兩個第一采集單元可 以設(shè)置在第一電子設(shè)備的一側(cè)。通過所述第一采集單元可以對所述第一發(fā)射單元在第一假 想平面上定位。所述第一假想平面是由所述第一采集單元和所述第一發(fā)射單元所在的點構(gòu) 成的平面。定位后可以得到第一發(fā)射單元所在的第一區(qū)域的位置信息。
[0064] 步驟102 :獲取校正參數(shù)信息；所述校正參數(shù)信息用于表示第一區(qū)域的位置與書 寫端的位置之間的偏差；
[0065] 圖2為本發(fā)明的第二電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖2所示，書寫平面206可以是 假想平面。第二電子設(shè)備201可以是一種手寫筆的形狀。第二電子設(shè)備201上設(shè)置有第一 發(fā)射單元202。第二電子設(shè)備201具有書寫端203。
[0066] 通常，通過第一采集單元可以定位的是第一發(fā)射單元202的位置。但是，由于第一 發(fā)射單元202的位置并不是書寫端203的位置，所以需要根據(jù)第一發(fā)射單元202的位置，確 定書寫端203的位置。
[0067] 步驟102中，所述校正參數(shù)信息表示的就是第一發(fā)射單元202的位置與書寫端203 的位置之間的偏差。
[0068] 具體的，所述校正參數(shù)信息可以包括偏移距離信息，和/或，偏移方向信息。
[0069] 所述偏移距離信息可以表示所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影與所述書寫 端之間的距離。在圖2中，所述偏移距離信息就可以表示所述第一發(fā)射單元202在書寫平 面206上的投影205與所述書寫端203之間的距離。
[0070] 所述偏移方向信息可以表示所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向所述書 寫端的方向。在圖2中，所述偏移方向信息就可以表示所述第一發(fā)射單元202在書寫平面 206上的投影205指向所述書寫端203的方向。
[0071] 步驟103 :根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域的位置信息，確定所述書寫 端的位置信息。
[0072] 由于所述第一區(qū)域的位置信息可以根據(jù)第一采集單元對第一發(fā)射單元定位得到， 所述校正參數(shù)信息也是已知的，并且，所述校正參數(shù)信息表示第一區(qū)域的位置與書寫端的 位置之間的偏差，所以，根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域的位置信息，能夠確定所 述書寫端的位置信息。
[0073] 本實施例中，通過獲取校正參數(shù)信息；根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域 的位置信息，確定所述書寫端的位置信息，能夠消除現(xiàn)有技術(shù)中，單純根據(jù)對超聲波發(fā)射單 元進(jìn)行定位得到的筆跡與筆尖實際的位置，兩者之間存在的偏差，實現(xiàn)對采用超聲波定位 原理的手寫筆筆跡的精確定位。
[0074] 圖3為本發(fā)明的定位方法實施例2的流程圖。如圖3所示，所述方法可以包括：
[0075] 步驟301 :通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單元定位，獲取所述第一區(qū)域 的位置信息；
[0076] 步驟302 :獲取所述第二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角；
[0077] 所述第二電子設(shè)備上可以設(shè)置有重力傳感器。通過重力傳感器可以檢測出所述第 二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角。
[0078] 具體的，通過重力傳感器可以先檢測出所述第二電子設(shè)備與水平面之間的傾角。 可以通過另外的重力傳感器對第一電子設(shè)備上的第一采集單元的空間位置進(jìn)行檢測，第二 電子設(shè)備上的重力傳感器可以檢測到第一發(fā)射單元的空間位置，根據(jù)至少兩個第一采集單 元的空間位置，和第一發(fā)射單元的空間位置，可以確定出書寫平面與水平面之間的傾角。根 據(jù)書寫平面與水平面之間的傾角，以及第二電子設(shè)備與水平面之間的傾角，可以檢測出所 述第二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角。當(dāng)然，所述書寫平面也可以與水平面重合。
[0079] 步驟303 :獲取第一距離，所述第一距離為所述第一發(fā)射單元與所述書寫端的距 離；
[0080] 參照圖2,所述第一距離為第一發(fā)射單元202與書寫端203之間的距離。通常，第 一發(fā)射單元202是設(shè)置在第二電子設(shè)備201上的固定位置處的。因此，所述第一發(fā)射單元 與所述書寫端的距離是可以作為已知數(shù)據(jù)存儲在第一電子設(shè)備或者第二電子設(shè)備中的。
[0081] 步驟304:根據(jù)所述傾角與第一距離，計算所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投 影與所述書寫端之間的距離，得到偏移距離信息。
[0082] 可以用所述第一距離乘以所述傾角的余弦值，得到所述偏移距離。
[0083] 步驟305 :根據(jù)所述偏移距離信息以及所述第一區(qū)域的位置信息，確定所述書寫 端的位置信息。
[0084] 本實施例中，可以預(yù)先設(shè)定偏移距離的方向，將所述第一區(qū)域在書寫平面上的投 影，按照預(yù)先設(shè)定的偏移方向，移動第一距離，從而得到并確定所述書寫端的位置信息。
[0085] 圖4為本發(fā)明的定位方法實施例3的流程圖。本實施例中，所述第二電子設(shè)備的 外周設(shè)置有多個第二發(fā)射單元，不同的第二發(fā)射單元具有不同的識別信息，所述第一電子 設(shè)備設(shè)置有與所述第二發(fā)射單元相匹配的第二采集單元。
[0086] 參見圖2,所述第二電子設(shè)備201上還設(shè)置有第二發(fā)射單元204。圖5為第二電子 設(shè)備的俯視示意圖。圖5中，第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有8個第二發(fā)射單元，在圖5中，分 別用數(shù)字1-8標(biāo)識。所述第二發(fā)射單元可以是紅外信號發(fā)射單元。不同的第二發(fā)射單元發(fā) 射的信號中，可以具有不同的識別信息。第二接收單元接收到第二發(fā)射單元發(fā)射的信號后， 可以根據(jù)所述識別信息，確定所述信號是由哪個第二發(fā)射單元發(fā)出的。
[0087] 如圖4所示，所述方法可以包括：
[0088] 步驟401 :通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單元定位，獲取所述第一區(qū)域 的位置信息；
[0089] 步驟402 :獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信 息；所述第一方向垂直于所述書寫平面；
[0090] 當(dāng)所述書寫平面為水平面時，所述第一方向就可以是重力方向?？梢酝ㄟ^重力傳 感器獲取到距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息。例如圖5中，距離所 述書寫平面（圖5中為水平面）最近的第二發(fā)射單元的序號為5,序號為5的第二發(fā)射單元 的第一識別信息也可以是5。
[0091] 具體的，當(dāng)所述第二電子設(shè)備上設(shè)置有重力傳感器，所述書寫平面為水平面時，所 述獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息，可以包括：
[0092] 通過所述重力傳感器獲取重力方向上距離所述水平面最近的第二發(fā)射單元的第 一識別信息。
[0093] 步驟403 :獲取第二方向上距離所述第二采集單元最近的第二發(fā)射單元的第二識 別信息；所述第二方向為從所述第二電子設(shè)備指向第二采集單元的方向。
[0094] 圖5中，第一電子設(shè)備為501，第二米集單兀502設(shè)置在第一電子設(shè)備501的一側(cè)。 距離所述第二采集單元502最近的第二發(fā)射單元的序號為3,序號為3的第二發(fā)射單元的第 一識別信息也可以是3。所述第二方向為從所述第二電子設(shè)備（圖5中具體可以是序號為3 的第二發(fā)射單元）指向第二采集單元502的方向。
[0095] 步驟404 :根據(jù)所述第一識別信息以及第二識別信息，確定所述第一發(fā)射單元在 書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向，得到偏移方向信息。
[0096] 具體的，根據(jù)所述第一識別信息可以獲知指向書寫平面的第二發(fā)射單元的序號， 根據(jù)所述第二識別信息可以獲知指向第二采集單元的第二發(fā)射單元的序號，又因為多個第 二采集單元之間的相對位置關(guān)系是已知的，所以根據(jù)空間位置關(guān)系，便可以確定所述第一 發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向，得到偏移方向信息。
[0097] 以圖5為例，圖5中指向書寫平面的第二發(fā)射單元的序號為5,指向第二采集單元 的第二發(fā)射單元的序號為3,那么，就可以確定所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向 所述書寫端的方向為從A到B的方向。
[0098] 步驟405 :根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域的位置信息，確定所述書寫 端的位置信息。
[0099] 本實施例中，可以預(yù)先設(shè)定偏移距離，將所述第一區(qū)域在書寫平面上的投影，按照 測得的偏移方向，移動預(yù)設(shè)偏移距離，從而得到并確定所述書寫端的位置信息。
[0100] 圖6為本發(fā)明的定位方法實施例4的流程圖。如圖6所示，所述方法包括：
[0101] 步驟601 :通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單元定位，獲取所述第一區(qū)域 的位置信息；
[0102] 步驟602 :獲取所述第二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角；
[0103] 步驟603 :獲取第一距離，所述第一距離為所述第一發(fā)射單元與所述書寫端的距 離；
[0104] 步驟604:根據(jù)所述傾角與第一距離，計算所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投 影與所述書寫端之間的距離，得到偏移距離信息。
[0105] 步驟605 :獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信 息；所述第一方向垂直于所述書寫平面；
[0106] 步驟606 :獲取第二方向上距離所述第二采集單元最近的第二發(fā)射單元的第二識 別信息；所述第二方向為從所述第二電子設(shè)備指向第二采集單元的方向；
[0107] 步驟607 :根據(jù)所述第一識別信息以及第二識別信息，確定所述第一發(fā)射單元在 書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向，得到偏移方向信息。
[0108] 步驟608 :將所述第一發(fā)射單元在所述書寫平面上的投影的點，在偏移方向上移 動偏移距離，得到所述第二電子設(shè)備的書寫端的位置。
[0109] 本實施例中，對偏移方向和偏移距離兩者都進(jìn)行獲取，根據(jù)偏移方向和偏移距離 確定所述第二電子設(shè)備的書寫端的位置，可以使得定位更加精確。
[0110] 本發(fā)明還公開了一種電子設(shè)備。所述電子設(shè)備為第一電子設(shè)備，例如安裝有第一 采集單元的筆記本電腦。所述第一電子設(shè)備和第二電子設(shè)備數(shù)據(jù)連接。所述第二電子設(shè) 備可以是手寫筆。所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包括和所 述第一采集單元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的第一區(qū) 域，所述第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同。
[0111] 圖7為本發(fā)明的電子設(shè)備實施例1的結(jié)構(gòu)圖。如圖7所示，所述電子設(shè)備可以包 括：
[0112] 第一區(qū)域位置信息獲取模塊701，用于通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單 元定位，獲取所述第一區(qū)域的位置信息；
[0113] 校正參數(shù)獲取模塊702,用于獲取校正參數(shù)信息；所述校正參數(shù)信息用于表示第 一區(qū)域的位置與書寫端的位置之間的偏差；
[0114] 書寫端位置信息確定模塊703,用于根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域的 位置信息，確定所述書寫端的位置信息。
[0115] 其中，所述校正參數(shù)獲取模塊702,可以包括：
[0116] 偏移距離信息獲取單元，用于獲取偏移距離信息，所述偏移距離信息表示所述第 一發(fā)射單元在書寫平面上的投影與所述書寫端之間的距離；
[0117] 和/或，偏移方向信息獲取單兀，用于獲取偏移方向信息，所述偏移方向信息表不 所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向。
[0118] 本實施例中，通過獲取校正參數(shù)信息；根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域 的位置信息，確定所述書寫端的位置信息，能夠消除現(xiàn)有技術(shù)中，單純根據(jù)對超聲波發(fā)射單 元進(jìn)行定位得到的筆跡與筆尖實際的位置，兩者之間存在的偏差，實現(xiàn)對采用超聲波定位 原理的手寫筆筆跡的精確定位。
[0119] 圖8為本發(fā)明的電子設(shè)備的偏移距離信息獲取單元的結(jié)構(gòu)圖。如圖8所示，所述 偏移距離信息獲取單元可以包括：
[0120] 傾角獲取子單元801，用于獲取所述第二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角；
[0121] 第一距離獲取子單元802,用于獲取第一距離，所述第一距離為所述第一發(fā)射單元 與所述書寫端的距離；
[0122] 偏移距離信息計算子單元803，用于根據(jù)所述傾角與第一距離，計算所述第一發(fā)射 單元在書寫平面上的投影與所述書寫端之間的距離，得到偏移距離信息。
[0123] 圖9為本發(fā)明的電子設(shè)備的偏移方向信息獲取單元的結(jié)構(gòu)圖。如圖9所示，當(dāng)所 述第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有多個第二發(fā)射單元，不同的第二發(fā)射單元具有不同的識別信 息，所述第一電子設(shè)備設(shè)置有與所述第二發(fā)射單元相匹配的第二采集單元時，所述偏移方 向信息獲取單元可以包括：
[0124] 第一識別信息獲取子單元901，用于獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第 二發(fā)射單元的第一識別信息；所述第一方向垂直于所述書寫平面；
[0125] 第二識別信息獲取子單元902,用于獲取第二方向上距離所述第二采集單元最近 的第二發(fā)射單元的第二識別信息；所述第二方向為從所述第二電子設(shè)備指向第二采集單元 的方向；
[0126] 偏移方向信息確定子單元903,用于根據(jù)所述第一識別信息以及第二識別信息，確 定所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向，得到偏移方向信息。
[0127] 其中，當(dāng)所述第二電子設(shè)備上設(shè)置有重力傳感器，所述書寫平面為水平面時，所述 第一識別信息獲取子單元，可以包括：
[0128] 重力方向第一識別信息獲取子單元，用于通過所述重力傳感器獲取重力方向上距 離所述水平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息。
[0129] 本發(fā)明還公開了一種電子設(shè)備。所述電子設(shè)備為第二電子設(shè)備，例如手寫筆。所 述第二電子設(shè)備與第一電子設(shè)備數(shù)據(jù)連接。所述第一電子設(shè)備可以是安裝有第一采集單元 的筆記本電腦。
[0130] 所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包括和所述第一采 集單元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的第一區(qū)域，所述 第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同，所述第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有多個第二發(fā)射單 元，不同的第二發(fā)射單元具有不同的識別信息，所述第一電子設(shè)備設(shè)置有與所述第二發(fā)射 單元相匹配的第二采集單元。
[0131] 所述第二電子設(shè)備還可以包括：
[0132] 第一識別信息獲取單元，用于通過所述重力傳感器獲取重力方向上距離所述水平 面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息；
[0133] 第一識別信息發(fā)送單元，用于向所述第一電子設(shè)備發(fā)送所述第一識別信息。
[0134] 最后，還需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語僅僅用來將 一個實體或者操作與另一個實體或操作區(qū)分開來，而不一定要求或者暗示這些實體或操作 之間存在任何這種實際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語"包括"、"包含"或者其任何其他變體 意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括 那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或 者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句"包括一個……"限定的要素，并 不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。
[0135] 通過以上的實施方式的描述，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到本發(fā)明可借 助軟件加必需的硬件平臺的方式來實現(xiàn)，當(dāng)然也可以全部通過硬件來實施，但很多情況下 前者是更佳的實施方式?；谶@樣的理解，本發(fā)明的技術(shù)方案對【背景技術(shù)】做出貢獻(xiàn)的全部 或者部分可以以軟件產(chǎn)品的形式體現(xiàn)出來，該計算機(jī)軟件產(chǎn)品可以存儲在存儲介質(zhì)中，如 R0M/RAM、磁碟、光盤等，包括若干指令用以使得一臺計算機(jī)設(shè)備(可以是個人計算機(jī)，服務(wù) 器，或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等）執(zhí)行本發(fā)明各個實施例或者實施例的某些部分所述的方法。
[0136] 本說明書中各個實施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他 實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。對于實施例公開的電子 設(shè)備而言，由于其與實施例公開的方法相對應(yīng)，所以描述的比較簡單，相關(guān)之處參見方法部 分說明即可。
[0137] 本文中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進(jìn)行了闡述，以上實施例的說 明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想；同時，對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù) 本發(fā)明的思想，在【具體實施方式】及應(yīng)用范圍上均會有改變之處。綜上所述，本說明書內(nèi)容不 應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制。
【權(quán)利要求】
1. 一種定位方法，應(yīng)用于第一電子設(shè)備，其特征在于，所述第一電子設(shè)備和第二電子設(shè) 備數(shù)據(jù)連接，所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包括和所述第 一采集單元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的第一區(qū)域， 所述第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同，所述方法包括： 通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單元定位，獲取所述第一區(qū)域的位置信息； 獲取校正參數(shù)信息；所述校正參數(shù)信息用于表示第一區(qū)域的位置與書寫端的位置之間 的偏差； 根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域的位置信息，確定所述書寫端的位置信息。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取校正參數(shù)信息包括： 獲取偏移距離信息，所述偏移距離信息表示所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影與 所述書寫端之間的距離； 和/或，獲取偏移方向信息，所述偏移方向信息表示所述第一發(fā)射單元在書寫平面上 的投影指向所述書寫端的方向。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述獲取偏移距離信息，包括： 獲取所述第二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角； 獲取第一距離，所述第一距離為所述第一發(fā)射單元與所述書寫端的距離； 根據(jù)所述傾角與第一距離，計算所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影與所述書寫端 之間的距離，得到偏移距離信息。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有多個第 二發(fā)射單元，不同的第二發(fā)射單元具有不同的識別信息，所述第一電子設(shè)備設(shè)置有與所述 第二發(fā)射單元相匹配的第二采集單元，所述獲取偏移方向信息，包括 ： 獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息；所述第一方 向垂直于所述書寫平面； 獲取第二方向上距離所述第二采集單元最近的第二發(fā)射單元的第二識別信息；所述第 二方向為從所述第二電子設(shè)備指向第二采集單元的方向； 根據(jù)所述第一識別信息以及第二識別信息，確定所述第一發(fā)射單元在書寫平面上的投 影指向所述書寫端的方向，得到偏移方向信息。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述第二電子設(shè)備上設(shè)置有重力傳感器， 所述書寫平面為水平面，所述獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單元的第 一識別信息，包括： 通過所述重力傳感器獲取重力方向上距離所述水平面最近的第二發(fā)射單元的第一識 別信息。
6. -種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備為第一電子設(shè)備，所述第一電子設(shè)備和第 二電子設(shè)備數(shù)據(jù)連接，所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包括 和所述第一采集單元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的第 一區(qū)域，所述第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同，所述第一電子設(shè)備包括： 第一區(qū)域位置信息獲取模塊，用于通過所述第一采集單元對所述第一發(fā)射單元定位， 獲取所述第一區(qū)域的位置信息； 校正參數(shù)獲取模塊，用于獲取校正參數(shù)信息；所述校正參數(shù)信息用于表示第一區(qū)域的 位置與書寫端的位置之間的偏差； 書寫端位置信息確定模塊，用于根據(jù)所述校正參數(shù)信息以及所述第一區(qū)域的位置信 息，確定所述書寫端的位置信息。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述校正參數(shù)獲取模塊，包括： 偏移距離信息獲取單元，用于獲取偏移距離信息，所述偏移距離信息表示所述第一發(fā) 射單元在書寫平面上的投影與所述書寫端之間的距離； 和/或，偏移方向信息獲取單兀，用于獲取偏移方向信息，所述偏移方向信息表不所述 第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述偏移距離信息獲取單元，包括： 傾角獲取子單元，用于獲取所述第二電子設(shè)備與所述書寫平面之間的傾角； 第一距離獲取子單元，用于獲取第一距離，所述第一距離為所述第一發(fā)射單元與所述 書寫端的距離； 偏移距離信息計算子單元，用于根據(jù)所述傾角與第一距離，計算所述第一發(fā)射單元在 書寫平面上的投影與所述書寫端之間的距離，得到偏移距離信息。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有多 個第二發(fā)射單元，不同的第二發(fā)射單元具有不同的識別信息，所述第一電子設(shè)備設(shè)置有與 所述第二發(fā)射單元相匹配的第二采集單元，所述偏移方向信息獲取單元，包括： 第一識別信息獲取子單元，用于獲取第一方向上距離所述書寫平面最近的第二發(fā)射單 元的第一識別信息；所述第一方向垂直于所述書寫平面； 第二識別信息獲取子單元，用于獲取第二方向上距離所述第二采集單元最近的第二發(fā) 射單元的第二識別信息；所述第二方向為從所述第二電子設(shè)備指向第二采集單元的方向； 偏移方向信息確定子單元，用于根據(jù)所述第一識別信息以及第二識別信息，確定所述 第一發(fā)射單元在書寫平面上的投影指向所述書寫端的方向，得到偏移方向信息。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述第二電子設(shè)備上設(shè)置有重力傳 感器，所述書寫平面為水平面，所述第一識別信息獲取子單元，包括： 重力方向第一識別信息獲取子單元，用于通過所述重力傳感器獲取重力方向上距離所 述水平面最近的第二發(fā)射單元的第一識別信息。
11. 一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備為第二電子設(shè)備，所述第二電子設(shè)備與 第一電子設(shè)備數(shù)據(jù)連接，所述第一設(shè)備包括至少兩個第一采集單元，所述第二電子設(shè)備包 括和所述第一采集單元匹配的第一發(fā)射單元，所述第一發(fā)射單元位于所述第二電子設(shè)備的 第一區(qū)域，所述第一區(qū)域與第二電子設(shè)備的書寫端不同，所述第二電子設(shè)備的外周設(shè)置有 多個第二發(fā)射單元，不同的第二發(fā)射單元具有不同的識別信息，所述第一電子設(shè)備設(shè)置有 與所述第二發(fā)射單元相匹配的第二采集單元。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述第二電子設(shè)備上設(shè)置有重力 傳感器，所述第二電子設(shè)備包括： 第一識別信息獲取單元，用于通過所述重力傳感器獲取重力方向上距離所述水平面最 近的第二發(fā)射單元的第一識別信息； 第一識別信息發(fā)送單元，用于向所述第一電子設(shè)備發(fā)送所述第一識別信息。
【文檔編號】G06F3/043GK104063095SQ201310085609
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2013年3月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月18日
【發(fā)明者】謝兵, 黎廣斌 申請人:聯(lián)想(北京)有限公司