專利名稱:觸控裝置結構的制作方法
技術領域:
觸控裝置結構技術領域[0001]本實用新型涉及觸控技術領域,特別是有關于一種觸控裝置結構。
背景技術:
[0002]隨著資訊科技的發(fā)展,觸控裝置成為人機之間資訊傳遞的方式之一。觸控裝置分 為可視區(qū)及邊框區(qū),在可視區(qū)中制作電極,在邊框區(qū)分布電極引線,電極引線通過軟性電路 板將電極的訊號傳遞到訊號處理器中,完成觸控感應的功能。通常電極是由復數(shù)X方向電 極及復數(shù)Y方向電極交錯排列所構成,X方向電極及Y方向電極形成于不同的層位,且X方 向電極與Y方向電極通過絕緣層相互絕緣。[0003]這種具有多層電極的觸控裝置的制作方法,通常是通過濺鍍及光刻制程在基底上 依序制作出X方向電極、覆蓋X方向的絕緣層以及Y方向電極。然而,上述觸控裝置的制作 方法中,形成次一層結構時會對前一步驟已形成之層結構產(chǎn)生影響。例如,上述制作方法中 經(jīng)過多次真空濺鍍、曝光、顯影與蝕刻制程后,電極可能會出現(xiàn)裂紋或脫離基底等問題。[0004]另外,上述制作方法需要真空鍍膜及光刻制程的多道程序,所需設備昂貴,制作成 本較高,且化學藥劑污染性大。[0005]因此,有必要尋求一種新的觸控裝置結構之制造方法,其能夠解決或改善上述的 問題。實用新型內(nèi)容[0006]本實用新型提供一種觸控裝置結構,通過轉(zhuǎn)印制程制作絕緣層及感測電極,以降 低或排除形成次一層結構時對前一步驟已形成之層結構產(chǎn)生的不良影響,進而提升良率。[0007]本實用新型提供一種觸控裝置結構,包括一基底,基底區(qū)分有一可視區(qū);復數(shù)第一 感測電極,相互間隔地設置于可視區(qū)的基底上;一絕緣層,設置于第一感測電極上;一轉(zhuǎn)印 基膜;以及復數(shù)第二感測電極,相互間隔地設置于轉(zhuǎn)印基膜上,其中第二感測電極通過轉(zhuǎn)印 制程形成于絕緣層上,且其中第一感測電極與第二感測電極交錯排列,且通過絕緣層相互 絕緣。[0008]本實用新型提供另一種觸控裝置結構,包括一基底,基底區(qū)分有一可視區(qū);復數(shù)第 一感測電極,相互間隔地設置于可視區(qū)的基底上;一轉(zhuǎn)印基膜;復數(shù)第二感測電極,相互間 隔地設置于轉(zhuǎn)印基膜上;以及一絕緣層,設置于第二感測電極上,其中第二感測電極及絕緣 層通過轉(zhuǎn)印制程形成于第一感測電極上,且其中第一感測電極與第二感測電極交錯排列, 且通過絕緣層相互絕緣。[0009]本實用新型提供另一種觸控裝置結構,包括一基底,基底區(qū)分有一可視區(qū),且具有 第一表面及與第一表面相對的第二表面;復數(shù)第一感測電極,相互間隔地設置于基底的第 一表面上;第二轉(zhuǎn)印基膜;以及復數(shù)第二感測電極,相互間隔地設置于第二轉(zhuǎn)印基膜上,其 中第二感測電極通過轉(zhuǎn)印制程設置于基底的第二表面上,且其中第一感測電極與第二感測 電極交錯排列,且通過基底相互絕緣。[0010]進一步的,更包括一第一轉(zhuǎn)印基膜,該等第一感測電極設置于該第一轉(zhuǎn)印基膜上, 且該等第一感測電極通過額外的轉(zhuǎn)印制程設置于該基底的該第一表面上。[0011]進一步的,該基底更區(qū)分有圍繞該可視區(qū)的一邊框區(qū),且該觸控裝置結構更包括 復數(shù)引線,該等引線設置于該邊框區(qū)的該基底上,以分別電性連接于該等第一感測電極及 該等第二感測電極。[0012]進一步的,該基底更區(qū)分有圍繞該可視區(qū)的一邊框區(qū),且該觸控裝置結構更包括 復數(shù)引線,該等引線設置于該轉(zhuǎn)印基膜上,且對應于該邊框區(qū),以分別電性連接于該等第一 感測電極及該等第二感測電極。[0013]進一步的,該等第二感測電極的材質(zhì)包括納米銀溶膠、銦錫氧化物溶膠、銦鋅氧化 物溶膠、銦錫氟氧化物溶膠、鋁鋅氧化物溶膠、氟鋅氧化物溶膠、納米碳管溶膠或?qū)щ姼叻?子溶膠。[0014]根據(jù)本實用新型實施例,由于通過轉(zhuǎn)印制程制作觸控裝置的絕緣層及感測電極, 可將多層結構分成兩部分形成,因此與通過濺鍍及光刻制程的傳統(tǒng)制造方法相比,可以降 低形成次一層結構時對前一步驟已形成之層結構產(chǎn)生的不良影響,進而提升良率。再者,以 轉(zhuǎn)印制程取代濺鍍及光刻制程,可簡化制程,進而提高生產(chǎn)效率。另外由于無需昂貴的制程 (例如,濺鍍及光刻制程)設備,因此可提高價格競爭優(yōu)勢以及降低化學藥劑的污染。
[0015]圖1A至IE為本實用新型一實施例之觸控裝置結構制造方法剖面示意圖;[0016]圖2A至2E為本實用新型另一實施例之觸控裝置結構制造方法剖面示意圖;[0017]圖3A至3C為本實用新型另一實施例之觸控裝置結構結構制造方法剖面示意圖;[0018]圖1D、2D、3B_2及3B_2為本實用新型不同實施例之觸控裝置結構剖面示意圖;以 及[0019]圖4為圖1D所示觸控裝置結構的爆炸圖。
具體實施方式
[0020]以下說明本實用新型實施例之觸控裝置結構及其制造方法。然而,可輕易了解本 實用新型所提供的實施例僅用于說明以特定方法制作及使用本實用新型,并非用以局限本 實用新型的范圍。再者,在本實用新型實施例之圖式及說明內(nèi)容中使用相同的標號來表示 相同或相似的部件。[0021]請參照圖1D及圖4,為根據(jù)本實用新型一實施例之觸控裝置結構剖面示意圖及 爆炸圖。在本實施例中,觸控裝置結構包括一基底100、一絕緣層220、復數(shù)第一感測電極 230、復數(shù)第二感測電極240及一轉(zhuǎn)印基膜200。[0022]基底100區(qū)分有一可視區(qū)110。第一感測電極230相互間隔地設置于可視區(qū)110 的基底100上,且沿第一軸向(例如X方向)排列。絕緣層220設置于第一感測電極230 上。第二感測電極240相互間隔地設置于轉(zhuǎn)印基膜200上,且沿第二軸向(例如Y方向) 排列。第二感測電極240通過轉(zhuǎn)印制程形成于絕緣層220上,并與第一感測電極230交錯 排列。其中第一軸向與第二軸向相互交叉,例如第一軸向與第二軸向相互垂直,但不以此為 限。絕緣層220位于第一感測電極230與第二感測電極240之間,以使第一感測電極230與第二感測電極240通過絕緣層220相互絕緣。[0023]本實施例中,第二感測電極240通過轉(zhuǎn)印形成于絕緣層220上。舉例而言,先通過印刷制程,例如凹版印刷制程,在轉(zhuǎn)印基膜200上形成第二感測電極240,接著,將具有第二感測電極240的轉(zhuǎn)印基膜200貼附于基底100上,使絕緣層220位于第一感測電極230與第二感測電極240之間。第一感測電極230也可通過相似的轉(zhuǎn)印制程形成于基底100上。 在其他實施例中,第一感測電極230也可以通過印刷直接形成于基底100上。相較于傳統(tǒng)的濺鍍及光刻制程,由于進行轉(zhuǎn)印制程時不需要高溫處理,因此第一感測電極230及第二感測電極240的材料不受限于耐高溫的導電材料。第一感測電極230及第二感測電極240 的材料可為光學透明導電油墨,透明導電油墨包括納米銀溶膠、銦錫氧化物(Indium Tin Oxide, ITO)溶膠、銦鋅氧化物(Indium Zinc Oxide, IZO)溶膠、銦錫氟氧化物(Indium Tin Fluorine Oxide, ITF0)溶膠、招鋒氧化物(Aluminum Zinc Oxide, ΑΖ0)溶膠、氟鋒氧化物 (Fluorine Zinc Oxide, FZ0)溶膠、納米碳管溶膠或?qū)щ姼叻肿尤苣z(例如,聚乙烯二氧噻吩(poly (3,4-ethylenedioxythiophene), PEDOT)),其中透明導電油墨的導電率高于I/ Qcm。在其他實施例中,可通過濺鍍、微影及蝕刻制程取代上述轉(zhuǎn)印制程,以形成第一感測電極230。在此情形中,第一感測電極230可由含IT0、IZ0、ITF0、AZ0或FZO的耐高溫材料所構成。[0024]在本實施例中,基底100更包括圍繞可視區(qū)110的邊框區(qū)130。再者,觸控裝置結構更包括復數(shù)引線300,設置于邊框區(qū)130的基底100上,以分別電性連接于第一感測電極 230及第二感測電極240。在另一實施例中,復數(shù)引線300設置于轉(zhuǎn)印基膜210上,且引線 300通過轉(zhuǎn)印設置于邊框區(qū)130的基底100上,以電性連接于第一感測電極230及第二感測電極240。請參照圖2D,為根據(jù)本實用新型另一實施例之觸控裝置結構剖面示意圖,其中相同于圖1D之部件使用相同之標號并省略其說明。在本實施例中,觸控裝置結構包括一基底100、一絕緣層220、復數(shù)第一感測電極230、復數(shù)第二感測電極240及一轉(zhuǎn)印基膜200?;?00區(qū)分有一可視區(qū)110。第一感測電極230相互間隔地設置于可視區(qū)110的基底100 上,且沿第一軸向(例如X方向)排列。第二感測電極240相互間隔地設置于轉(zhuǎn)印基膜200 上,沿第二軸向(例如Y方向)排列。絕緣層220設置于第二感測電極240上。第二感測電極240及絕緣層220通過轉(zhuǎn)印設置于第一感測電極230上,其中第一感測電極230與第二感測電極240交錯排列,絕緣層220位于第一感測電極230與第二感測電極240之間,以使第一感測電極230與第二感測電極240通過絕緣層220相互絕緣。[0026]本實施例中,第二感測電極240及絕緣層220通過轉(zhuǎn)印設置于第一感測電極230 上。舉例而言,首先通過第一印刷制程,例如第一凹版印刷制程,形成第二感測電極240于轉(zhuǎn)印基膜200上。接著,通過第二印刷制程,例如第二凹版印刷制程,形成絕緣層220于第二感測電極240上。然后,將具有第二感測電極240及絕緣層220的轉(zhuǎn)印基膜200貼附于基底100上,使絕緣層220位于第一感測電極230與第二感測電極240之間。第一感測電極230也可通過相似的轉(zhuǎn)印制程形成于基底100上。在其他實施例中,第一感測電極230也可以通過印刷直接形成于基底100上。第一感測電極230及第二感測電極240的材料與前述圖1D實施例相同,故不再贅述。當絕緣層220采用凹版印刷制程制作時,絕緣層220由絕緣油墨材料(例如光學透明油墨)所構成,且其導電率低于10-10/Qcm。[0027]在本實施例中,基底100更包括圍繞可視區(qū)110的邊框區(qū)130。再者,觸控裝置結 構更包括復數(shù)引線300設置于邊框區(qū)130的基底100上,以電性連接于第一感測電極230 及第二感測電極240。在另一實施例中,復數(shù)引線300設置于轉(zhuǎn)印基膜210上,且引線300 通過轉(zhuǎn)印設置于邊框區(qū)130的基底100上,以電性連接于第一感測電極230及第二感測電 極 240。[0028]請參照圖3B-1,為根據(jù)本實用新型另一實施例之觸控裝置結構剖面示意圖,其中 相同于圖1D之部件使用相同之標號并省略其說明。在本實施例中,觸控裝置結構包括一 基底100、復數(shù)第一感測電極230、復數(shù)第二感測電極240及一第二轉(zhuǎn)印基膜200B。在本實 施例中,基底100具有一可視區(qū)110,且具有第一表面100A及與第一表面100A相對的第二 表面100B。第一感測電極230相互間隔地設置于基底100的第一表面100A上。第二感測 電極240相互間隔地設置于第二轉(zhuǎn)印基膜200B上,且通過轉(zhuǎn)印設置于基底100的第二表面 100B上。第一感測電極230及第二感測電極240交錯排列設置于可視區(qū)110的基底100 上。基底100位于第一感測電極230與第二感測電極240之間,以使第一感測電極230與 第二感測電極240通過基底100相互絕緣。[0029]本實施例中,第二感測電極240通過轉(zhuǎn)印設置于基底100的第二表面100B上。舉 例而言,首先通過印刷制程,例如凹版印刷制程,形成第二感測電極240于第二轉(zhuǎn)印基膜 200B上。接著,將具有第二感測電極240的第二轉(zhuǎn)印基膜200B貼附于基底100的第二表面 100B上。第二感測電極240的材料與前述圖1D所示實施例的相同,故不再贅述。[0030]另外,觸控裝置結構更包括復數(shù)引線300設置于邊框區(qū)130的基底100上,用以電 性連接于第一感測電極230及第二感測電極240。在另一實施例中,復數(shù)引線300設置于轉(zhuǎn) 印基膜210上,且引線300通過轉(zhuǎn)印設置于邊框區(qū)130的基底100與轉(zhuǎn)印基膜200之間,以 電性連接于第一感測電極230及第二感測電極240。[0031]請參照圖3B-2,在另一實施例中,觸控裝置結構包括第一轉(zhuǎn)印基膜200A及第二轉(zhuǎn) 印基膜200B,其中第一感測電極230形成于第一轉(zhuǎn)印基膜200A上,且通過轉(zhuǎn)印設置于基底 100的第一表面100A上。第二感測電極240形成于第二轉(zhuǎn)印基膜200B上,且通過轉(zhuǎn)印設置 于基底100的第二表面100B上。第一感測電極230及第二感測電極240的材料為光學透 明導電油墨。透明導電油墨包括納米銀溶膠、ITO溶膠、IZO溶膠、ITFO溶膠、AZO溶膠、FZO 溶膠、納米碳管溶膠或?qū)щ姼叻肿尤苣z,其中透明導電油墨的導電率高于1/Qcm。[0032]圖1A至圖1E為對應前述圖1D實施例之觸控裝置結構的制造方法剖面示意圖。請 參照圖1A,提供一基底100,基底區(qū)分有一可視區(qū)110及圍繞可視區(qū)110的一邊框區(qū)130。 形成復數(shù)第一感測電極230于可視區(qū)110的基底100上,第一感測電極230相互間隔,且沿 第一軸向(例如X方向)排列。其中第一感測電極230可通過轉(zhuǎn)印制程形成于基底100上。 舉例而言,先通過印刷制程,在一轉(zhuǎn)印基膜(未繪示)上形成第一感測電極230。接著,將具 有第一感測電極230的轉(zhuǎn)印基膜貼附于基底100上。最后,再將轉(zhuǎn)印基膜剝離。另外,第一 感測電極230也可以通過印刷制程直接形成于基底100上。再者,也可通過濺鍍、微影及蝕 刻制程取代上述轉(zhuǎn)印制程,以形成第一感測電極230。[0033]接著,請參照圖1B,形成一絕緣層220于第一感測電極230上。其中絕緣層220 也可以通過轉(zhuǎn)印形成于第一感測電極230上。舉例而言,先通過印刷制程,例如凹版印刷制 程,在轉(zhuǎn)印基膜(未繪示)上形成絕緣層220。接著,將具有絕緣層220的轉(zhuǎn)印基膜貼附于第一感測電極230上。絕緣層220由絕緣油墨材料所構成,例如光學透明油墨,其導電率低于10-10/Qcm。在另一實施例中,絕緣層220可通過印刷或沉積制程形成。[0034]請參照圖1C-1D,其繪示出轉(zhuǎn)印復數(shù)第二感測電極240于絕緣層220上。第二感測電極240相互間隔排列,第一感測電極230與第二感測電極240交錯排列,且通過絕緣層 220相互絕緣。首先,請參照圖1C,通過印刷制程形成復數(shù)第二感測電極240及復數(shù)引線 300于轉(zhuǎn)印基膜200上。第二感測電極240與引線300電性連接,印刷制程較佳為凹版印刷。第二感測電極240與引線300可以在同一印刷制程中同時形成,也可以在不同的印刷制程中分別形成。[0035]接著,請參照圖1D,將具有第二感測電極240及引線300的轉(zhuǎn)印基膜200貼附于基底100上。其中第二感測電極240對應于可視區(qū)110且與第一感測電極230交錯排列,且其中絕緣層220位于第一感測電極230及第二感測電極240之間,以使第一感測電極230 與第二感測電極240相互絕緣,而引線300對應于邊框區(qū)130,且分別電性連接第一感測電極230及第二感測電極240。再者,在將具有第二感測電極240及引線300的轉(zhuǎn)印基膜200 貼附于基底100上的步驟之后,根據(jù)轉(zhuǎn)印基膜200的材料不同,可進行加熱或紫外線處理, 以固化第二感測電極240及引線300。[0036]再接著,請參照圖1E,為了制作觸控裝置結構中后續(xù)的其它功能層(例如,保護層、抗反射層等),或助于與其他電子部件(例如,顯示模組等)的貼合,可將轉(zhuǎn)印基膜200 從基底100上剝離。當觸控裝置結構與其他電子部件貼合時,基底100上相對于形成第一感測電極230的表面用以提供使用者直接進行觸控。[0037]圖2A至2D為對應圖2D實施例之觸控裝置結構的制造方法剖面示意圖。其中相同于圖1A至圖1E的部件使用相同的標號并省略其說明。請參照圖2A,提供一基底100,基底區(qū)分有一可視區(qū)110及圍繞可視區(qū)110的一邊框區(qū)130。形成復數(shù)第一感測電極230于可視區(qū)110的基底100上,第一感測電極230相互間隔,且沿第一軸向(例如X方向)排列。 其中第一感測電極230的形成方法與前述第IA所述實施例相同,故不再贅述。請參照圖2B至圖2D,為轉(zhuǎn)印一絕緣層220及復數(shù)第二感測電極240于第一感測電極230上。其中,第二感測電極240相互間隔排列。第一感測電極230與第二感測電極240 交錯排列,且通過絕緣層220相互絕緣。首先,請參照圖2B,通過印刷制程形成復數(shù)第二感測電極240及復數(shù)引線300于轉(zhuǎn)印基膜200上。第二感測電極240電性連接于引線300,印刷制程較佳為凹版印刷制程。第二感測電極240與引線300可以在同一印刷制程中同時形成,也可以在不同的印刷制程中分別形成。[0039]接著,請參照圖2C,形成絕緣層220于第二感測電極240上。舉例而言,先通過印刷制程,例如凹版印刷制程,在第二感測電極240上形成絕緣層220。絕緣層220可由絕緣油墨材料所構成,例如光學透明油墨,其導電率低于10-10/ Ωαιι。[0040]再接著,請參照圖2D,將具有絕緣層220、第二感測電極240及引線300的轉(zhuǎn)印基膜200貼附于基底100上。其中第二感測電極240對應于可視區(qū)110且與第一感測電極 230交錯排列,且其中絕緣層220位于第一感測電極230及第二感測電極240之間,以使第一感測電極230與第二感測電極240相互絕緣,而引線300對應于邊框區(qū)130,且分別電性連接第一感測電極230及第二感測電極240。再者,在將具有絕緣層220、第二感測電極240 及引線300的轉(zhuǎn)印基膜200貼附于基底100上的步驟之后,根據(jù)轉(zhuǎn)印基膜200的材料不同,可進行加熱或紫外線處理,以固化絕緣層220、第二感測電極240及引線300。[0041]再接著,請參照圖2A,為了制作觸控裝置結構中后續(xù)的其它功能層(例如,保護 層、抗反射層等),或助于與其他電子部件(例如,顯示模組等)的貼合,可將轉(zhuǎn)印基膜200 從基底100上剝離。當觸控裝置結構與其他電子部件貼合時,基底100上相對于形成第一 感測電極230的表面用以提供使用者直接進行觸控。[0042]圖3A至圖3C分別為圖3B-1及圖3B_2實施例之觸控裝置結構的制造方法剖面示 意圖,其中相同于圖1A至圖1E的部件使用相同的標號并省略其說明。請參照圖3A,提供一 基底100,基底100區(qū)分有可視區(qū)110及圍繞可視區(qū)110的一邊框區(qū)130。再者,基底100 具有第一表面100A及與第一表面100A相對的第二表面100B。[0043]接著,請參照圖3B-1,形成復數(shù)第一感測電極230于基底100的第一表面100A上, 且第一感測電極230位于可視區(qū)110并相互間隔地設置。在本實施例中,第一感測電極230 可通過印刷直接形成于基底100上,也可以通過濺鍍、微影及蝕刻制程形成于基底100上。[0044]接著,提供一第二轉(zhuǎn)印基膜200B用以轉(zhuǎn)印第二感測電極240于基底100的第二表 面100B上。舉例而言,先通過印刷制程形成復數(shù)第二感測電極240及復數(shù)引線300于第二 轉(zhuǎn)印基膜200B上,印刷制程較佳為凹版印刷。且第二感測電極240與引線300可以在同一 印刷制程中同時形成,也可以在不同的印刷制程中分別形成。接著,將具有第二感測電極 240及引線300的第二轉(zhuǎn)印基膜200B貼附于基底100的第二表面100B上。其中第二感測 電極240對應于可視區(qū)110,且第二感測電極240與第一感測電極230交錯排列,基底100 位于第一感測電極230及第二感測電極240之間,以使第一感測電極230與第二感測電極 240相互絕緣。而引線300對應于邊框區(qū)130,且分別電性連接第一感測電極230及第二感 測電極240。再者,在將具有第二感測電極240及引線300的第二轉(zhuǎn)印基膜200B貼附于基 底100上的步驟之后,根據(jù)第二轉(zhuǎn)印基膜200B的材料不同,可進行加熱或紫外線處理,以固 化第二感測電極240及引線300。[0045]請參照圖3B-2,在另一實施例中,提供一第一轉(zhuǎn)印基膜200A,通過印刷制程形成 復數(shù)第一感測電極230及與第一感測電極230電性連接的復數(shù)引線(未繪示)于第一轉(zhuǎn)印 基膜200A上,印刷制程較佳為凹版印刷。接著,將具有第一感測電極230及與其連接的引 線的第一轉(zhuǎn)印基膜200A貼附于基底100的第一表面100A上。其中第一感測電極230對應 于可視區(qū)110且引線對應于邊框區(qū)130。之后,提供一第二轉(zhuǎn)印基膜200B,通過印刷制程形 成復數(shù)第二感測電極240及復數(shù)引線300于第二轉(zhuǎn)印基膜200B上,引線300電性連接于第 二感測電極240,印刷制程較佳為凹版印刷。接著,將具有第二感測電極240及引線300的 第二轉(zhuǎn)印基膜200B貼附于基底100的第二表面100B上。其中第二感測電極240對應于 可視區(qū)110且引線300對應于邊框區(qū)130。第一感測電極230與第二感測電極240交錯排 列,基底100位于第一感測電極230及第二感測電極240之間,以使第一感測電極230與第 二感測電極240相互絕緣。再者,在將具有第二感測電極240及引線300的第二轉(zhuǎn)印基膜 200B貼附于基底100上的步驟之后,根據(jù)第一、第二轉(zhuǎn)印基膜200A、200B的材料不同,可進 行加熱或紫外線處理,以固化第一感測電極230、與第一感測電極230連接的引線、第二感 測電極240及引線300。[0046]再接著,請參照圖3C,上述圖3B-1及圖3B_2實施例中,在將第一轉(zhuǎn)印基膜200A及 第二轉(zhuǎn)印基膜200B貼附于基底100上的步驟之后,為了制作觸控裝置結構中后續(xù)的其它功能層(例如,保護層、抗反射層等),或助于與其他電子部件(例如,顯示模組等)的貼合,可 將第一轉(zhuǎn)印基膜200A及第二轉(zhuǎn)印基膜200B從基底100上剝離。[0047]在前述各實施例中,基底100可由玻璃、塑膠薄膜或其他習用的透明基底材料所 構成。絕緣層220可由絕緣油墨材料(例如光學透明油墨)所構成,且其導電率低于10-10/ Qcm。引線300可由導電油墨(例如銀膠、銅膠或碳膠)所構成,其導電率高于1/Qcm。轉(zhuǎn) 印基膜200、第一轉(zhuǎn)印基膜200A及第二轉(zhuǎn)印基膜200B可由具有可撓性的塑膠薄膜(例如聚 酯薄膜(polyethylene terephthalate,PET)、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚乙烯 醇或聚酰亞胺)所構成。再者,轉(zhuǎn)印基膜200的厚度可為20微米至200微米的范圍。[0048]根據(jù)本實用新型實施例,由于通過轉(zhuǎn)印基膜進行轉(zhuǎn)印制程以制作觸控裝置的絕緣 層及感測電極,可將多層結構分成兩部分形成,因此與通過濺鍍及光刻制程的傳統(tǒng)制造方 法相比,可以降低形成次一層結構時對前一步驟已形成之層結構產(chǎn)生的不良影響,進而提 升良率,同時提高了觸控裝置中感測電極的材料選擇性,而不受限于耐高溫材料。再者,以 轉(zhuǎn)印制程取代濺鍍及光刻制程,可簡化制程,進而提高生產(chǎn)效率。另外由于無需昂貴的制程 (例如,濺鍍及光刻制程)設備,因此可提高價格競爭優(yōu)勢以及降低化學藥劑的污染。[0049]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已,并不用以限制本實用新型,凡在本 實用新型的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本實用新型 保護的范圍之內(nèi)。
權利要求1.一種觸控裝置結構,其特征在于,包括基底,該基底區(qū)分有一可視區(qū);復數(shù)第一感測電極,相互間隔地設置于該可視區(qū)的該基底上;絕緣層,設置于該等第一感測電極上;轉(zhuǎn)印基膜;以及復數(shù)第二感測電極,相互間隔地設置于該轉(zhuǎn)印基膜上,其中該等第二感測電極通過一轉(zhuǎn)印制程形成于該絕緣層上,且其中該等第一感測電極與該等第二感測電極交錯排列,且通過該絕緣層相互絕緣。
2.一種觸控裝置結構,其特征在于,包括基底,該基底區(qū)分有一可視區(qū);復數(shù)第一感測電極,相互間隔地設置于該可視區(qū)的該基底上;轉(zhuǎn)印基膜;復數(shù)第二感測電極,相互間隔地設置于該轉(zhuǎn)印基膜上;以及絕緣層,設置于該等第二感測電極上,其中該等第二感測電極及該絕緣層通過一轉(zhuǎn)印制程形成于該等第一感測電極上,且其中該等第一感測電極與該等第二感測電極交錯排列,且通過該絕緣層相互絕緣。
3.—種觸控裝置結構,其特征在于,包括基底,該基底區(qū)分有一可視區(qū),且具有一第一表面及與該第一表面相對的一第二表面;復數(shù)第一感測電極,相互間隔地設置于該基底的該第一表面上;第二轉(zhuǎn)印基膜;以及復數(shù)第二感測電極,相互間隔地設置于該第二轉(zhuǎn)印基膜上,其中該等第二感測電極通過一轉(zhuǎn)印制程設置于該基底的該第二表面上,且其中該等第一感測電極與該等第二感測電極交錯排列,且通過該基底相互絕緣。
4.根據(jù)權利要求3所述的觸控裝置結構,其特征在于,更包括一第一轉(zhuǎn)印基膜,該等第一感測電極設置于該第一轉(zhuǎn)印基膜上,且該等第一感測電極通過額外的轉(zhuǎn)印制程設置于該基底的該第一表面上。
5.根據(jù)權利要求1至3項中任意一項所述的觸控裝置結構,其特征在于,該基底更區(qū)分有圍繞該可視區(qū)的一邊框區(qū),且該觸控裝置結構更包括復數(shù)引線,該等引線設置于該邊框區(qū)的該基底上,以分別電性連接于該等第一感測電極及該等第二感測電極。
6.根據(jù)權利要求1至3項中任意一項所述的觸控裝置結構,其特征在于,該基底更區(qū)分有圍繞該可視區(qū)的一邊框區(qū),且該觸控裝置結構更包括復數(shù)引線,該等引線設置于該轉(zhuǎn)印基膜上,且對應于該邊框區(qū),以分別電性連接于該等第一感測電極及該等第二感測電極。
7.根據(jù)權利要求1至3項中任意一項所述的觸控裝置結構,其特征在于,該等第二感測電極的材質(zhì)包括納米銀溶膠、銦錫氧化物溶膠、銦鋅氧化物溶膠、銦錫氟氧化物溶膠、鋁鋅氧化物溶膠、氟鋅氧化物溶膠、納米碳管溶膠或?qū)щ姼叻肿尤苣z。
專利摘要本實用新型提供一種觸控裝置結構,包括一基底,基底區(qū)分有一可視區(qū);復數(shù)第一感測電極,相互間隔地設置于可視區(qū)的基底上;一絕緣層,設置于第一感測電極上;一轉(zhuǎn)印基膜;以及復數(shù)第二感測電極,相互間隔地設置于轉(zhuǎn)印基膜上,其中第二感測電極通過轉(zhuǎn)印制程形成于絕緣層上,且其中第一感測電極與第二感測電極交錯排列,且通過絕緣層相互絕緣。本實用新型提供的觸控裝置結構,通過轉(zhuǎn)印制程制作絕緣層及感測電極,以降低或排除形成次一層結構時對前一步驟已形成之層結構產(chǎn)生的不良影響,進而提升良率。
文檔編號G06F3/041GK202838265SQ20122051565
公開日2013年3月27日 申請日期2012年9月27日 優(yōu)先權日2012年9月27日
發(fā)明者張恒耀, 張振炘, 吳孟學, 伍哲毅, 陳麗嫻 申請人:寶宸(廈門)光學科技有限公司