專利名稱:提高遮障面與背景空間特征相似度的方法
技術領域:
本發(fā)明涉及一種偽裝遮障面生成方法,特別是一種提高遮障面與背景空間特征相似度的方法。
背景技術:
基于圖像特征分析的識別技術是目前最主要的目標識別方法。這種方法根據(jù)目標圖像與背景圖像的統(tǒng)計差異將目標圖像從背景圖像中區(qū)別出來,并進而達到識別目標的目的。分析認為即使目標具有和背景完全一致的顏色統(tǒng)計特性,水平遮障和背景特征距離仍然十分顯著。因此有必要在實施偽裝時考慮背景和目標的空間特征。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種基于廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡和綜合相似度評價的提高遮障面與背景空間特征相似度的方法,旨在提高偽裝遮障面與目標背景的空間特征相似度。本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的,一種提高遮障面與背景空間特征相似度的方法,包括以下步驟:
1)獲取目標的背景樣本點以及所述背景樣本點的坐標及對應的高程數(shù)據(jù);
2)以所述背景樣本點的坐標作為廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡的輸入矢量,以對應的高程數(shù)據(jù)作為廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡輸出的目標矢量,對所述廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡進行訓練;
3)利用訓練完成的廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡,以偽裝遮障面的特征點的坐標作為輸入矢量,計算出偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù);
4)分析偽裝遮障面的空間特征參數(shù),得出偽裝遮障面與背景的空間特征相似度,并根據(jù)所述空間特征相似度采用強制評分法得出偽裝遮障面與背景的空間特征綜合相似度;
5)當所述空間特征綜合相似度符合要求時,根據(jù)所述偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)生成偽裝遮障面,否則返回步驟2),重復以上步驟。所述空間特征參數(shù)包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及陰影函數(shù)。利用激光測距儀、經(jīng)緯儀或已測得的等高線圖,結合偵察器材的分辨率來獲取所述背景的樣本點以及所述樣本點的坐標及對應的高程數(shù)據(jù)。本發(fā)明利用廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡人工干預少,穩(wěn)定性較高的特點,通過采集的目標的背景樣本點,生成偽裝遮障面特征點的高程數(shù)據(jù);并分析目標的背景與偽裝遮障面的空間特征綜合相似度,根據(jù)所述綜合相似度判別偽裝遮障面與目標的背景的融合效果,在融合效果符合要求時再生成偽裝遮障面,因而生成的偽裝遮障面,與背景融合效果好,適用于各類背景的大面積遮障面生成。
圖1是本發(fā)明實施例提供的提高遮障面與背景空間特征相似度的方法的流程圖; 圖2a—圖2c是計算高度相似度時不同取值下鐘形隸屬度函數(shù)的模型圖。
具體實施例方式為了使本發(fā)明的目的、技術方案及優(yōu)點更加清楚明白,以下結合附圖,對本發(fā)明進行進一步詳細說明。參見圖1,該圖示出了本發(fā)明實施例提供的提高遮障面與背景空間特征相似度的方法的流程。為了便于說明,僅示出了與本發(fā)明實施例有關的部分。一種提高遮障面與背景空間特征相似度的方法,包括以下步驟:
1)獲取目標的背景樣本數(shù)據(jù);
即獲取目標的背景樣本點以及所述背景樣本點的坐標及對應的高程數(shù)據(jù);
本發(fā)明實施例中,可利用激光測距儀、經(jīng)緯儀或已測得的等高線圖,結合偵察器材的分辨率以獲取所述背景樣本點以及所述背景樣本點的坐標及對應的高程數(shù)據(jù);
2)即,以所述背景樣本點的坐標作為廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡的輸入矢量,以對應的高程數(shù)據(jù)作為廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡輸出的目標矢量,對所述廣義神經(jīng)網(wǎng)絡進行訓練;
3)利用訓練完成的廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡,計算偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù);
主要是指利用訓練完成的廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡,以偽裝遮障面的特征點的坐標作為輸入矢量,計算出偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù);
4)分析偽裝遮障面與背景的空間特征參數(shù),得出偽裝遮障面與背景的空間特征相似度,并根據(jù)所述空間特征相似度采用強制評分法得出偽裝遮障面與背景的空間特征綜合相似度;
本發(fā)明實施例中,所述空間特征參數(shù)包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及陰影函數(shù)。5)對所述的空間特征綜合相似度進行評介,當所述空間特征綜合相似度符合要求時,根據(jù)偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)生成偽裝遮障面,否則返回步驟2),重復以上步驟。下面,對步驟4)中,計算獲取偽裝遮障面的空間特征參數(shù),以及空間特征相似度以及空間特征綜合相似度的計算進行詳細說明如下:
偽裝遮障面的空間特征通過以下五個參數(shù)來表述:平均高度,反映的是偽裝遮障面高度的指標,采用以下公式(I)計算;方差,反映的是偽裝遮障面高度變化的指標,采用以下公式(2)計算;粗糙度,反映偽裝遮障面起伏變化的指標,采用以下公式(3)計算;起伏度,反映偽裝遮障面最大高程與最小高程的差,采用以下公式(4)計算;陰影函數(shù),反映偽裝遮障面受照射面積與考察的總面積之比,采用以下公式(5)計算:
權利要求
1.種提高遮障面與背景空間特征相似度的方法,其特征在于,包括以下步驟: 1)獲取目標的背景樣本點以及所述背景樣本點的坐標及對應的高程數(shù)據(jù); 2)以所述背景樣本點的坐標作為廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡的輸入矢量,以對應的高程數(shù)據(jù)作為廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡輸出的目標矢量,對所述廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡進行訓練; 3)利用訓練完成的廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡,以偽裝遮障面的特征點的坐標作為輸入矢量,計算出偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù); 4)分析偽裝遮障面的空間特征參數(shù),得出偽裝遮障面與背景的空間特征相似度,并根據(jù)所述空間特征相似度采用強制評分法得出偽裝遮障面與背景的空間特征綜合相似度; 5)當所述空間特征綜合相似度符合要求時,根據(jù)所述偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)生成偽裝遮障面,否則返回步驟2),重復以上步驟。
2.據(jù)權利要求1所述的提高遮障面與背景空間特征相似度的方法,其特征在于,所述空間特征參數(shù)包括平均高度、方差、粗糙度、起伏度以及陰影函數(shù)。
3.據(jù)權利要求1或2所述的提高遮障面與背景空間特征相似度的方法,其特征在于,利用激光測距儀、經(jīng)緯儀或已測得的等高線圖,結合偵察器材的分辨率來獲取所述目標的背景樣本點以及所述背景樣本點的坐標及對應的高程數(shù)據(jù)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種提高遮障面與背景空間特征相似度的方法,通過獲取目標的背景樣本數(shù)據(jù)對廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡進行訓練;利用訓練完成的廣義回歸神經(jīng)網(wǎng)絡,以偽裝遮障面特征點坐標作為輸入矢量,計算偽裝遮障面特征點的高程數(shù)據(jù);分析偽裝遮障面的空間特征參數(shù),得出偽裝遮障面與背景的空間特征綜合相似度;當空間特征綜合相似度符合要求時,根據(jù)偽裝遮障面的特征點的高程數(shù)據(jù)生成偽裝遮障面。本發(fā)明通過采集目標的背景樣本點,生成偽裝遮障面特征點的高程數(shù)據(jù);分析評價目標背景與偽裝遮障面的空間特征綜合相似度后生成的偽裝遮障面,與背景融合效果好,適用于各類背景的大面積遮障面生成。
文檔編號G06N3/02GK103093423SQ20121050272
公開日2013年5月8日 申請日期2012年11月30日 優(yōu)先權日2012年11月30日
發(fā)明者蘇榮華, 陳玉華, 王吉遠, 高洪生, 林偉, 余松林, 王吉軍, 黃艷萍, 劉峰 申請人:中國人民解放軍61517部隊