專利名稱:無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及電容觸摸屏技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏及其制造方法。
背景技術(shù):
隨著電子科技的發(fā)展,目前手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、掌上游戲機(jī)、車載DVD、MP3、儀表儀器等的鍵盤或鼠標(biāo)逐漸被觸摸屏替代。觸摸屏的產(chǎn)品在幾年前并不是十分火熱,而隨著人們對(duì)于觸屏產(chǎn)品的接觸越來(lái)越多,近兩年也被更多人所認(rèn)可,發(fā)展速度逐漸加快。觸摸屏迅速的成長(zhǎng),不僅激起了更加激烈的行業(yè)競(jìng)爭(zhēng),也間接推動(dòng)了技術(shù)的發(fā)展,其多點(diǎn)觸控的操作方式更是把觸摸屏產(chǎn)品的影響力提升到了一個(gè)新的高度,也逐漸被人們所關(guān)注起來(lái)。觸摸屏主要由觸摸檢測(cè)部件和觸摸屏控制器組成,觸摸檢測(cè)部件安裝在顯示器屏幕前面,用于檢測(cè)用戶觸摸位置,接收后送觸摸屏控制器;而觸摸屏控制器的主要作用是從觸摸點(diǎn)檢測(cè)裝置上接收觸摸信息,并將它轉(zhuǎn)換成觸點(diǎn)坐標(biāo),再送給CPU,它同時(shí)能接收CPU 發(fā)來(lái)的命令并加以執(zhí)行。按照觸摸屏的工作原理和傳輸信息的介質(zhì),觸摸屏可分為四種,分別為電阻式、電容感應(yīng)式、紅外線式以及表面聲波式,當(dāng)前被廣泛使用的是電阻式觸摸屏,它是利用壓力感應(yīng)進(jìn)行電阻控制的;電阻式觸摸屏是一種多層的復(fù)合薄膜,它的主要部分是一塊與顯示器表面非常配合的電阻薄膜屏。電阻薄膜屏是以一層玻璃或硬塑料平板作為基層,表面涂有一層透明氧化金屬(透明的導(dǎo)電電阻)ITO (氧化銦錫)導(dǎo)電層,上面再蓋有一層外表面硬化處理光滑防擦的塑料層,它的內(nèi)表面也涂有一層ITO涂層,在它們之間有許多細(xì)小的(小于 1/1000英寸)的透明隔離點(diǎn)把兩層導(dǎo)電層隔開絕緣,當(dāng)手指觸摸屏幕時(shí),兩層導(dǎo)電層在觸摸點(diǎn)位置就有了接觸,電阻發(fā)生變化,在X和Y兩個(gè)方向上產(chǎn)生信號(hào),然后送觸摸屏控制器,控制器偵測(cè)到這一接觸并計(jì)算出(X,Y)的位置,再根據(jù)模擬鼠標(biāo)的方式運(yùn)作。電容式觸摸屏的基本原理是利用人體的電流感應(yīng)進(jìn)行工作的,電容式觸摸屏是一塊二層復(fù)合玻璃屏,玻璃屏的內(nèi)表面夾層涂有ITO (氧化銦錫)導(dǎo)電膜(鍍膜導(dǎo)電玻璃),最外層是一薄層矽土玻璃保護(hù)層,ITO涂層作為工作面,四個(gè)角上引出四個(gè)電極,當(dāng)手指觸摸在屏幕上時(shí),由于人體電場(chǎng),用戶和觸摸屏表面形成一個(gè)耦合電容,對(duì)于高頻電流來(lái)說(shuō),電容是直接導(dǎo)體,于是手指從接觸點(diǎn)吸走一個(gè)很小的電流,這個(gè)電流分別從觸摸屏的四角上的電極中流出,并且流經(jīng)這四個(gè)電極的電流與手指到四角的距離成正比,控制器通過(guò)對(duì)這四個(gè)電流比例的精確計(jì)算,得出觸摸點(diǎn)的位置。在電容式觸摸屏中,投射式電容觸摸屏是當(dāng)前應(yīng)用較為廣泛的一種,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,透光率高等特點(diǎn)。投射式電容觸摸屏的觸摸感應(yīng)部件一般為多個(gè)行電極和列電極交錯(cuò)形成感應(yīng)矩陣。通常采用的設(shè)計(jì)方式包括將行電極和列電極分別設(shè)置在同一透明基板的兩面,防止在交錯(cuò)位置出現(xiàn)短路;或者將行電極和列電極設(shè)置在同一透明基板的同側(cè),形成于同一導(dǎo)電膜(通常為ITO導(dǎo)電膜)上,在行電極和列電極交錯(cuò)的位置通過(guò)設(shè)置絕緣層并架導(dǎo)電橋的方式隔開,將行電極和列電極隔開并保證在各自的方向上導(dǎo)通,可以有效的防止其在交錯(cuò)位置短路。通常采用的設(shè)計(jì)方案為行電極或者列電極之一在導(dǎo)電膜上連續(xù)設(shè)置,則另一個(gè)電極在導(dǎo)電膜上以連續(xù)設(shè)置的電極為間隔設(shè)置成若干電極塊,在交錯(cuò)點(diǎn)的位置通過(guò)導(dǎo)電橋?qū)⑾噜彽碾姌O塊電連接,從而形成另一方向上的連續(xù)電極;導(dǎo)電橋與連續(xù)設(shè)置的電極之間由絕緣層分隔,從而有效的阻止行電極和列電極在交錯(cuò)點(diǎn)短路。通常采用的設(shè)計(jì)方案為 (1)層疊結(jié)構(gòu)依次為透明基板、第一方向電極、絕緣層、導(dǎo)電橋;或者(2)層疊結(jié)構(gòu)依次為透明基板、導(dǎo)電橋、絕緣層、第一方向電極。但采用傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)方案的電容式觸摸屏?xí)嬖谕腹饴什桓咭约肮ぷ鞣€(wěn)定性差的缺陷,傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)方案的電容式觸摸屏透光率很難突破80%,且整體受力彎曲變形時(shí),容易在界面出現(xiàn)分離,導(dǎo)致電極斷路觸摸失效,觸摸感應(yīng)部件損壞。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一在于提供一種無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏,通過(guò)對(duì)電容觸摸屏的層疊結(jié)構(gòu)及導(dǎo)通方式進(jìn)行合理的設(shè)計(jì),有效降低生產(chǎn)成本,提高電容式觸摸屏的可靠性,工作穩(wěn)定性。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案
一種無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏,包括透明基板,依次層疊于透明基板的黑色樹脂層、ITO電極、絕緣層;所述的ITO電極為水平方向或垂直方向?qū)姌O,具有規(guī)則圖形結(jié)構(gòu);ITO電極為ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2組成,ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2在同一層面,相互獨(dú)立,相互絕緣,交錯(cuò)設(shè)計(jì);所述透明基板包括視窗區(qū)和非視窗區(qū),黑色樹脂層分布在顯示屏非視窗區(qū)。非搭接一體式觸摸屏在結(jié)構(gòu)上與生產(chǎn)工藝上都有所簡(jiǎn)化,減少了與傳統(tǒng)的搭接式一體式電容屏所需要的過(guò)橋或通孔工藝,降低了生產(chǎn)成本和縮短了工藝生產(chǎn)時(shí)間。非搭接一體式觸摸屏所能實(shí)現(xiàn)的觸摸方式為單點(diǎn)觸摸和手勢(shì)識(shí)別,而搭接式一體式(過(guò)橋方式與通孔方式)所能實(shí)現(xiàn)的方式為多點(diǎn)觸摸(兩點(diǎn)以上)和手勢(shì)識(shí)別。無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏與非搭接一體式觸摸屏在結(jié)構(gòu)上與生產(chǎn)工藝上都有所簡(jiǎn)化,取消了金屬電極,降低了材料成本,減少了上產(chǎn)流程,在觸摸功能上均可實(shí)現(xiàn)單點(diǎn)觸摸和手勢(shì)識(shí)別。無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏由于無(wú)金屬電極,其ITO導(dǎo)通電極面阻的極大值遠(yuǎn)小于非搭接一體式觸摸屏ITO面阻。優(yōu)選的是
所述的透明基板為厚度在厚度0. 5^2. 0毫米之間的化學(xué)強(qiáng)化玻璃基板或樹脂材料基板;所述ITO電極規(guī)則結(jié)構(gòu)為三角形,或條形,或橢圓形。黑色樹脂區(qū)域呈梯形結(jié)構(gòu),中間厚度為0. 3ιιπΓ5ιιπι,其邊緣斜角為6飛0度之間,角度平緩,目的為ITO電極(ΙΤ0導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2)通過(guò)斜坡時(shí)不會(huì)由于厚度差異大導(dǎo)致ITO電極斷裂。所述的黑色樹脂層可有效遮擋非可視區(qū)的圖層,可以遮光,導(dǎo)線等產(chǎn)品下方的可見物。絕緣層保護(hù)保護(hù)ITO電極使之與空氣絕緣。本發(fā)明的目的之二在于提供一種非搭接一體式電容觸摸屏的制造方法,采用如下技術(shù)方案黑色樹脂層的形成將黑色樹脂經(jīng)過(guò)旋轉(zhuǎn)涂布方式或刮式涂布方式均勻涂布在透明基板上,涂布厚度為0. 3ιιπΓ5ιιπι,經(jīng)過(guò)加熱器預(yù)烤,曝光,顯影,使之形成所需的黑色樹脂區(qū)域; 黑色樹脂區(qū)域呈梯形結(jié)構(gòu),中間厚度為0. 3ιιπΓ5ιιπι,其邊緣斜角為6飛0度之間,角度平緩, 目的為ITO電極(ΙΤ0導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2)通過(guò)斜坡時(shí)不會(huì)由于厚度差異大導(dǎo)致 ITO電極斷裂。黑色樹脂區(qū)域?yàn)轱@示屏非視窗區(qū),目的為遮擋下方可見物;所述黑色樹脂是感光性保護(hù)層光阻劑(商品為臺(tái)灣永光化學(xué)所生產(chǎn)EK410),是一種黑色負(fù)性光阻材料,主要成分為亞克力樹脂,環(huán)氧樹脂,負(fù)性感光劑,乙酸丙二醇單甲基醚酯及黑色顏料,具體比例為樹脂類乙酸丙二醇單甲基醚酯黑色顏料及負(fù)性感光劑=15 30 :60^80 廣10。ITO電極層的形成
形成黑色樹脂層的透明基板,經(jīng)過(guò)ITO鍍膜,使在玻璃基板上形成一層透明及厚度均勻的ITO膜層,其厚度為80 2000埃米(面電阻為10 270歐姆);
經(jīng)過(guò)ITO鍍膜的透明基板,在其ITO表面涂布一層厚度均勻的正性光阻材料,光阻涂布厚度為lunT5um ;
經(jīng)過(guò)光阻預(yù)烤,曝光,顯影,蝕刻,脫光阻膜,最終形成厚度為8(Γ2000埃米(面電阻為 10^270歐姆)及規(guī)則ITO圖案或電極;
所述的ITO電極為水平方向或垂直方向?qū)姌O,具有規(guī)則圖形結(jié)構(gòu);ITO電極為ITO 導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2組成,ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2在同一層面,相互獨(dú)立,相互絕緣,交錯(cuò)設(shè)計(jì); 絕緣層的形成
經(jīng)過(guò)ITO電極后的透明基板,在其金屬膜面涂布一層厚度均勻的負(fù)性光阻材料,光阻涂布厚度為0. 5unT3um ;
經(jīng)過(guò)光阻預(yù)烤,曝光,顯影,最終形成厚度為0. 5 3um和規(guī)則的絕緣層圖案。所述的ITO由Ιπ203和Sn02組成,其質(zhì)量比為85 95 :5 15。ITO鍍膜的方式可以采用真空磁控濺鍍,化學(xué)氣相沉積法,熱蒸鍍,溶膠凝膠。所述的正性光阻材料主成分為乙酸丙二醇單甲基醚酯,環(huán)氧樹脂及正性感光劑 (商品名為臺(tái)灣新應(yīng)材公司生產(chǎn)的TR400);負(fù)性光阻材料主成分為乙酸丙二醇單甲基醚酯, 亞克力樹脂,環(huán)氧樹脂及負(fù)性感光劑(商品名為臺(tái)灣達(dá)興公司生產(chǎn)POC A46)涂布光阻材料方式有滾涂,旋涂,刮涂等方式。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下優(yōu)點(diǎn)和有益效果
本發(fā)明通過(guò)對(duì)層疊結(jié)構(gòu)進(jìn)行合理的設(shè)置,在一層透明基板上完成觸摸功能信號(hào)電極和黑色樹脂覆蓋層,大幅提升了產(chǎn)品的良率,降低成本,提升產(chǎn)品可靠性。本發(fā)明中基板厚度 0. 5mnT2. Omm之間,具有厚度薄,質(zhì)量輕等優(yōu)勢(shì);通過(guò)對(duì)各層的合理設(shè)計(jì),使得產(chǎn)品可靠性穩(wěn)定,產(chǎn)品良率高。本發(fā)明中無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏與非搭接一體式觸摸屏在結(jié)構(gòu)上與生產(chǎn)工藝上都有所簡(jiǎn)化,取消了金屬電極,降低了材料成本,減少了上產(chǎn)流程,在觸摸功能上均可實(shí)現(xiàn)單點(diǎn)觸摸和手勢(shì)識(shí)別。
圖1為本發(fā)明所述的電容觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本發(fā)明實(shí)施例所述的玻璃基板結(jié)構(gòu)示意圖; 圖3為局部放大結(jié)構(gòu)示意圖; 圖4為剖面結(jié)構(gòu)示意圖5為本發(fā)明所述的無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。如圖1及圖2所示,所述的無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏電容觸摸屏, 包括厚度在0. 5mnT2. Omm之間的化學(xué)強(qiáng)化玻璃基板或樹脂材料基板11,依次層疊于透明基板的黑色樹脂層12、ΙΤ0電極13、絕緣層14 ;所述的ITO電極為水平方向或垂直方向?qū)姌O,具有規(guī)則圖形結(jié)構(gòu);ITO電極為ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2組成,ITO導(dǎo)通電極1 與ITO導(dǎo)通電極2在同一層面,相互獨(dú)立,相互絕緣,交錯(cuò)設(shè)計(jì)。透明基板包括視窗區(qū)和非視窗區(qū),黑色樹脂層分布在顯示屏非視窗區(qū)。黑色樹脂層可有效遮擋非可視區(qū)的圖層,可以遮光,金屬線等產(chǎn)品下方的可見物。圖3至圖5所示為本實(shí)施例所述電容觸摸屏的局部結(jié)構(gòu)放大示意圖或者剖面結(jié)構(gòu)示意圖ΙΤ0電極13包括ITO導(dǎo)通電極1 42和ITO導(dǎo)通電極2 43 ;絕緣層45保護(hù)保護(hù) ITO導(dǎo)通電極1 42和ITO導(dǎo)通電極2 43的邊緣走線,使之與空氣絕緣。其制備工藝如下
黑色樹脂層的形成將黑色樹脂經(jīng)過(guò)旋轉(zhuǎn)涂布方式或刮式涂布方式均勻涂布在透明基板上,涂布厚度為0. 3ιιπΓ5ιιπι,經(jīng)過(guò)加熱器預(yù)烤,曝光,顯影,使之形成所需的黑色樹脂區(qū)域;
將黑色樹脂經(jīng)過(guò)旋轉(zhuǎn)涂布方式或刮式涂布方式均勻涂布在透明玻璃基板41 (11)上, 涂布厚度為0. 3ιιπΓ5ιιπι,經(jīng)過(guò)加熱器預(yù)烤,曝光,顯影,使之形成所需的黑色樹脂區(qū)域;黑色樹脂區(qū)域呈梯形結(jié)構(gòu),中間厚度為0. 3ιιπΓ5ιιπι,其邊緣斜角為6飛0度之間,角度平緩,目的為ITO電極(ΙΤ0導(dǎo)通電極1和ITO導(dǎo)通電極2)通過(guò)斜坡時(shí)不會(huì)由于厚度差異大導(dǎo)致ITO 電極斷裂。黑色樹脂區(qū)域?yàn)轱@示屏非視窗區(qū),目的為遮擋金屬電極;所述黑色樹脂是感光性保護(hù)層光阻劑(商品為臺(tái)灣永光化學(xué)所生產(chǎn)EK410),是一種黑色負(fù)性光阻材料,主要成分為亞克力樹脂,環(huán)氧樹脂,負(fù)性感光劑,乙酸丙二醇單甲基醚酯及黑色顏料,具體比例為樹脂類乙酸丙二醇單甲基醚酯黑色顏料及負(fù)性感光劑=15 30 :60^80 廣10。預(yù)烤溫度及時(shí)間范圍為60度 150度,50秒到200秒,曝光能量采用IOOmj到 500mj,顯影液采用Na系或Ka系堿性溶液,顯影之溫度采用20 40度恒溫作業(yè)。再經(jīng)過(guò)黑色樹脂層硬烤,條件為200度到300度,時(shí)間為半小時(shí)到3小時(shí),經(jīng)過(guò)上述制程后,最終形成厚度為0. 3um^5um,圖形規(guī)則的黑色樹脂層51。ITO電極層的形成
形成黑色樹脂層的透明基板,經(jīng)過(guò)ITO鍍膜,使在基板上形成一層透明及厚度均勻的 ITO膜層,其厚度為80 2000埃米(面電阻為10 270歐姆);ITO材料由In203和Sn02組成,其質(zhì)量比為85、5 :5 15。ITO鍍膜的方式有真空磁控濺鍍,化學(xué)氣相沉積法,熱蒸鍍,溶膠凝膠。經(jīng)過(guò)ITO鍍膜的玻璃基板,在其ITO表面涂布一層厚度均勻的正性光阻材料,正性光阻材料主成分為乙酸丙二醇單甲基醚酯,環(huán)氧樹脂及感光材料;光阻涂布厚度為 1ιιπΓ5ιιπι。涂布光阻材料方式有滾涂,旋涂,刮涂等方式。經(jīng)過(guò)上述制程之后產(chǎn)品經(jīng)過(guò)光阻預(yù)烤,曝光,顯影,蝕刻,脫光阻膜,最終形成厚度為8(Γ2000埃米(面電阻為1(Γ270歐姆)及規(guī)則ITO圖案或電極。預(yù)烤溫度及時(shí)間范圍為60度 150度,50秒到200秒,曝光能量采用IOOmj到500mj,顯影液采用Na系或Ka系堿性溶液,顯影之溫度采用2(Γ40度恒溫作業(yè)。ITO蝕刻液采用鹽酸及硝酸按一定比例混合而成的藥液,使其酸的PH值落在廣3之間,蝕刻溫度在4(Γ50度之間作業(yè)。脫光阻膜液采用二甲亞砜和乙醇胺按一定的比例混合而成,百分比為70% :30%,脫膜溫度在4(Γ80度之間作業(yè)。所述的ITO電極為水平方向或垂直方向?qū)姌O,具有規(guī)則圖形結(jié)構(gòu);ITO電極為 ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2組成,ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2在同一層面,相互獨(dú)立,相互絕緣,交錯(cuò)設(shè)計(jì)。絕緣層的形成
經(jīng)過(guò)ITO電極后的玻璃基板,在其金屬膜面涂布一層厚度均勻的負(fù)性光阻材料, 負(fù)性光阻材料主成分為乙酸丙二醇單甲基醚酯,亞克力樹脂,環(huán)氧樹脂及負(fù)性感光劑; 光阻涂布厚度為0. 5ιιπΓ3ιιπι。涂布負(fù)性光阻材料方式有旋涂,刮涂等方式。經(jīng)過(guò)上述制程之后產(chǎn)品經(jīng)過(guò)光阻預(yù)烤,曝光,顯影,最終形成厚度為0. 5 3um和規(guī)則的絕緣層圖案。預(yù)烤溫度及時(shí)間范圍為60度 150度,50秒到200秒,曝光能量采用 IOOmj到500mj,顯影液采用Na系或Ka系堿性溶液,顯影之溫度采用20 40度恒溫作業(yè)。再經(jīng)過(guò)絕緣層硬烤,條件為200度到300度,時(shí)間為0. 5小時(shí)到3小時(shí),經(jīng)過(guò)上述制程后,最終形成厚度為0. 5um^3um,圖形規(guī)則的第二絕緣層。無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏與非搭接一體式觸摸屏在結(jié)構(gòu)上與生產(chǎn)工藝上都有所簡(jiǎn)化,取消了金屬電極,降低了材料成本,減少了上產(chǎn)流程,在觸摸功能上均可實(shí)現(xiàn)單點(diǎn)觸摸和手勢(shì)識(shí)別。無(wú)金屬電極層的非搭接一體式電容觸摸屏由于無(wú)金屬電極,其ITO導(dǎo)通電極面阻的極大值遠(yuǎn)小于非搭接一體式觸摸屏ITO面阻。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明,不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施只局限于這些說(shuō)明。對(duì)于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干簡(jiǎn)單推演或替換,都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏,其特征在于包括透明基板,依次層疊于透明基板的黑色樹脂層、ITO電極、絕緣層;所述的ITO電極為水平方向或垂直方向?qū)姌O,具有規(guī)則圖形結(jié)構(gòu);ITO電極為ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2組成,ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2在同一層面,相互獨(dú)立,相互絕緣,交錯(cuò)設(shè)計(jì);所述透明基板包括視窗區(qū)和非視窗區(qū),黑色樹脂層分布在顯示屏非視窗區(qū)。
2.如權(quán)利要求1所述的無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏,其特征是所述的透明基板為厚度在0. 5mnT2. Omm的化學(xué)強(qiáng)化玻璃基板或樹脂材料基板;所述ITO電極規(guī)則結(jié)構(gòu)為三角形,或條形,或橢圓形。
3.如權(quán)利要求2所述的無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏,其特征是所述的黑色樹脂層厚度為0. 3um^5um ;ITO電極層厚度為80 2000埃米,面電阻為10 270歐姆。
4.如權(quán)利要求4所述的無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏,其特征是所述的ITO包括In203和Sn02,其質(zhì)量比為85 95 :5 15。
5.一種制備無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏的方法,包括步驟黑色樹脂層的形成將黑色樹脂經(jīng)過(guò)旋轉(zhuǎn)涂布方式或刮式涂布方式均勻涂布在透明基板上,涂布厚度為0. 3um^5um,經(jīng)過(guò)加熱器預(yù)烤,曝光,顯影,使之形成所需之黑色樹脂區(qū)域;所述黑色樹脂是感光性保護(hù)層光阻劑,所述光阻劑包括亞克力樹脂,環(huán)氧樹脂,負(fù)性感光劑,乙酸丙二醇單甲基醚酯及黑色顏料;其比例為樹脂類乙酸丙二醇單甲基醚酯黑色顏料及負(fù)性感光劑=15 30 :60^80 =TlO ;ITO電極層的形成形成黑色樹脂層的透明基板,經(jīng)過(guò)ITO鍍膜,使在玻璃基板上形成一層透明及厚度均勻的ITO膜層,其厚度為80 2000埃米,面電阻為10 270歐姆;經(jīng)過(guò)ITO鍍膜的透明基板,在其ITO表面涂布一層厚度均勻的正性光阻材料,光阻涂布厚度為lunT5um ;經(jīng)過(guò)光阻預(yù)烤,曝光,顯影,蝕刻,脫光阻膜,最終形成厚度為8(Γ2000埃米,面電阻為 10^270歐姆及規(guī)則ITO圖案或電極;所述的ITO電極為水平方向或垂直方向?qū)姌O,具有規(guī)則圖形結(jié)構(gòu);ITO電極為ITO 導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2組成,ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2在同一層面,相互獨(dú)立,相互絕緣,交錯(cuò)設(shè)計(jì);絕緣層的形成經(jīng)過(guò)ITO電極后的透明基板,在其金屬膜面涂布一層厚度均勻的負(fù)性光阻材料,光阻涂布厚度為0. 5unT3um ;經(jīng)過(guò)光阻預(yù)烤,曝光,顯影,最終形成厚度為0. 5 3um和規(guī)則的絕緣層圖案。
6.如權(quán)利要求6所述的制備無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏的方法,其特征是所述的透明基板為厚度在0. 5^2. 0毫米的化學(xué)強(qiáng)化玻璃基板或樹脂材料基板;所述的 ITO包括In203和Sn02,其質(zhì)量比為85 95 :5 15。
7.如權(quán)利要求7所述的制備無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏的方法,其特征是所述的正性光阻材料主成分為乙酸丙二醇單甲基醚酯,環(huán)氧樹脂及正性感光劑;負(fù)性光阻材料主成分為乙酸丙二醇單甲基醚酯,亞克力樹脂,環(huán)氧樹脂及負(fù)性感光劑。
8.如權(quán)利要求6所述的制備無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏的方法,其特征是所述的ITO鍍膜的方式為真空磁控濺鍍,或者為化學(xué)氣相沉積法,或者為熱蒸鍍,或者為溶膠凝膠。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏及其制造方法,所述無(wú)金屬電極層非搭接一體式電容觸摸屏包括透明基板,依次層疊于透明基板的黑色樹脂層、ITO電極、絕緣層;所述的ITO電極為水平方向或垂直方向?qū)姌O,具有規(guī)則圖形結(jié)構(gòu);ITO電極為ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2組成,ITO導(dǎo)通電極1與ITO導(dǎo)通電極2在同一層面,相互獨(dú)立,相互絕緣,交錯(cuò)設(shè)計(jì);所述透明基板包括視窗區(qū)和非視窗區(qū),黑色樹脂層分布在顯示屏非視窗區(qū)。本發(fā)明通過(guò)對(duì)電容觸摸屏的層疊結(jié)構(gòu)導(dǎo)通方式進(jìn)行合理的設(shè)計(jì),有效降低生產(chǎn)成本、提高電容式觸摸屏的可靠性,工作穩(wěn)定性。
文檔編號(hào)G06F3/044GK102541383SQ20121002855
公開日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2012年2月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月9日
發(fā)明者曹曉星 申請(qǐng)人:深圳市寶明科技股份有限公司