專利名稱：一種制作電容觸摸屏的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子元器件中的觸摸屏的制作方法，特別涉及一種雙面電容觸摸屏電 極制作方法。
背景技術(shù)：
電容觸摸屏可實現(xiàn)多點和準(zhǔn)確的觸摸感應(yīng)，而且結(jié)構(gòu)簡單、透光率高，是當(dāng)前顯示 觸控技術(shù)發(fā)展的主流方向。其中雙面電容觸摸屏的行電極和列電極分別設(shè)置在基板的正b 面上。在制作工藝方面存在的問題是在基板的a面涂布光刻膠，經(jīng)光刻、硬化后，必須在基 板b面涂布光刻膠保護(hù)層，才能進(jìn)行a面刻蝕導(dǎo)電層；然后將正b面的光刻膠去除后，再在 b面涂布光刻膠、經(jīng)過光刻、硬化后，仍然需要在a面涂布光刻膠保護(hù)層，才能進(jìn)行b面刻蝕 導(dǎo)電層。因此該方法步驟繁雜、效率低下，制作成本較高。針對上述問題進(jìn)行檢索，尚未發(fā) 現(xiàn)有效的解決方案。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是針對現(xiàn)有的雙面電容觸摸屏電極制作方法存在的制作步驟繁 雜、效率低下、成本較高的缺點，提供的一種制作電容觸摸屏的方法。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案一種制作電容觸摸屏的方法，其特征在于包括如下步驟1、基板的a、b面分別鍍導(dǎo)電層；2、a面導(dǎo)電層上涂布光刻膠；3、對a面光刻膠曝光、顯影；4、a面光刻膠鈍化即在紅外隧道爐加熱分解光刻膠的光敏劑，加熱溫度在 115°C 150°C之間，加熱時間是120秒 3600秒；5、b面導(dǎo)電層上涂布光刻膠；6、對b面涂布光刻膠曝光、顯影；7、b面涂布光刻膠的加熱硬化，加熱溫度是100°C 150°C，時間是120秒 3600 秒；8、兩面的導(dǎo)電材料同時蝕刻；9、去除兩面的光刻膠。本發(fā)明技術(shù)方案中采用的各種原材料都是現(xiàn)有技術(shù)中的常規(guī)材料，采用的光刻工 藝也是本行業(yè)內(nèi)的成熟工藝。本發(fā)明的優(yōu)勢在于由于a面光刻膠進(jìn)行的鈍化處理分解了 a面光刻膠的光敏 劑，可以讓雙面透明導(dǎo)電圖案同時蝕刻；這樣可以減少生產(chǎn)工序，可以節(jié)約流程時間，減少 材料成本和設(shè)備投資。


圖1是在基板的a面導(dǎo)電層上涂布光刻膠的示意圖；圖2是對a面光刻膠曝光的示意圖；圖3是對a面光刻膠顯影的示意圖；圖4是對a面光刻膠鈍化的示意圖；圖5是對b面導(dǎo)電層上涂布光刻膠的示意圖；圖6是對b面涂布光刻膠曝光的示意圖；圖7是對b面涂布光刻膠顯影的示意圖；圖8是對b面涂布光刻膠加熱硬化的示意圖；圖9是對a、b兩面的透明導(dǎo)電層同時蝕刻的示意圖；圖10是去除兩面的光刻膠后形成雙面電極的示意圖。
具體實施例方式本發(fā)明提供的一種制作電容觸摸屏的方法，其特征在于包括如下步驟1、在濺射透明導(dǎo)電層1、3的基板2的a面上涂布光刻膠4，如圖1所示，涂布方式 可以用輥輪涂布，也可以用旋轉(zhuǎn)涂布，使光刻膠的厚度可以均勻到10%左右，然后預(yù)固化。 預(yù)固化可以用隧道爐也可以用熱風(fēng)式烤箱，預(yù)固化的目的是為了使光刻膠部分交聯(lián)，但必 須保證可靠的光敏性。溫度條件60°C 100°C，時間120秒 3600秒。2、如圖2所示，a面采用光罩fe，紫外光光照曝光，照射紫外光的強(qiáng)度50mj 150mj。光源可以是平行光。光罩fe和基板的距離控制在20微米 200微米，目的是使透 光部分的光刻膠在紫外光的照射下分解足夠顯影材料溶解。3、a面顯影，材料ΝΑ0Η水溶液，濃度0. 1%，顯影時間20秒 150秒，溫 度20°C 40°C，然后用純水漂洗。4、a面光刻膠4鈍化，本發(fā)明鈍化的目的除了使光刻膠能很好的附著在基板表面 以外，還必須使光刻膠的光敏性下降，下降到第二次曝光時不會分解。本發(fā)明使用方法是使 用紅外隧道爐加熱分解光刻膠的光敏劑，加熱的條件是必須大于115°C，在115°C 150°C 之間，時間是120秒 3600秒。本步驟在現(xiàn)有技術(shù)中采用的是硬化工藝，其硬化方式一般有熱風(fēng)烘箱、紅外隧道 爐、熱板等。加熱溫度控制在100士 10°C，時間熱風(fēng)烘箱30分鐘、紅外隧道爐2分鐘、熱板 2分鐘。硬化目的僅是為了使光刻膠能夠很好的附著在基板的表面，該面光刻膠的任然具有 一定的光敏性，在第二面曝光時較容易感光分解，因此無法進(jìn)行另一面曝光，也無法進(jìn)行雙 面同時刻蝕。5、如圖5所示，在基板2的b面涂布光刻膠4，涂布方式可以采用輥輪涂布，也可以 用旋轉(zhuǎn)涂布。使光刻膠的厚度可以均勻到10%左右，然后預(yù)固化。預(yù)固化可以用隧道爐也可 以用熱風(fēng)式烤箱，預(yù)固化的目的是為了使光刻膠部分交聯(lián)，但必須保證可靠的光敏性，溫度條 件60°C 100°C .時間120秒 3600秒。需要注意的是此時a面不可以涂布光刻膠。6、如圖6所示，采用光罩恥，用紫外光光照b面的光刻膠4(1)，照射紫外光的強(qiáng) 度50mj 150mj。光源可以是平行光，光罩和基板的距離控制在20微米 200微米，目的 是使透光部分的b面光刻膠在紫外光的照射下分解足夠顯影材料溶解，而鈍化了的a面光刻膠4C3)不會在顯影過程中被顯影液分解。7、如圖7所示，對b面的光刻膠4⑴顯影，顯影材料ΝΑ0Η水溶液，濃度0. 1 % 0. 5%，顯影時間20秒 120秒，溫度20°C 40°C，然后用純水漂洗。8、如圖8所示，對b面光刻膠進(jìn)行硬化，硬化的目的是使b面光刻膠的光敏性下 降，同時可以增加兩面的光刻膠的耐酸時間。加熱的條件是100°C 150°C .時間是120 秒 3600秒。9、如圖9所示，兩面的透明導(dǎo)電層1、3同時蝕刻，蝕刻的方式槽式蝕刻或片式刻 蝕，蝕刻材料18% HCL+5% HN03,時間80秒 600秒。10、如圖10所示，去除兩面的光刻膠，形成雙面透明導(dǎo)電極1、3。使用材料5% 10% ΝΑ0Η,時間60秒 600秒，溫度40°C 60°C，然后用純水漂洗。本實施列中a、b面透明導(dǎo)電薄膜，膜厚5nm 25nm，電阻范圍80歐姆/ □ 400歐姆/ □； 透明導(dǎo)電薄膜可以是氧化銦錫、氧化錫、氧化鋅或其他透明導(dǎo)電薄膜材料。透明基板2材料可以是透明的玻璃、有機(jī)玻璃、PET薄膜等。厚度為0. 12mm 2mm， 透過率75% 95% ；光刻膠采用感UV光耐酸樹脂，厚度500 2500nm ；a面光罩5a，厚度0. Imm 5mm，透明部分透光率75% 95% ；b面光罩5b，厚度0. Imm 5mm，透明部分透光率75% 95% ；
權(quán)利要求
1. 一種制作電容觸摸屏的方法，其特征在于包括如下步驟 (1)、基板O)的a面鍍導(dǎo)電層(3)、b面鍍導(dǎo)電層(1)； O)、a面導(dǎo)電層⑶上涂布光刻膠⑷； (3)、對光刻膠(4)曝光、顯影；G)、a面光刻膠(4)鈍化即在紅外隧道爐加熱分解光刻膠的光敏劑，加熱溫度在 115°C 150°C之間，加熱時間是120秒 3600秒；(5)、b面導(dǎo)電層(1)上涂布光刻膠(4)；(6)、對b面涂布光刻膠(4)進(jìn)行曝光、顯影；(7)、對b面光刻膠(4)的加熱硬化，加熱溫度是100°C 150°C，時間是120秒 3600(8)、兩面的導(dǎo)電層同時蝕刻；(9)、去除兩面的光刻膠。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種制作電容觸摸屏的方法，其特征在于包括如下步驟1、基板的a、b面分別鍍導(dǎo)電層；2、a面導(dǎo)電層上涂布光刻膠；3、對a面光刻膠曝光、顯影；4、a面光刻膠鈍化即在紅外隧道爐加熱分解光刻膠的光敏劑，加熱溫度在115℃～150℃之間，加熱時間是120秒～3600秒；5、b面導(dǎo)電層上涂布光刻膠；6、對b面涂布光刻膠曝光、顯影；7、b面涂布光刻膠的加熱硬化，加熱溫度是100℃～150℃，時間是120秒～3600秒；8、兩面的透明導(dǎo)電材料同時蝕刻；9、去除兩面的光刻膠。本發(fā)明的優(yōu)勢在于由于a面光刻膠進(jìn)行的鈍化處理分解了a面光刻膠的光敏劑，可以讓雙面透明導(dǎo)電圖案同時蝕刻；這樣可以減少生產(chǎn)工序，可以節(jié)約流程時間，減少材料成本和設(shè)備投資。
文檔編號G06F3/044GK102096535SQ201010621268
公開日2011年6月15日 申請日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者關(guān)玉華, 劉萍萍, 周朝平, 林鐘權(quán), 肖新煌, 董宏碧, 黃趙華 申請人:晟光科技股份有限公司