專利名稱：偽造印文的檢驗方法以及記錄介質的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種檢驗蓋印在文件等的印文是否用偽造印章加蓋的偽造印文的檢驗方法以及記錄介質，具體而言，對蓋印在文件等的比較印文的特性值進行運算，提供判斷偽造印文的客觀資料。
背景技術：
印章是將自己的姓名或冠名雕刻在印章面上的，印文是印章蘸印泥壓蓋的痕跡。 印章源于古代的兩河流域文明，當時的人們?yōu)榱吮硎咀约旱乃袡?，用石頭、黏土、骨頭、貝殼等制造了印章。中國從周朝開始使用了印章，韓國在大同江流域出土了漢四郡之一樂浪時期的印章，在雁鴨池也發(fā)現(xiàn)了新羅時代的印章。目前在韓國、日本、中國等東方社會應用廣泛主要用來確認本人，在西方社會也用來確認文件受理等。因為印章有這么多的重要的交易和確認本人的功能，偽造印章的犯罪也日漸增多。過去偽造印章的方法有，現(xiàn)在半透明紙上加蓋印章后，將印文面翻過來貼在要復制的印章后，用手工方法雕刻。但是，這種方法制作的印章與原件印章有較大的出入，最近幾乎都不使用。最近較常用的偽造技術為照相平版術(photolithography)，先拍攝加蓋原件印章的印文后，在金屬板或樹脂板進行蝕刻制作復制印章。用這種方法制作的復制印章或通過復制印章蓋印的印文由于照片拍攝過程中經(jīng)常出錯，與原件印章有較多的差異。最近，不拍攝印文而直接掃描后打印在菲林上，然后將該打印件緊緊貼在感光劑 (Photoactive compound,PAC)上洗印后，通過溶媒(solvent)溶化制作復制印章。通過這種方法制作的復制印章以及通過復制印章蓋印的印文規(guī)格幾乎相同，很難與原件印章或原件印文區(qū)分。但是，通過這種方法制作的復制印章，也會出現(xiàn)紫外線曝光過多、曝光過少、溶媒溶解過多或過少等細微的錯誤。最近，由于計算機技術的發(fā)達，利用印章雕刻機復制的也較多。這種技術屬于 CAM (computer aided manufacturing)的一種，利用掃描儀將需要復制的印章輸入到計算機后，將尺寸與目標印章相同的材料安裝在機器上，對準尺寸后給計算機下達指令。這時， 連接在計算機的鉆孔機或激光雕刻機按輸入的數(shù)據(jù)進行雕刻。通過這種方法制作的偽造印章非常精巧，幾乎達到以假亂真的程度，但是對準尺寸的過程或復制印章的放置上稍微有些差池，就有可能發(fā)生誤差。印文的偽造識別技術主要有，利用顯微鏡等設備比較觀察印文上出現(xiàn)的細微的瑕疵、凹痕、凸出的部位等，或在相同的條件下放大拍攝原件印文和比較印文后，重疊觀察的疊加(superimpose)檢驗法。過去，主要采用了利用負片(Negative Film)的照相學方法， 但是最近多采用VSC5000等影像處理儀器進行比較。除此之外，為了比較輪廓線，還采用過手動跟蹤比較印文的方法或通過照片處理提取輪廓線的方法，但是手動跟蹤在處理過程的再現(xiàn)上可能會存在問題，還有通過照片處理的輪廓線提取需要專用光學裝置、高超的照相技術以及數(shù)小時的作業(yè)時間。這些方法由于文字的干擾、印泥的濃淡差異等原因，很難進行精確的觀察。而且，上述方法均是肉眼觀察法，普通人和專家的觀察結果會不同，即使是專家也需要依靠主觀的判斷，所以不同的印文鑒定人鑒定的結果可能會不同。發(fā)明技術問題的公開為了解決上述問題而研制的本發(fā)明，其目的在于提供，通過原件印章生成基準印文后，對照基準印文和比較印文運算特性值，并通過運算的特性值判斷比較印文是否為偽造印文時提供客觀依據(jù)的偽造印文的檢驗方法以及記錄介質。技術方案為了實現(xiàn)上述的目的，本發(fā)明提供由如下階段組成的偽造印文的檢驗方法，具體而言，通過原件印章生成基準印文，從原件印章生成對比印文的生成階段；對比上述階段中生成的基準印文和對比印文，運算對比印文對基準印文的特性值，對比基準印文和比較印文，運算比較印文對基準印文的特性值的運算階段；在上述運算階段通過基準印文和對比印文的比較獲取的特性值以及通過基準印文和比較印文的對比獲取的特性值進行比較的階段組成。并且，本發(fā)明在上述運算階段提供，對準基準印文和對比印文的位置和角度，運算對比印文對基準印文的特性值的偽造印文的檢驗方法。并且，本發(fā)明還提供，上述特性值為對比基準印文運算的填充率，對比印文對基準
印文的填充率的運算式為
權利要求
1.一種偽造印文的檢驗方法，其特征在于，從原件印章生成(ST-110)基準印文，通過原件印章生成(ST-120)對比印文的生成階段(ST-101)；對上述生成階段(ST-101)生成的基準印文和對比印文進行比較，運算(ST-130)對比印文對基準印文的特性值，對比基準印文和比較印文運算(ST-140)比較對基準印文的特性值的運算階段(ST-121)；在上述運算階段(ST-121)對比基準印文和對比印文取得的特性值和，對比基準印文和比較印文獲得的特性值進行比較的階段(ST-150)構成。
2.權利要求1所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，在上述運算階段(ST-121)對準(ST-131)基準印文和對比印文的位置和角度，運算(ST-130)對比印文對基準印文的特性值，對準(ST-141)基準印文和比較印文的位置和角度，運算(ST-140)比較印文對基準印文的特性值。
3.權利要求1或2所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，上述特性值為對比基準印文運算的填充率，上述基準印文填充率的運算式為
4.權利要求1或權利要求2所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，上述特性值為對比基準印文運算的出錯率，上述對比印文出錯率的運算式為
5.權利要求1或權利要求2所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，上述特性值為對比基準印文運算的填充率和出錯率，上述對比印文填充率的運算式為
6.一種偽造印文的檢驗方法，其特征在于，通過原件印章輸入復數(shù)個準備印文的階段 (ST-200)；按領域分離(ST-210)上述輸入階段所輸入的準備印文，在復數(shù)個準備印文中整合蓋印領域生成基準印文的階段(ST-230)；按領域分離所輸入的偽造檢驗對象比較印文的階段(ST-MO)；在上述基準印文和比較印文中整合蓋印領域的階段(ST490)；上述的整合階段后，運算比較印文對基準印文的特性值的階段(ST-300)組成。
7.權利要求6所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，整合上述基準印文和比較印文的階段是求得有效像素(matching pixel count)最大值的移動以及旋轉參數(shù)的過程，并且上述參數(shù)是通過下面的數(shù)學公式算出。 數(shù)學公式
8.權利要求6所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，整合上述基準印文和比較印文的階段是運算蓋印領域的重疊，對準基準印文和對比印文的位置和角度的階段。
9.權利要求6所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，上述特性值為對比基準印文運算的填充率，上述比較印文填充率的運算式為
10.權利要求6所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，上述特性值為對比基準印文運算的出錯率，上述比較印文出錯率的運算式為
11.權利要求6所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，上述特性值為對比基準印文運算的填充率和出錯率，上述比較印文填充率的運算式為
12.權利要求11所述的偽造印文的檢驗方法，其特征在于，上述出錯率反映著填充率，反映填充率的出錯率運算式
13.—種記錄介質，其特征在于，能實現(xiàn)通過原件印章輸入復數(shù)個準備印文后按領域分離的功能；按領域分離的至少一個以上的準備印文中整合蓋印領域，計算相應的像素平均值生成基準印文的功能；輸入偽造檢驗對象比較印文后按領域分離的功能；比較上述基準印文和比較印文，運算表示基準印文和比較印文之間相異程度的出錯率，運算表示印泥的濃淡或蓋印強度的填充率，檢驗上述比較印文是否為偽造印文等功能的程序記錄在內的， 可以通過計算機讀取的記錄介質。
14.權利要求13所述的記錄介質，其特征在于，假設脫離上述基準印文面積 η(A)的比較印文蓋印領域的面積為n(B。ut)，比較印文的蓋印領域面積為η(Β)時，上述出錯率是通過數(shù)學公式
15.一種偽造印文的檢驗方法，其特征在于，運算對基準印文的復數(shù)個準備印文的補正出錯率(ε J-出錯率(ε)/填充率(ρ)的平均值和標準偏差，畫出正態(tài)分布曲線的階段； 運算對基準印文的比較印文補正出錯率(￡ι)_出錯率(O/填充率(P)后，反映在準備印文的正態(tài)分布曲線的階段組成。
全文摘要
本發(fā)明涉及偽造印文的檢驗方法，具體而言，通過原件印章生成(ST-110)基準印文的生成階段(ST-101)；對比上述生成階段(ST-101)生成的基準印文和比較印文，運算(ST-140)比較印文對基準印文的特性值的運算階段(ST-121)組成。通過實驗結果，不僅可以識別蝕刻在鋅板或樹脂板仿造的印章蓋印的偽造印文，還可以識別通過計算機仿刻方法仿造的印章蓋印的偽造印文。在各類刑事和民事案件中，判斷文件上所蓋印印文的偽造與否時提供客觀的依據(jù)，有效防止肉眼或顯微鏡下觀察時可能出現(xiàn)的錯誤。
文檔編號G06K9/62GK102194125SQ20101057648
公開日2011年9月21日 申請日期2010年11月25日 優(yōu)先權日2010年3月17日
發(fā)明者文基雄, 樸昞旭, 李仲, 李永洙, 金俊奭 申請人:大韓民國(管理部署:行政安全部國立科學搜查研究院長)