專利名稱：觸摸屏面板的制作方法
技術領域：
本發(fā)明的實施方式涉及電容式觸摸屏面板。
背景技術：
本申請要求2010年2月11日提交的韓國專利申請No. 10-2010-012617的優(yōu)先權和權益，此處以引證的方式并入其全部內容，就像在此進行了完整闡述一樣。隨著電子工業(yè)的發(fā)展，諸如液晶顯示器、電致發(fā)光顯示器、和等離子體顯示板等具有快響應速度、低能耗和出色的色彩再現率的顯示設備已經受到了極大的關注。顯示設備用于各種電子產品，諸如電視機、計算機的監(jiān)視器、筆記本型計算機、移動電話、冰箱的顯示單元、個人數字助理、以及自動柜員機。通常，顯示設備與諸如鍵盤、鼠標和數字轉換器的多種輸入裝置連接。但是，當使用諸如鍵盤、鼠標、數字轉換器的分立的輸入裝置時，要求用戶了解如何使用該分立的輸入裝置，而且由于分立的輸入裝置占用空間，因此從客戶滿意的角度來看，與各種輸入裝置分立的顯示設備并不便于使用。因此，對可以減少誤操作的便利且簡單的輸入裝置的需要逐漸增長。根據這樣的要求，提出了用戶通過手指或筆直接接觸屏幕就可以輸入信息的觸摸屏面板。由于觸摸屏面板具有簡單的構造但不出現或很少出現誤操作、無需分立的輸入裝置就可以進行輸入動作、并且具有用戶通過在屏幕上顯示的內容就可以快速并容易地進行操作的便利性，因此觸摸屏面板被應用于各種顯示設備。根據對觸摸部位的檢測方法，觸摸屏面板可以分成電阻式、電容式、電磁式等。電阻式觸摸屏面板根據向形成在上板或下板上的金屬電極施加直流電壓的狀態(tài)下的電阻按照電壓梯度來確定觸摸位置。電容式觸摸屏面板根據用戶物理地接觸到在上板或下板上形成的導電膜時在上板或下板中產生的電容的差異來感測觸摸位置。電磁式觸摸屏面板通過讀取電磁筆觸摸導電膜時感生的LC值來檢測觸摸部位。下文中，將參照圖1和圖2來描述常規(guī)的電容式觸摸屏面板。圖1是例示了常規(guī)的電容式觸摸屏面板的頂視平面圖，圖2是例示了沿圖1中的線1-1’和線11-11’截取的觸摸屏面板的截面圖。參照圖1和圖2，常規(guī)的電容式觸摸屏面板包括電極形成部20、導線形成部 (routing wire forming part) 40、焊盤部 60、以及保護層 50。電極形成部20形成在基板10上，并且包括平行地布置在第一方向(例如，X軸方向)上的多個第一電極21和布置為在與第一電極21垂直的方向(例如，Y軸方向)上交叉的多個第二電極22。第一電極21與第二電極22相互交叉，但是通過絕緣膜30保持電絕緣狀態(tài)。此外，布置在第一方向上的相鄰的第一電極21通過橋41彼此連接。也就是說，橋 41通過在覆蓋了第一和第二電極21和22的絕緣膜30中形成的接觸孔30a和30b將相鄰的第一電極21相互連接起來。導線形成部40在基板10上形成在電極形成部20的外側位置處，并且包括分別與多個第一電極21相連的多條第一導線42、和分別與多個第二電極22相連的多條第二導線
443。焊盤部60包括分別通過多條第一導線42與多個第一電極21相連的多個第一焊盤61、和分別通過多條第二導線43與多個第二電極22相連的多個第二焊盤62。保護層50覆蓋了電極形成部20和導線形成部40，并且防止第一和第二電極21和 22與第一和第二導線42和43露出到外部。下文中，將參照圖3A到圖3D來描述制造常規(guī)的電容式觸摸屏面板的方法。參照圖3A，通過如濺射法的沉積工序將用于形成第一和第二電極的第一導電層沉積在包括電極形成部20、導線形成部40、和焊盤部60的基板10上。通常使用氧化銦錫 (ITO)層作為第一導電層。當在其中形成了第一導電層的基板10上涂敷了光刻膠后，通過利用第一掩模進行光刻工序，在電極形成部20中形成了用于露出第一導電層的第一光刻膠圖案。在通過濕蝕刻去除了由第一光刻膠圖案露出的第一導電層后，通過對剩余的第一光刻膠圖案進行灰化，在基板10上形成了多個第一電極21和與第一電極21交叉的多個第二電極22。參照圖3B，當在其中形成了多個第一和第二電極21和22的基板10上形成了第一絕緣膜30后，去除焊盤部60和導線形成部40的第一絕緣膜，并且通過利用第二掩模的光刻工序和蝕刻工序形成貫穿電極20的第一絕緣膜30的第一和第二接觸孔30a和30b。第一和第二接觸孔30a和30b露出了相鄰的第一電極21的部分。第一絕緣膜30包括硅氮化物、硅氧化物、或有機樹脂。參照圖3C，通過如濺射法的沉積工序在基板10的形成了第一和第二接觸孔30a和 30b的整個表面上形成第二導電層。第二導電層包括鋁(Al)或鉬(Mo)。在將光刻膠涂敷在其中形成了第二導電層的基板上后，在基板10上的導線形成部中形成了第一和第二導線42和43，并且通過利用第三掩模執(zhí)行光刻工序和蝕刻工序，在電極形成部20的第一絕緣膜30上形成了連接電極41。連接電極41通過在第一絕緣膜30中形成的第一和第二接觸孔30a和30b將相鄰的第一電極21相互連接起來。參照圖3D，當在基板10的其中形成了連接電極41與第一和第二導線42和43的整個表面上形成了作為保護膜的第二絕緣膜50后，通過利用第四掩模的光刻工序和蝕刻工序形成了用于貫穿第二絕緣膜50的通孔50a以露出焊盤60的第一和第二導線42和43。但是，如上所述，常規(guī)的電容式觸摸屏面板是利用4道掩模工序制造而成的，每道掩模工序都伴隨有需要諸如光刻膠(PR)、涂敷、對準、曝光、顯影和清潔的一系列連續(xù)工序的光刻工序，因而需要減少掩模工序的數量。此外，由于第一電極與第二電極的交叉部分的第一絕緣膜的面積大并使用了硅氮化物、硅氧化物、和有機樹脂，因此由于第一絕緣膜與其周邊之間的顏色差異，存在著可以從外部看到第一絕緣膜的問題。此外，作為保護膜而形成在觸摸屏面板頂部的第二絕緣膜由與第一絕緣膜的材料相同的材料制成，其粘合強度受到在沉積第一和第二絕緣膜時使用的氣體的削弱，因而表面硬度也受到削弱。因此，在制造了觸摸屏面板后，在執(zhí)行形成顯示設備的下一道工序時，出現了另外的刮擦問題。圖4是例示了相關技術中在對制造的觸摸屏面板進行刮擦測試前后的狀態(tài)的圖，其中左側圖像例示了刮擦測試前的狀態(tài)，而右側圖像例示了刮擦測試之后的狀態(tài)。

發(fā)明內容
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本發(fā)明的一個目的是提供一種觸摸屏面板，該觸摸屏面板通過減少電容式觸摸屏面板的掩模工序數量來縮短工序作業(yè)時間，可以提高生產力。本發(fā)明的另一個目的是提供一種觸摸屏面板，該觸摸屏面板可以解決由于用于覆蓋被用作觸摸電極的第一電極和第二電極且面積較大的第一絕緣層與該絕緣層周邊之間的色差而出現的可見性問題，并且可以改善透射特性和顏色轉變特性。本發(fā)明的另一個目的是提供一種觸摸屏面板，該觸摸屏面板可以解決由于作為保護層而形成在觸摸屏面板的頂部的第二絕緣層的表面硬度低而發(fā)生的刮擦問題。本發(fā)明的附加特征和優(yōu)點將在下面的描述中部分描述且將從描述中部分地顯現， 或可以通過本發(fā)明的實踐來了解。通過書面的說明書及其權利要求以及附圖中特別指出的結構可以實現和獲得本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點。為了實現這些和其它優(yōu)點，按照本發(fā)明的目的，作為具體和廣義的描述，一種觸摸屏面板包括基板；電極形成部，其包括形成在所述基板上的多個第一電極串和多個第二電極串，所述多個第一電極串被平行地布置在第一方向上，并且所述多個第二電極串被布置成與所述第一電極串交叉；導線形成部，其在所述基板上形成在所述電極形成部的外側位置處，并且包括分別與所述多個第一電極串相連的多條第一導線、和分別與所述多個第二電極串相連的多條第二導線；多個第一連接圖案，其與所述多條第一導線和所述多條第二導線形成在同一層上；以及絕緣層，其形成在所述多個第一電極串和所述多個第二電極串與所述基板之間，并且具有多個接觸孔以露出所述多個第一連接圖案的部分，其中，所述多個第一電極串中的每一個電極串包括多個第一電極圖案，并且所述多個第二電極串中的每一個電極串包括多個第二電極圖案，并且所述多個第一電極圖案被形成為分立的多個圖案，并且所述分立的多個圖案通過所述多個接觸孔和所述多個第一連接圖案而彼此相連。本發(fā)明的另一個實施方式包括一種制造觸摸屏面板的方法，該方法包括以下步驟第一工序，用于在基板上同時形成多個第一連接圖案、多條第一導線、和多條第二導線； 第二工序，用于在所述基板的整個表面上形成絕緣層并在所述絕緣層中形成用于露出所述多個第一連接圖案中的至少一個的部分的多個接觸孔；第三工序，用于在其中形成了所述多個接觸孔的所述絕緣層上形成多個第一電極串和多個第二電極串，所述多個第一電極串被平行地布置在第一方向上，并且所述多個第二電極串被平行地布置在與所述第一方向交叉的第二方向上。本發(fā)明的另一個實施方式包括一種觸摸屏面板，該觸摸屏面板包括基板；形成在所述基板上的多個第一連接圖案；絕緣層，其形成在所述基板上以覆蓋所述多個第一連接圖案，并且具有露出所述多個第一連接圖案的部分的多個接觸孔；以及形成在所述絕緣層上的多個第一電極和多個第二電極，所述多個第一電極被平行地布置在第一方向上，并且所述多個第二電極被布置在與所述第一方向交叉的第二方向上，其中，所述多個第一連接圖案中的至少一個連接圖案通過露出了所述多個第一連接圖案中的所述至少一個連接圖案的相應部分的所述多個接觸孔中的至少兩個接觸孔而與所述多個第一電極中的至少相鄰的一對相連，并且由所述多個第一電極中的所述至少相鄰的一對中的形成在所述多個接觸孔中的所述至少兩個接觸孔中的部分來形成至少一個空穴。


附圖被包括在本申請中以提供對本發(fā)明的進一步理解，并結合到本申請中且構成本申請的一部分，附圖示出了本發(fā)明的實施方式，且與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。 附圖中圖1是例示了相關技術的電容式觸摸屏面板的頂視平面圖；圖2是例示了沿圖1中的線1-1’和線11-11’截取的觸摸屏面板的截面圖；圖3A到圖3D是例示了制造圖1所示的觸摸屏面板的工序的截面圖；圖4是例示了在對相關技術的觸摸屏面板執(zhí)行刮擦測試前后的狀態(tài)的圖；圖5是例示了根據本發(fā)明實施方式的觸摸屏面板的頂視平面圖；圖6是例示了沿圖5中的線1-1’和線11-11’截取的觸摸屏面板的截面圖；圖7A到圖7B是例示了制造圖5所示的觸摸屏面板的工序的第一道掩模工序的頂視平面圖和截面圖；圖8A到圖8D是例示了制造圖5所示的觸摸屏面板的工序的第二道掩模工序的頂視平面圖和截面圖；圖9A到圖9B是例示了制造圖5所示的觸摸屏面板的工序的第三道掩模工序的頂視平面圖和截面圖；圖10是例示了當被用作第一和第二電極圖案的ITO的厚度是1400A時根據被用作絕緣層的硅氮化物的厚度的其中絕緣層被破壞或損壞的破壞點的電場值的圖；圖11是例示了當被用作第一和第二電極圖案的ITO的厚度是1400 A時觸摸屏面板的根據被用作絕緣層的硅氮化物的厚度的透射率的圖；圖12是例示了當被用作第一和第二電極圖案的ITO的厚度是1400A時觸摸屏面板的根據被用作絕緣層的硅氮化物的厚度的顏色轉變特性的圖；圖13是例示了當被形成為絕緣層的硅氮化物的厚度是6000人時根據被用作第一和第二電極圖案的ITO的厚度的透射特性的圖
圖14是例示了當被形成為絕緣層的硅氮化物的厚度是6000人時根據被用作第一和第二電極圖案的ITO的厚度的顏色轉變特性的圖；圖15是例示了在對其中觸摸屏面板的頂部是絕緣層的區(qū)域A和其中所述觸摸屏面板的頂部是ITO的區(qū)域B執(zhí)行刮擦測試前后的結果的圖；以及圖16是例示了根據本發(fā)明另一個實施方式的觸摸屏面板的截面圖。
具體實施例方式在下文中，將參照圖5到圖16來詳細描述本發(fā)明的示例性實施方式。相同的標號在說明書中代表相同部件。將參照圖5和圖6來描述用于根據本發(fā)明的示例性實施方式的陣列基板。圖5是例示了根據本發(fā)明的示例性實施方式的觸摸屏面板的頂視平面圖，圖6是例示了沿圖5中的線1-1’和線11-11’截取的觸摸屏面板的截面圖。參照圖5和圖6，根據本發(fā)明的示例性實施方式的電容式觸摸屏面板包括電極形成部A、導線形成部B、和焊盤部C。電極形成部A包括可選擇地平行布置在第一方向(例如，X軸方向)上的多個第一電極串130和可選擇地布置在第二方向(例如，Y軸方向)上以與第一電極串130交叉的多個第二電極串135。第一電極串130中的每一個都包括具有三角形、四邊形、菱形、多邊形等的第一電極圖案131、和用于連接相鄰的第一電極圖案131的第一連接圖案110。第二電極串135中的每一個都包括具有三角形、四邊形、菱形、多邊形等的第二電極圖案136(類似于第一電極圖案131)和用于連接相鄰的第二電極圖案136的第二連接圖案137。在本發(fā)明的示例性實施方式中，第一連接圖案110與第一電極圖案131分立地形成， 而第二連接圖案137與第二電極圖案136—體地形成。另選地，第一連接圖案110可以與第一電極圖案131 —體地形成，而第二連接圖案137可以與第二電極圖案136分立地形成。導線形成部B在基板100上形成在電極形成部A的外側位置處，并且包括分別與多個第一電極串130相連的多條第一導線112和分別與多個第二電極串135相連的多條第二導線114。焊盤部C包括分別通過多條第一導線112連接到多個第一電極串130的多個第一焊盤116、和分別通過多條第二導線114連接到多個第二電極串135的多個第二焊盤118。在本發(fā)明的示例性實施方式中，第一連接圖案110與第一和第二導線112和114 通過相同的工序形成在基板100上并由相同材料制成。在其它實施方式中，第一連接圖案 110與第一和第二導線112和114由不同材料形成。第一連接圖案110與第一和第二導線 112和114包括Al、AlNd、Mo、MoTi、Cu、及Cr中的一種。由于這些材料具有低電阻率，因此可以降低第一和第二電極圖案131和136與第一連接圖案110或導線112和114之間的接觸電阻。由于ITO具有高電阻率并應具有較大的厚度，因此難以使用ITO作為導線，因而在本實施方式中不使用ΙΤ0。但是，如果需要，可以使用ΙΤ0。此外，盡管不是必須如此，但是優(yōu)選地將連接相鄰的第一電極圖案的第一連接圖案110形成為具有大約2000 A到3000 A的厚度和大約3 μ m到大約10 μ m的寬度。如果第一連接圖案110的厚度小于2000 A，則第一連接圖案110的電阻會較高，而如果第一連接圖案110的厚度大于3000A，則圖案的臺階差增加。另外，如果第一連接圖案110的寬度小于3μπι，則第一連接圖案110的電阻會較高，而如果第一連接圖案110的寬度大于10 μ m， 則該圖案可見。此外，在示例性實施方式中，由于第一連接圖案110與第一和第二導線112和114 通過同一道掩模工序形成，因此與在兩道掩模工序中形成用于連接電極圖案的連接圖案和導線的相關技術相比，可以省去一道掩模工序。因此，可以減少成本和作業(yè)時間(用于實現日生產目標量的每個產品單位所需的制造時間)。在本發(fā)明的示例性實施方式中，絕緣層120形成在其中形成了第一連接圖案110 與第一和第二導線112和114的基板100上，在絕緣層120中，形成了用于露出第一連接圖案110中每一個的部分的第一和第二接觸孔120a和120b、用于露出第一導線112的一部分的第三接觸孔120c、和用于露出第二導線114的一部分的第四接觸孔120d(見圖8A)。絕緣層120包括硅氮化物(SiNx)。如果絕緣層120的厚度小于5000 A，則絕緣層120可能被施加到第一電極串130和第二電極串135的電壓破壞或損壞。因此，盡管沒有要求，但為了防止或減少使用觸摸屏面板時由于絕緣層120被破壞或損壞而出現故障的現象，優(yōu)選地將絕緣層形成為具有5000 A或更大的厚度。此外，如果絕緣層120的厚度是大約6000 A，則觀察到其中透射率不再增加的飽和狀態(tài)，顏色轉變現象變得最小。也就是說，考慮到透射率和色度表現，當絕緣層120的厚度是6000人或更大時，透射率變得最大而顏色轉變現象變得最小，因而絕緣層120最優(yōu)選地具有6000 A或更大的厚度。但是，如果絕緣層120的厚度超過7000 A，則由于被用作絕緣層120的材料的硅氮化物層的特性而難以形成接觸孔且將需要長得多的工序時間。因此，盡管沒有要求，但是絕緣層120的厚度優(yōu)選地不超過7000 A。因此，盡管沒有要求，但當考慮到絕緣層120的穩(wěn)定性、良好的光透射率、以及色度表現能力時，優(yōu)選地在5000 A 到7000 A的范圍內形成絕緣層120的厚度。此外，多個第一電極串130和多個第二電極串135形成在其中形成了第一到第四接觸孔120a、120b、120c、和120d(見圖8A)的絕緣層120上。多個第一電極串130中的每一個都包括多個第一電極圖案131并且可選擇地布置在第一方向(例如，χ軸方向)上。多個第二電極串135中的每一個都包括多個第二電極圖案136并且可選擇地布置在與第一方向交叉的第二方向(例如，y軸方向)上。由于形成第一電極串130的第一電極圖案131彼此分開，因此第一電極圖案131被連接到第一連接圖案110的通過在絕緣層120中形成的第一和第二接觸孔120a和120b而露出的部分，并且位于最外側的第一電極圖案131被連接到通過第三接觸孔120c而露出的第一導線112。如圖6所示，多個第一電極圖案131的部分形成在接觸孔120a、120b和120c中，使得多個第一電極圖案131的部分被部分地填充在接觸孔120a、120b和120c中。例如，多個第一電極圖案131的部分形成在接觸孔120a、120b和120c的側壁上、和第一連接圖案110 與第一導線112的露出部分上。因此，多個第一電極圖案131的部分填充在接觸孔120a、 120b和120c中的部分分別形成了空穴或空腔122a、12 和122c。形成第二電極串135的第二電極圖案136與第二連接圖案137—體地形成，并且被連接到通過第四接觸孔120d(見圖8A)而露出的第二導線114。第一和第二電極圖案131和136與第二連接圖案137通過同一工序由相同材料制成。第一和第二電極圖案131和136與第二連接圖案137由諸如ITO或IZO的透明金屬材料制成。在示例性實施方式中，由于利用ITO的第一和第二電極串130和135與第二連接圖案137被形成在觸摸屏面板的頂層且ITO具有非常高的硬度，因此在形成顯示設備的后續(xù)工序中沒有在觸摸屏面板的基板100的其它表面上出現刮擦，因而得到了高質量的觸摸屏面板。在下文中，將參照圖7A到圖9B來描述制造根據本發(fā)明的示例性實施方式的電容式觸摸屏面板的方法。圖7A到圖7B是例示了制造根據本發(fā)明示例性實施方式的電容式觸摸屏面板的方法中的第一掩模工序的頂視平面圖和截面圖。參照圖5、圖7A和圖7B，利用第一掩模工序在基板100上形成了包括第一連接圖案110、第一導線112、和第二導線114的第一導電圖案組，該基板100包括電極形成部A、導線形成部B、和焊盤部C。更具體地說，第一導電層通過如濺射法的沉積工序沉積在基板100上。由于通過利用第一掩模的光刻工序和蝕刻工序對第一導電層進行構圖，因此形成了包括第一連接圖案110、第一導線112、和第二導線114的第一導電圖案組。這里，使用了 Al、AlNd、Mo、MoTi、 Cu、Cr、ITO等作為形成第一導電圖案組的材料。在電極形成區(qū)A中形成的第一連接圖案110(見圖5)被形成為具有大約2000 A到3000 A的厚度和大約3ym到大約IOym的寬度。在另一個實施方式中，可以通過在基板100上印刷包括第一連接圖案110、第一導線112、和第二導線114的第一導電圖案組而形成該第一導電圖案組?？梢詧?zhí)行后續(xù)的烘干和/或加熱工序。在這樣的情況下，可以跳過利用第一掩模的光刻工序和蝕刻工序。在其它實施方式中，可以使用其它的圖案形成工序。圖8A到圖8D是例示了制造根據本發(fā)明示例性實施方式的電容式觸摸屏面板的方法中的第二掩模工序的頂視平面圖和截面圖。在圖8A中，由于第一和第二導線112和114 被絕緣層120覆蓋而以虛線表示，第一和第二導線112和114是在頂視平面圖中沒有顯示出來的部分，但是為了更好地理解，在本發(fā)明中，以虛線來表示第一和第二導線112和114。參照圖8A和圖8B，絕緣層120通過如濺射法的沉積方法形成在基板100的整個表面上，在基板100的整個表面中形成了包括第一連接圖案110、第一導線112、和第二導線 114的第一導電圖案組。使用如硅氮化物(SiNx)的無機絕緣材料作為絕緣層120的材料。 優(yōu)選地將絕緣層120的厚度設置在大約5000 A到大約10000 A的范圍，盡管沒有要求，但更優(yōu)選地將絕緣層120的厚度設置到5000 A到大約7000 A的范圍。如圖8C所示，在形成絕緣層120后，通過利用第二掩模的光刻工序將光刻膠圖案 210形成在其中應當存在絕緣層120的部分上。利用光刻膠圖案210以干蝕刻工序形成了貫穿絕緣層120的第一到第四接觸孔120a、120b、120c和120d(見圖8A)。接下來，如圖8D 所示，當去除了光刻膠圖案210時，形成了用于露出第一導電圖案110、112、和114的第一到第四接觸孔120a、120b、120c和120d。這里，第一接觸孔120a露出了第一連接圖案110的一部分，第二接觸孔120b露出了第一連接圖案110的另一個部分，第三接觸孔120c露出了第一導線112的一部分，第四接觸孔120d(見圖8A)露出了第二導線114的一部分。圖9A到圖9B是例示了制造根據本發(fā)明示例性實施方式的電容式觸摸屏面板的方法中的第三掩模工序的頂視平面圖和截面圖。圖9A是例示了制造根據本發(fā)明示例性實施方式的電容式觸摸屏面板的方法中的第三掩模工序的頂視平面圖，而為了更好地理解，在圖9A中，沒有示出在第一導電圖案組和第二導電圖案組之間形成的絕緣層120。參照圖9A和圖9B，利用第三掩模工序在其中形成了第一到第四接觸孔120a、 120b、120c和120d(見圖8A)的絕緣層120上形成了包括多個第一電極串130和多個第二電極串135的第二導電圖案組。多個第一電極串130可選擇地平行布置在第一方向(例如， χ軸方向)上。多個第二電極串135可選擇地平行布置在與第一方向交叉的第二方向(例如，y軸方向)上。更具體地說，第二導電層通過如濺射法的沉積工序沉積在絕緣層120的其中形成了第一到第四接觸孔120a、120b、120c和120d(見圖8A)的整個表面上。之后，通過利用第三掩模的光刻工序和蝕刻工序對第二導電層進行構圖以形成第二導電圖案組，該第二導電圖案組包括平行地布置在第一方向(例如，χ軸方向)上的多個第一電極串130和平行地布置在與第一方向交叉的第二方向(例如，y軸方向)上的多個第二電極串135。這里，第一電極串130中的每一個都包括多個第一電極圖案131，并且第二電極串135中的每一個都包括多個第二電極圖案136和用于連接相鄰的第二電極圖案136的第二連接圖案137。使用ITO作為第二導電層的材料，如果第二導電層的厚度是大約1200人到大約1600人，則可以得到最大的透射率。另外，如圖9B所示，多個第一電極圖案131的部分被沉積在接觸孔120a、120b和 120c中，使得多個第一電極圖案131的部分被部分地填充在接觸孔120a、120b和120c中。 例如，多個第一電極圖案131的部分被沉積在接觸孔120a、120b和120c的側壁上、和第一連接圖案110與第一導線112的露出部分上。因此，多個第一電極圖案131的部分填充在接觸孔120a、120b和120c中的部分分別形成了空穴或空腔122a、12 和122c。在本發(fā)明的實施方式中，與第一到第四接觸孔120a、120b、120c和120d中的至少一個的軸向垂直的截面可以是任意形狀。在圖8A中示出了矩形，但是本發(fā)明的實施方式包括了圓形、橢圓形、多邊形、或不規(guī)則形狀。另外，可以將空穴或空腔12h、122b和122c中的至少一個形成為在第一到第四接觸孔120a、120b、120c和120d(見圖8A)中的至少一個的軸向上延伸。另外，根據絕緣層120的厚度與多個第一和第二電極圖案的厚度，空穴或空腔122a、122b和122c中的至少一個的深度在軸向上可以是大約2000A到大約9000A。這里，第一和第二電極圖案131和136中的每一個都被形成為三角形、四邊形、菱形、多邊形等，但是第一和第二電極圖案131和136的形狀并不限于此，而是可以包括其它的任意形狀。此外，在本發(fā)明的示例性實施方式中，形成在絕緣層120上的第一電極圖案 131是分立的，而第二電極圖案136與第二連接圖案137 —體地形成，但是第一電極圖案 131可以與連接圖案一體地形成在絕緣層120上，而第二電極圖案136可以是分立的。在這后一種情況中，第二電極圖案136由在絕緣層120與基板100之間形成的另一個連接圖案電連接起來。接下來，形成包括多個第一焊盤116和多個第二焊盤118的焊盤部C。多個第一焊盤116分別通過多條第一導線112與多個第一電極串130相連，并且多個第二焊盤118分別通過多條第二導線114與多個第二電極串135相連。根據本發(fā)明的示例性實施方式，由于第一連接圖案110與第一和第二導線112和 114通過同一工序形成，因此至少可以省去一道掩模工序。因此，根據掩模數量的減少，可以減少成本并減少作業(yè)時間。此外，在示例性實施方式中，由于將硅氮化物(SiNx)用作絕緣層120，因此可以解決或減少由于絕緣層120與周邊的色差而發(fā)生的可見性問題。由于將絕緣層120的厚度設置為5000A到7000A的范圍，因此透射率變得最大，并且顏色轉變現象變得最少，因而可以抑制破壞或損壞絕緣層120的現象。因此，顯著地改善了觸摸屏面板的穩(wěn)定性。圖10到圖12是例示了根據通過利用ITO作為第一和第二電極圖案131和136并利用硅氮化物作為絕緣層120而形成的觸摸屏面板中的硅氮化物的厚度的破壞電壓、透射率和顏色轉變特性的仿真圖。圖10是例示了當被用作第一和第二電極圖案的ITO的厚度是1400人時根據被用作絕緣層的硅氮化物的厚度的其中絕緣層被破壞或損壞的破壞點的電場值的圖。在圖10 中，水平軸表示硅氮化物的厚度(A)，而垂直軸表示電場的強度(MV/cm)。如圖10所示，由于當施加了 10兆伏/厘米或更大的電場時硅氮化物受到破壞或損壞，適當地調整硅氮化物的厚度是非常重要的。當在觸摸屏面板的第一和第二電極圖案131和136之間施加了 500 伏或更小的電壓(此值是觸摸屏面板制造商的可靠性條件)的情況下，當硅氮化物的厚度是大約5000A或更小時，硅氮化物的絕緣受到破壞或損壞。因此，應當將作為絕緣層120的硅氮化物形成為具有5000人或更大的厚度。圖11是例示了當被用作第一和第二電極圖案131和136的ITO的厚度是1400 A 時觸摸屏面板根據被用作絕緣層120的硅氮化物的厚度的透射率的圖。在圖11中，水平軸表示硅氮化物的厚度(A),垂直軸表示透射率(％ )，“AIR”表示在未將偏振片附接到觸摸屏面板的情況下的透射率，“POL”表示在將偏振片附接到觸摸屏面板的情況下的透射率。從圖11可以看出，在絕緣層120不受到破壞或損壞的5000人或更大的厚度中，透射率在大約 5000A的厚度中逐漸上升，在大約6000A的厚度中達到峰值，在大約6500A的厚度再次下降，并且在大約7000A的厚度再次上升。也就是說，在具有6000人或更大的厚度的絕緣層中，由于透射率飽和，即使出現厚度偏差，也不存在透射率的變化或存在極小的變化。圖Il 示出了單個觸摸屏面板具有大約89%的透射率，在將偏振片附接到觸摸屏面板時，得到了大約93%的透射率。圖12是例示了當被用作第一和第二電極圖案的ITO的厚度是1400A時根據被用作絕緣層的硅氮化物的厚度的觸摸屏面板的顏色轉變特性的圖。在圖12中，水平軸表示硅氮化物的厚度(A)，垂直軸表示色度，“AIR”表示在未將偏振片附加到觸摸屏面板的情況下的色度，“POL”表示在將偏振片附接到觸摸屏面板的情況下的色度。從圖12可以看出，與透射率的情況相似，在絕緣層120不受到破壞或損壞的5000A或更大的厚度中，顏色轉變特性與透射率特性相似。圖13和圖14是根據利用ITO作為第一和第二電極圖案131和136并利用硅氮化物作為絕緣層120而形成的觸摸屏面板中的ITO層的厚度的透射率特性和顏色轉變特性的仿真圖。圖13是例示了當被形成為絕緣層120的硅氮化物的厚度是6000 A時根據被用作第一和第二電極圖案131和136的ITO的厚度的透射率特性的圖。在圖13中，水平軸表示ITO層的厚度(A)，垂直軸表示透射率(％ )，“AIR”表示在未將偏振片附接到觸摸屏面板的情況下的透射率，“POL”表示在將偏振片附接到觸摸屏面板的情況下的透射率。從圖13 可以看出，硅氮化物的厚度被固定為6000 A，并且根據ITO厚度的透射率在700 A中具有最小值并且在1400 A中具有最大值。圖14是例示了當被形成為絕緣層的硅氮化物的厚度是6000 A時根據被用作第一和第二電極圖案的ITO的厚度的顏色轉變特性的圖。在圖14中，水平軸表示ITO層的厚度(A)，垂直軸表示色度，“AIR”表示在未將偏振片附接到觸摸屏面板的示例中的顏色轉變度，“POL”表示在將偏振片形成在觸摸屏面板中的情況下的顏色轉變度。從圖14可以看出，當硅氮化物的厚度被固定為6000 A且測量了根據TIO厚度的顏色轉變度時，顏色轉變度在大約700 A中具有最小值，因而在大約100 A到大約1400 A中得到了最優(yōu)的ITO厚度。但是，在筆記本型計算機尺寸或更大尺寸的顯示器中，由于電阻問題，在大約1400 A中得到了最優(yōu)的ITO厚度?？紤]到在示例性實施方式中使用的硅氮化物的厚度范圍，當ITO 的厚度是大約1200 A到大約1600 A時，得到最大的透射率。此外，在示例性實施方式中，由于第一和第二電極串130和135與第二連接圖案 137形成在觸摸屏面板的頂層，因此在后續(xù)的工序中沒有出現刮擦。圖15是例示了在對其中觸摸屏面板的頂部是絕緣層的區(qū)域A和其中所述觸摸屏面板的頂部是ITO的區(qū)域B執(zhí)行刮擦測試前后的結果的圖。在執(zhí)行刮擦測試后的結果中，在絕緣層的區(qū)域A中出現刮擦，但是在ITO的區(qū)域B中沒有出現刮擦。此外，由于形成在絕緣層與基板之間以連接第一電極圖案的第一連接圖案的厚度被形成為大約2000人到大約300 0人，因此可以得到良好的可加工性和適合的電阻值，并且由于將寬度設置為大約3 μ m到大約10 μ m,因此圖案并不可見。圖16是例示了根據本發(fā)明另一個實施方式的觸摸屏面板的截面圖。與圖6中示出的觸摸屏面板相似，圖16的觸摸屏面板包括基板100、形成在基板100上的第一連接圖案 110和第一導線112、形成在基板100上方的絕緣層121、用于露出第一連接圖案110的部分的第一和第二接觸孔121a和121b和用于露出第一導線112的一部分的第三接觸孔121c 以及用于露出第二導線114的一部分的第四接觸孔(未示出，但其與圖8A所示的120d相似)。在圖16的實施方式中，第一到第四接觸孔中的至少一個以使得接觸孔在深度(或軸的)方向上變窄的角度形成在絕緣層121中。在其它實施方式中，可以在深度(或軸的) 方向上拓寬接觸孔。至少一個接觸孔的側面與基板110的表面之間的角度例如可以是銳角或鈍角。在本發(fā)明的實施方式中，該角度可以介于大約30°到大約90°之間。此外，多個第一電極串130和多個第二電極串135形成在其中形成了第一到第四接觸孔的絕緣層121中。多個第一電極串130中的每一個都包括多個第一電極圖案131a， 并且可選擇地布置在第一方向(例如，χ軸方向)上。多個第二電極串135中的每一個都包括多個第二電極圖案(未示出)，并且可選擇地布置在與第一方向交叉的第二方向(例如， y軸方向)上。由于形成第一電極串130的第一電極圖案131a彼此分開，因此第一電極圖案131a與第一連接圖案110的通過在絕緣層121中形成的第一和第二接觸孔121a和121b 露出的部分相連，并且處于最外側的第一電極圖案131a與通過第三接觸孔121c露出的第一導線112相連。如圖16所示，多個第一電極圖案131a的部分形成在接觸孔121a、121b和121c中， 使得多個第一接觸孔131的部分被部分地填充在接觸孔121a、121b和121c中。例如，多個第一電極圖案131a的部分形成在接觸孔121a、121b和121c的側壁上、和第一連接圖案 110與第一導線112的露出部分上。因此，多個第一電極圖案131a的部分地填充在接觸孔 121a、121b和121c中的部分分別形成了空穴或空腔123a、123b和123c中的至少一個。另外，向空穴或空腔123a、123b和123c中的至少一個露出的第一電極圖案131a的表面可以與基板110形成角度，該角度可以是銳角或鈍角。在本發(fā)明的實施方式中，至少一個角度可以介于大約30°到大約90°之間。在本發(fā)明的實施方式中，空穴或空腔無需在一端開放。也就是說，至少一個空穴或空腔的開口可以被至少一個第一電極圖案的部分堵住。根據本發(fā)明的示例性實施方式的觸摸屏面板可以應用于諸如液晶顯示器、場發(fā)射顯示器、等離子體顯示板、電致發(fā)光設備、電泳顯示器和柔性顯示器的顯示設備。在這些情況下，觸摸屏面板的基板也可以被用作顯示設備的基板。盡管參照多個示例性實施方式描述了實施方式，應理解的是本領域技術人員可建議落入本公開的原理的精神和范圍內的許多其它修改和實施方式。更具體地，在本公開、附圖以及所附的權利要求的范圍內，在主題組合設置的組成部分和/或設置中可以做出各種變型和修改。除了組成部分和/或設置中的變型和修改之外，替換使用對于本領域技術人員也是明顯的。
權利要求
1.一種觸摸屏面板，該觸摸屏面板包括 基板；電極形成部，其包括形成在所述基板上的多個第一電極串和多個第二電極串，所述多個第一電極串被平行地布置在第一方向上，并且所述多個第二電極串被布置成與所述第一電極串交叉；導線形成部，其在所述基板上形成在所述電極形成部的外側位置處，并且包括分別與所述多個第一電極串相連的多條第一導線、和分別與所述多個第二電極串相連的多條第二導線；多個第一連接圖案，其與所述多條第一導線和所述多條第二導線形成在同一層上；以及絕緣層，其形成在所述多個第一電極串和所述多個第二電極串與所述基板之間，并且具有多個接觸孔以露出所述多個第一連接圖案的部分，其中，所述多個第一電極串中的每一個電極串包括多個第一電極圖案，并且所述多個第二電極串中的每一個電極串包括多個第二電極圖案，并且所述多個第一電極圖案被形成為分立的多個圖案，并且所述分立的多個圖案通過所述多個接觸孔和所述多個第一連接圖案而彼此相連。
2.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述多個第一連接圖案與所述多條第一導線和第二導線由相同材料形成。
3.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述多個第一連接圖案與所述多條第一導線和第二導線由不同材料形成。
4.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述多個第一連接圖案與所述多條第一導線和第二導線由Al、AlNd, Cu、Ag、Mo、MoTi和Cr中的一種形成。
5.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述多個第一電極圖案與所述多個第二電極圖案中的至少一方包括三角形、四邊形、菱形和多邊形中的一種形狀。
6.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述絕緣層包括硅氮化物，并且所述多個第一電極串與所述多個第二電極串包括透明導電材料。
7.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述絕緣層具有5000人到7000A的厚度。
8.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述多個第一連接圖案具有2000人到 3000A的厚度和3 μ m至IJ 10 μ m的寬度。
9.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述多個第二電極圖案被形成為相連的多個圖案，并且所述相連的多個圖案通過多個第二連接圖案而彼此相連。
10.根據權利要求1所述的觸摸屏面板，其中，所述多個第一電極圖案和第二電極圖案具有大約1200A到大約1600A的厚度。
11.根據權利要求ι所述的觸摸屏面板，其中，由所述多個第一電極圖案中的部分地填充在所述多個接觸孔中的部分形成空穴。
12.一種制造觸摸屏面板的方法，該方法包括以下步驟第一工序，用于在基板上同時形成多個第一連接圖案、多條第一導線、和多條第二導線；第二工序，用于在所述基板的整個表面上形成絕緣層并在所述絕緣層中形成用于露出所述多個第一連接圖案中的至少一個的部分的多個接觸孔；第三工序，用于在其中形成了所述多個接觸孔的所述絕緣層上形成多個第一電極串和多個第二電極串，所述多個第一電極串被平行地布置在第一方向上，并且所述多個第二電極串被平行地布置在與所述第一方向交叉的第二方向上。
13.根據權利要求12所述的方法，其中，所述第一工序包括以下步驟通過沉積工序在所述基板上沉積第一導電層，并且通過使用第一掩模的光刻工序和蝕刻工序對所述第一導電層進行構圖，來形成所述多個第一連接圖案、所述多條第一導線、和所述多條第二導線；所述第二工序包括以下步驟通過沉積工序形成所述絕緣層，并且通過使用第二掩模的光刻工序和蝕刻工序來形成所述多個接觸孔，所述多個接觸孔用于露出所述多個第一連接圖案中的所述至少一個的所述部分、所述多條第一導線中的至少一條的部分、和所述多條第二導線中的至少一條的部分；并且所述第三工序包括以下步驟通過沉積工序在其中形成了所述多個接觸孔的所述絕緣層上形成第二導電層，并且通過使用第三掩模的光刻工序和蝕刻工序對所述第二導電層進行構圖，來形成所述多個第一電極串和所述多個第二電極串。
14.根據權利要求12所述的方法，其中，所述多個第一連接圖案與所述多條第一導線和第二導線由Al、AlNd、Cu、Ag、Mo、MoTi和Cr中的一種形成。
15.根據權利要求12所述的方法，其中，所述多個第一電極圖案與所述多個第二電極圖案中的至少一方包括三角形、四邊形、菱形和多邊形中的一種形狀。
16.根據權利要求12所述的方法，其中，所述絕緣層包括硅氮化物，并且所述多個第一電極串與所述多個第二電極串包括透明導電材料。
17.根據權利要求12所述的方法，其中，所述絕緣層具有5000A到7000 A的厚度。
18.根據權利要求12所述的方法，其中，所述多個第一連接圖案具有2000A到3000A 的厚度和3 μ m至IJ 10 μ m的寬度。
19.根據權利要求12所述的方法，其中，所述多個第一電極圖案和第二電極圖案具有 1200A 至 IJ1600A 的厚度。
20.一種觸摸屏面板，該觸摸屏面板包括 基板；形成在所述基板上的多個第一連接圖案；絕緣層，其形成在所述基板上以覆蓋所述多個第一連接圖案，并且具有露出所述多個第一連接圖案的部分的多個接觸孔；以及形成在所述絕緣層上的多個第一電極和多個第二電極，所述多個第一電極被平行地布置在第一方向上，并且所述多個第二電極被布置在與所述第一方向交叉的第二方向上，其中，所述多個第一連接圖案中的至少一個連接圖案通過露出了所述多個第一連接圖案中的所述至少一個連接圖案的相應部分的所述多個接觸孔中的至少兩個接觸孔而與所述多個第一電極中的至少相鄰的一對相連，并且由所述多個第一電極中的所述至少相鄰的一對中的形成在所述多個接觸孔中的所述至少兩個接觸孔中的部分來形成至少一個空穴。
全文摘要
本發(fā)明涉及觸摸屏面板。一種觸摸屏面板包括形成在基板上的多個第一連接圖案；具有露出多個第一連接圖案的部分的多個接觸孔的絕緣層；和在絕緣層上形成的多個第一電極和多個第二電極，其中，多個第一連接圖案中的至少一個通過露出了多個第一連接圖案的中的至少一個的相應部分的多個接觸孔中的至少兩個與多個第一電極中的至少相鄰的一對相連，并且由多個第一電極中的至少相鄰的一對的形成在多個接觸孔中的至少兩個中的部分形成至少一個空穴。
文檔編號G06F3/044GK102156563SQ20101054255
公開日2011年8月17日 申請日期2010年11月10日 優(yōu)先權日2010年2月11日
發(fā)明者姜熙光, 安秀昌, 鄭江燮, 黃相守 申請人:樂金顯示有限公司