專利名稱：可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種影像擷取模塊，尤指一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊。
背景技術(shù)：
個(gè)人的指紋為一有別于其他人的指紋的獨(dú)有的生物特征，因此個(gè)人指紋應(yīng)用于個(gè) 人密碼時(shí)，其所具備的安全性非常高。由于電子設(shè)備的使用普及與其儲存容量的增加，儲存 于其內(nèi)的個(gè)人資料的保護(hù)更顯為重要。因此，以個(gè)人指紋作為管制電子設(shè)備的開啟或使用 的密碼，將能夠有效地管理個(gè)人資料。上述的電子設(shè)備，如移動(dòng)電話、計(jì)算機(jī)主機(jī)、和各種計(jì) 算機(jī)外設(shè)等等，其借助于一指紋掃瞄裝置來擷取其用戶的指紋以進(jìn)行認(rèn)證的工作。該指紋 掃瞄裝置內(nèi)的指紋影像被轉(zhuǎn)換成數(shù)字指紋信息后，尚需傳輸至該電子設(shè)備的控制器中，才 能發(fā)揮其指紋認(rèn)證的功效。 請參閱圖1所示，其為公知影像擷取模塊的示意圖。由圖中可知，公知影像擷取模 塊包括一 電路板P、 一電性地設(shè)置于該電路板P上的影像傳感器S、 一電性地設(shè)置于該電路 板P上的發(fā)光二極管D、一設(shè)置于該影像傳感器S上方的聚光透鏡G、及一設(shè)置于該發(fā)光二 極管D上方的導(dǎo)光元件T。公知影像擷取模塊的影像擷取原理為由該發(fā)光二極管D所產(chǎn) 生的光束L通過該導(dǎo)光元件T的導(dǎo)引而形成一投向位于該聚光透鏡G上方的物體F的投射 光束L'，然后該投射光束L'通過該物體F的反射而形成一投向該聚光透鏡G的反射光束 L〃 ，最后該反射光束L〃穿過該聚光透鏡G并且投向該影像傳感器S，以用于擷取該物體F 中某一面的影像信息。 于是，發(fā)明人有感上述缺失的可改善，且依據(jù)多年來從事此方面的相關(guān)經(jīng)驗(yàn)，悉心 觀察且研究，并配合學(xué)理的運(yùn)用，而提出一種設(shè)計(jì)合理且有效改善上述缺陷的本實(shí)用新型。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題，在于提供一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模
塊，其可省去公知影像擷取模塊內(nèi)的導(dǎo)光元件的使用，以達(dá)到簡化光學(xué)組件的優(yōu)勢。 為了解決上述技術(shù)問題，根據(jù)本實(shí)用新型的其中一種方案，提供一種可簡化光學(xué)
組件的影像擷取模塊，其包括一第一基板單元、一影像擷取單元、一光學(xué)成像單元、一第二
基板單元、一發(fā)光單元及一外蓋單元。其中，該影像擷取單元具有至少一電性地設(shè)置于該第
一基板單元上的影像擷取元件。該光學(xué)成像單元設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該影像 擷取單元，其中該光學(xué)成像單元具有一遮光本體及一連結(jié)于該遮光本體且位于該影像擷取
單元上方的聚光元件，并且該遮光本體的外表面具有至少一傾斜面。該第二基板單元設(shè)置 于該遮光本體的外表面上并且電性連接于該第一基板單元，其中該第二基板單元具有一設(shè) 置于該遮光本體的傾斜面上的傾斜基板。該發(fā)光單元具有至少一電性地設(shè)置于該第二基板 單元的傾斜基板上的發(fā)光元件。該外蓋單元設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像 單元、該第二基板單元及該發(fā)光單元，其中該外蓋單元內(nèi)表面具有至少一反射層，并且該外 蓋單元的上表面具有一位于該聚光元件上方且提供物體放置其上的透光元件。
5[0007] 借此，由上述至少一發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束通過上述至少一反射層的反射而形成 一投向位于該透光元件上的物體的第一反射光束，然后該第一反射光束通過該物體的反射 而形成一投向該聚光元件的第二反射光束，最后該第二反射光束穿過該聚光元件并且投向 該影像擷取元件。 為了解決上述技術(shù)問題，根據(jù)本實(shí)用新型的其中一種方案，提供一種可簡化光學(xué) 組件的影像擷取模塊，其包括一第一基板單元、一影像擷取單元、一光學(xué)成像單元、一第二 基板單元、一發(fā)光單元及一外蓋單元。其中，該影像擷取單元具有至少一電性地設(shè)置于該第
一基板單元上的影像擷取元件。該光學(xué)成像單元設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該影像 擷取單元，其中該光學(xué)成像單元具有一遮光本體及一連結(jié)于該遮光本體且位于該影像擷取
單元上方的聚光元件，并且該遮光本體的外表面具有至少一第一傾斜面及至少一第二傾斜 面。該第二基板單元設(shè)置于該遮光本體的外表面上并且電性連接于該第一基板單元，其中 該第二基板單元具有一設(shè)置于該遮光本體的第一傾斜面上的第一傾斜基板及一設(shè)置于該 遮光本體的第二傾斜面上的第二傾斜基板。該發(fā)光單元具有至少一電性地設(shè)置于該第二基 板單元的第一傾斜基板上的第一發(fā)光元件及至少一電性地設(shè)置于該第二基板單元的第二 傾斜基板上的第二發(fā)光元件。該外蓋單元設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單 元、該第二基板單元及該發(fā)光單元，其中該外蓋單元內(nèi)表面具有至少一第一反射層及至少 一第二反射層，并且該外蓋單元的上表面具有一位于該聚光元件上方且提供物體放置其上 的透光元件。 借此，由該第一發(fā)光元件及該第二發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束分別通過該第一反射層 及該第二反射層的反射而分別形成兩道投向位于該透光元件上的物體的第一反射光束，然 后上述兩道第一反射光束分別通過該物體的反射而匯合成一投向該聚光元件的第二反射 光束，最后該第二反射光束穿過該聚光元件并且投向該影像擷取元件。 為了解決上述技術(shù)問題，根據(jù)本實(shí)用新型的其中一種方案，提供一種可簡化光學(xué) 組件的影像擷取模塊，其包括一第一基板單元、一影像擷取單元、一光學(xué)成像單元、一第二 基板單元、一發(fā)光單元及一外蓋單元。其中，該影像擷取單元具有至少一電性地設(shè)置于該第 一基板單元上的影像擷取元件。該光學(xué)成像單元設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該影像 擷取單元。該第二基板單元設(shè)置于該光學(xué)成像單元的外表面上并且電性連接于該第一基板 單元。該發(fā)光單元具有至少一電性地設(shè)置于該第二基板單元上的發(fā)光元件。該外蓋單元設(shè) 置于該第一基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元、該第二基板單元及該發(fā)光單元，其中該 外蓋單元內(nèi)表面具有至少一反射層，并且該外蓋單元的上表面具有一提供物體放置其上的 透光元件。 借此，由上述至少一發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束通過上述至少一反射層的反射而形成 一投向位于該透光元件上的物體的第一反射光束，然后該第一反射光束通過該物體的反射 而形成一投向該光學(xué)成像單元的第二反射光束，最后該第二反射光束穿過該光學(xué)成像單元 的透光區(qū)域并且投向該影像擷取元件。 為了解決上述技術(shù)問題，根據(jù)本實(shí)用新型的其中一種方案，提供一種可簡化光學(xué) 組件的影像擷取模塊，其包括一第一基板單元、一影像擷取單元、一光學(xué)成像單元、一外蓋 單元、一第二基板單元及一發(fā)光單元。該影像擷取單元具有至少一電性地設(shè)置于該第一基 板單元上的影像擷取元件。該光學(xué)成像單元設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元，其中該光學(xué)成像單元的外表面具有至少一反射層。該外蓋單元設(shè)置于該第一基板單 元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元，其中該外蓋單元內(nèi)表面具有至少一傾斜面，并且該外蓋單 元的上表面具有一位于該光學(xué)成像單元上方且提供物體放置其上的透光元件。該第二基板 單元設(shè)置于該外蓋單元的傾斜面上并且電性連接于該第一基板單元。該發(fā)光單元具有至少 一電性地設(shè)置于該第二基板單元上的發(fā)光元件。 借此，由上述至少一發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束通過上述至少一反射層的反射而形成 一投向位于該透光元件上的物體的第一反射光束，然后該第一反射光束通過該物體的反射 而形成一投向該光學(xué)成像單元的第二反射光束，最后該第二反射光束穿過該光學(xué)成像單元 并且投向該影像擷取元件。 為了解決上述技術(shù)問題，根據(jù)本實(shí)用新型的其中一種方案，提供一種可簡化光學(xué) 組件的影像擷取模塊，其包括一基板單元、一影像擷取單元、一光學(xué)成像單元、一發(fā)光單元 及一外蓋單元。該影像擷取單元具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元上的影像擷取元件。 該光學(xué)成像單元設(shè)置于該基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元，其中該光學(xué)成像單元的外 表面具有至少一傾斜面，并且該基板單元的一末端電性地設(shè)置于上述至少一傾斜面上。該 發(fā)光單元具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元的一末端上且位于上述至少一傾斜面上方
的發(fā)光元件。該外蓋單元設(shè)置于該基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元及該發(fā)光單元，其 中該外蓋單元的上表面具有一位于該光學(xué)成像單元上方且提供物體放置其上的透光元件， 并且上述至少一發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束直接投向該透光元件； 借此，該光束通過該物體的反射而形成一投向該光學(xué)成像單元的反射光束，最后 該反射光束穿過該光學(xué)成像單元并且投向該影像擷取元件。 本發(fā)明還提供一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，包括一基板單元；一影像 擷取單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元上的影像擷取元件；一光學(xué)成像單元，其
設(shè)置于該基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元，其中該光學(xué)成像單元的外表面具有至少一 傾斜面，并且該基板單元的一末端電性地設(shè)置于上述至少一傾斜面上；一發(fā)光單元，其具有 至少一電性地設(shè)置于該基板單元的一末端上且位于上述至少一傾斜面上方的發(fā)光元件；以 及一外蓋單元，其設(shè)置于該基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元及該發(fā)光單元，其中該外 蓋單元的上表面具有一位于該光學(xué)成像單元上方且提供物體放置其上的透光元件，并且上 述至少一發(fā)光組件所產(chǎn)生的光束直接投向該透光元件；借此，該光束通過該物體的反射而 形成一投向該光學(xué)成像單元的反射光束，最后該反射光束穿過該光學(xué)成像單元并且投向該 影像擷取元件。 因此，本實(shí)用新型的有益效果在于本實(shí)用新型至少可配合該外蓋單元內(nèi)表面的 反射層與設(shè)置于該光學(xué)成像單元上的發(fā)光單元的設(shè)計(jì)，以使得該影像擷取單元可輕易擷取 一物體中某一面的影像信息。因此，本實(shí)用新型可省去公知影像擷取模塊內(nèi)的導(dǎo)光元件的 使用，以達(dá)到簡化光學(xué)組件的優(yōu)勢。 為了能更進(jìn)一步了解本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定目的所采取的技術(shù)、手段及功效，請 參閱以下有關(guān)本實(shí)用新型的詳細(xì)說明與附圖，相信本實(shí)用新型的目的、特征與特點(diǎn)，當(dāng)可由 此得一深入且具體的了解，然而所附附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本實(shí)用新型加 以限制。
圖1為公知影像擷取模塊的示意圖； 圖2為本實(shí)用新型可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的第一實(shí)施例的剖面示意圖； 圖3為本實(shí)用新型可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的第二實(shí)施例的剖面示意圖； 圖4A為本實(shí)用新型可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的另一種光學(xué)成像單元的剖 面示意圖； 圖4B為本實(shí)用新型可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的另一種光學(xué)成像單元的剖 面示意圖； 圖5為本實(shí)用新型可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的第三實(shí)施例的剖面示意圖； 圖6為本實(shí)用新型可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的第四實(shí)施例的剖面示意圖； 圖7為本實(shí)用新型可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的第五實(shí)施例的剖面示意圖； 以及 圖8為本實(shí)用新型可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊的第六實(shí)施例的剖面示意圖。主要元件附圖標(biāo)記說明[公知]電路板 P影像傳感器s發(fā)光二極管D聚光透鏡 G導(dǎo)光元件 T物體 F光束 L投射光束 L'反射光束 L〃[本實(shí)用新型]基板單元 1第一基板單元1影像擷取單元2影像擷取元件20[0043]光學(xué)成像單元3遮光本體30聚光元件31透光區(qū)域32穿孔H透光體T傾斜面300第一傾斜面300a第二傾斜面300b延伸面301第一延伸面301a第二延伸面301b
8[0054]反射層302第二基板單元4傾斜基板40第一傾斜基板40a第二傾斜基板40b延伸基板41第一延伸基板41a第二延伸基板41b平面基板42第一平面基板42a第二平面基板42b發(fā)光單元5發(fā)光元件50第一發(fā)光元件50a第二發(fā)光元件50b外蓋單元6反射層60傾斜面600第一反射層60a第二反射層60b透光元件61物體F光束反射光束第一反射光束LI第二反射光束L具體實(shí)施方式請參閱圖2所示，本實(shí)用新型第一實(shí)施例提供一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模 塊，其包括一第一基板單元1、一影像擷取單元2、一光學(xué)成像單元3、一第二基板單元4、一 發(fā)光單元5及一外蓋單元6。 其中，該第一基板單元1與該第二基板單元4皆可為電路板。然而，上述該第一基
板單元1與該第二基板單元4皆可為電路板的界定非用以限定本實(shí)用新型，舉凡任何具有
導(dǎo)電軌跡的基板皆可應(yīng)用于本實(shí)用新型，且為本實(shí)用新型所保護(hù)的范疇。 再者，該影像擷取單元2具有至少一電性地設(shè)置于該第一基板單元1上的影像擷
取元件20 (因此該影像擷取元件20所需要的數(shù)量可依據(jù)不同的設(shè)計(jì)需求來做調(diào)整)，并且
該影像擷取元件20可為一影像傳感器。此外，該影像傳感器可鏈接于一分析軟件(圖未
示)，以用于判斷所擷取到的影像信息。 另外，該光學(xué)成像單元3 (該光學(xué)成像單元3具有防雜散光的功能)設(shè)置于該第一 基板單元1上并且覆蓋該影像擷取單元2，其中該光學(xué)成像單元3具有一遮光本體30 (例如 在該遮光本體30的外表面涂上遮光層，即可達(dá)到防雜散光的效果)及一連結(jié)于該遮光本體 30且位于該影像擷取單元2上方的聚光元件31 (因此該遮光本體30與該聚光元件31可為 一體成型式)，并且該聚光元件31可為一用于將光線聚焦的聚光透鏡，該遮光本體30的外表面具有至少一傾斜面300(該傾斜面300可為傾斜平面、傾斜曲面或任意曲面，因此該發(fā) 光單元5可以是化學(xué)熒光層貼附于該傾斜面300上)。此外，該遮光本體30的外表面具有 至少一從上述至少一傾斜面300向下延伸至該第一基板單元l的延伸面301。因此，通過該 光學(xué)成像單元3的使用，以確保該影像擷取單元2只會從特定的方向接收到光源(其它外 來的雜散光會被該光學(xué)成像單元3給遮擋掉)，而使得該影像擷取單元2能擷取到較精確的 影像信息。 再者，該第二基板單元4設(shè)置于該遮光本體30的外表面上并且電性連接于該第一 基板單元1。舉例來說，該第二基板單元4具有一設(shè)置于該遮光本體30的傾斜面300上的 傾斜基板40，另外該第二基板單元4更進(jìn)一步具有一從該傾斜基板40向下延伸且設(shè)置于該 延伸面301上的延伸基板41及一從該延伸基板41向外彎折且電性連接于該第一基板單元 1的平面基板42。 另外，該發(fā)光單元5具有至少一電性地設(shè)置于該第二基板單元4的傾斜基板40上 的發(fā)光元件50，并且上述至少一發(fā)光元件50可為一發(fā)光二極管。然而，上述發(fā)光二極管的 界定只是用來舉例而已，凡任何的發(fā)光元件皆可應(yīng)用于本實(shí)用新型。 此外，該外蓋單元6設(shè)置于該第一基板單元1上并且覆蓋該光學(xué)成像單元3、該第 二基板單元4及該發(fā)光單元5，其中該外蓋單元6內(nèi)表面具有至少一反射層60，并且該外蓋 單元6的上表面具有一位于該聚光元件31上方且提供物體F放置其上的透光元件61 (例 如透明玻璃)。換言之，用戶可將該物體F中欲感測的那一面(例如手指的指紋)放置于 該透光元件61上，以進(jìn)行那一面的影像感測。另外，依據(jù)不同的設(shè)計(jì)需求，上述至少一反射 層60可為一貼附于該外蓋單元6內(nèi)表面上的反射元件或?yàn)橐煌坎加谠撏馍w單元6內(nèi)表面 上的反射鍍膜。 借此，由上述至少一發(fā)光元件50所產(chǎn)生的光束L通過上述至少一反射層60的反 射而形成一投向位于該透光元件61上的物體F的第一反射光束Ll，然后該第一反射光束 Ll通過該物體F的反射而形成一投向該聚光元件31的第二反射光束L2，最后該第二反射 光束L2穿過該聚光元件31并且投向該影像擷取元件20，以用于擷取該物體F中某一面的 影像信息。 請參閱圖3所示，本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模 塊，其包括一第一基板單元1、一影像擷取單元2、一光學(xué)成像單元3、一第二基板單元4、一 發(fā)光單元5及一外蓋單元6。 由圖2與圖3的比較可知，第二實(shí)施例與第一實(shí)施例最大的差別在于該遮光本體 30的外表面具有至少一第一傾斜面300a及至少一第二傾斜面300b，該第二基板單元4具 有一設(shè)置于該遮光本體30的第一傾斜面300a上的第一傾斜基板40a及一設(shè)置于該遮光本 體30的第二傾斜面300b上的第二傾斜基板40b，該發(fā)光單元5具有至少一電性地設(shè)置于該 第二基板單元4的第一傾斜基板40a上的第一發(fā)光元件50a及至少一電性地設(shè)置于該第二 基板單元4的第二傾斜基板40b上的第二發(fā)光元件50b，并且該外蓋單元6內(nèi)表面具有至少 一第一反射層60a及至少一第二反射層60b。 其中，該遮光本體30的外表面具有至少一從該第一傾斜面300a向下延伸至該第 一基板單元1的第一延伸面301a，并且該第二基板單元4具有一從該第一傾斜基板40a向 下延伸且設(shè)置于該第一延伸面301a上的第一延伸基板41a及一從該第一延伸基板41a向外彎折且電性連接于該第一基板單元l的第一平面基板42a。另外，該遮光本體30的外表面具有至少一從該第二傾斜面300b向下延伸至該第一基板單元1的第二延伸面301b，并且該第二基板單元4具有一從該第二傾斜基板40b向下延伸且設(shè)置于該第二延伸面301b上的第二延伸基板41b及一從該第二延伸基板41b向外彎折且電性連接于該第一基板單元1的第二平面基板42b。 另外，該第一發(fā)光元件50a及該第二發(fā)光元件50b皆可為發(fā)光二極管。該第一反射層60a可為一貼附于該外蓋單元6內(nèi)表面上的第一反射元件或?yàn)橐煌坎加谠撏馍w單元6內(nèi)表面上的第一反射鍍膜，并且該第二反射層60b可為一貼附于該外蓋單元6內(nèi)表面上的第二反射元件或?yàn)橐煌坎加谠撏馍w單元6內(nèi)表面上的第二反射鍍膜。 借此，由該第一發(fā)光元件50a及該第二發(fā)光元件50b所產(chǎn)生的光束L分別通過該第一反射層60a及該第二反射層60b的反射而分別形成兩道投向位于該透光元件61上的物體F的第一反射光束LI ，然后上述兩道第一反射光束LI分別通過該物體F的反射而匯合成一投向該聚光元件31的第二反射光束L2，最后該第二反射光束L 2穿過該聚光元件31并且投向該影像擷取元件20，以用于擷取該物體F中某一面的影像信息。[0089] 請參閱圖4A及圖4B所示，當(dāng)然本實(shí)用新型亦可省略該聚光元件31的使用，而以該光學(xué)成像單元3的透光區(qū)域32來取代。例如在圖4A中，該透光區(qū)域32為一單純穿孔H ;或者，在第四B可中，該透光區(qū)域32為一填入穿孔H內(nèi)的透光體T。因此，上述第二反射光束L2可穿過該光學(xué)成像單元3的透光區(qū)域32并且投向該影像擷取元件20。[0090] 請參閱圖5所示，第三實(shí)施例與上述實(shí)施例最大的差別在于在第三實(shí)施例中，上述至少一發(fā)光元件50所產(chǎn)生的光束L可直接投向該透光元件61 。借此，該光束L通過該物體F的反射而形成一投向該光學(xué)成像單元3的反射光束L'，最后該反射光束L'穿過該光學(xué)成像單元3并且投向該影像擷取元件20。 請參閱圖6所示，第四實(shí)施例與第一實(shí)施例最大的差別在于在第四實(shí)施例中，該光學(xué)成像單元3的外表面具有至少一反射層302。該外蓋單元6內(nèi)表面具有至少一傾斜面600。該第二基板單元4設(shè)置于該外蓋單元6的傾斜面600上并且電性連接于該第一基板單元1。借此，由上述至少一發(fā)光元件50所產(chǎn)生的光束L通過上述至少一反射層302的反射而形成一投向位于該透光元件61上的物體F的第一反射光束LI (該光束L如虛線所示亦可直接投向位于該透光元件61上的物體F)，然后該第一反射光束L1通過該物體F的反射而形成一投向該光學(xué)成像單元3的第二反射光束L2，最后該第二反射光束L 2穿過該光學(xué)成像單元3并且投向該影像擷取元件2。 請參閱圖7所示，本實(shí)用新型第五實(shí)施例提供一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其包括一基板單元1、一影像擷取單元2、一光學(xué)成像單元3、一發(fā)光單元5及一外蓋單元6。該影像擷取單元2具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元1上的影像擷取元件20。該光學(xué)成像單元3設(shè)置于該基板單元1上并且覆蓋該影像擷取單元2，其中該光學(xué)成像單元3的外表面具有至少一傾斜面300，并且該基板單元1的一末端電性地設(shè)置于上述至少一傾斜面300上。該發(fā)光單元5具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元1的一末端上且位于上述至少一傾斜面300上方的發(fā)光元件50。該外蓋單元6設(shè)置于該基板單元1上并且覆蓋該光學(xué)成像單元3及該發(fā)光單元5，其中該外蓋單元6內(nèi)表面具有至少一反射層60，并且該外蓋單元6的上表面具有一位于該光學(xué)成像單元3上方且提供物體F放置其上的透光元件61。[0093] 借此，由上述至少一發(fā)光元件50所產(chǎn)生的光束L通過上述至少一反射層60的反 射而形成一投向位于該透光元件61上的物體F的第一反射光束Ll，然后該第一反射光束 Ll通過該物體F的反射而形成一投向該光學(xué)成像單元3的第二反射光束L2，最后該第二反 射光束L2穿過該光學(xué)成像單元3并且投向該影像擷取元件20。 請參閱圖8所示，第六實(shí)施例與第五實(shí)施例最大的差別在于在第六實(shí)施例中，上 述至少一發(fā)光元件50所產(chǎn)生的光束L可直接投向該透光元件61 。借此，該光束L通過該物 體F的反射而形成一投向該光學(xué)成像單元3的反射光束L'，最后該反射光束L'穿過該光 學(xué)成像單元3并且投向該影像擷取元件20。 綜上所述，本實(shí)用新型至少可配合該外蓋單元內(nèi)表面的反射層與設(shè)置于該光學(xué)成 像單元上的發(fā)光單元的設(shè)計(jì)，以使得該影像擷取單元可輕易擷取一物體中某一面的影像信 息。因此，本實(shí)用新型可省去公知影像擷取模塊內(nèi)的導(dǎo)光元件的使用，以達(dá)到簡化光學(xué)組件 的優(yōu)勢。 但是，本實(shí)用新型的所有范圍應(yīng)以權(quán)利要求為準(zhǔn)，凡合于本實(shí)用新型權(quán)利要求的 精神與其類似變化的實(shí)施例，皆應(yīng)包含于本實(shí)用新型的范疇中，任何本領(lǐng)域普通技術(shù)人員 可輕易思及變化或修改皆可涵蓋在以下本案權(quán)利要求的范圍。
1權(quán)利要求一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于，包括一第一基板單元；一影像擷取單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該第一基板單元上的影像擷取元件；一光學(xué)成像單元，其設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元，其中該光學(xué)成像單元具有一遮光本體及一連結(jié)于該遮光本體且位于該影像擷取單元上方的聚光元件，并且該遮光本體的外表面具有至少一傾斜面；一第二基板單元，其設(shè)置于該遮光本體的外表面上并且電性連接于該第一基板單元，其中該第二基板單元具有一設(shè)置于該遮光本體的傾斜面上的傾斜基板；一發(fā)光單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該第二基板單元的傾斜基板上的發(fā)光元件；以及一外蓋單元，其設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元、該第二基板單元及該發(fā)光單元，其中該外蓋單元內(nèi)表面具有至少一反射層，并且該外蓋單元的上表面具有一位于該聚光元件上方且提供物體放置其上的透光元件；借此，由上述至少一發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束通過上述至少一反射層的反射而形成一投向位于該透光元件上的物體的第一反射光束，然后該第一反射光束通過該物體的反射而形成一投向該聚光元件的第二反射光束，最后該第二反射光束穿過該聚光元件并且投向該影像擷取元件。
2. 如權(quán)利要求1所述的可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于該遮光本體的外表面具有至少一從上述至少一傾斜面向下延伸至該第一基板單元的延伸面，并且該第二 基板單元具有一從該傾斜基板向下延伸且設(shè)置于該延伸面上的延伸基板及一從該延伸基板向外彎折且電性連接于該第一基板單元的平面基板。
3. —種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于，包括 一第一基板單元；一影像擷取單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該第一基板單元上的影像擷取元件； 一光學(xué)成像單元，其設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元，其中該光學(xué) 成像單元具有一遮光本體及一連結(jié)于該遮光本體且位于該影像擷取單元上方的聚光元件，并且該遮光本體的外表面具有至少一第一傾斜面及至少一第二傾斜面；一第二基板單元，其設(shè)置于該遮光本體的外表面上并且電性連接于該第一基板單元， 其中該第二基板單元具有一設(shè)置于該遮光本體的第一傾斜面上的第一傾斜基板及一設(shè)置 于該遮光本體的第二傾斜面上的第二傾斜基板；一發(fā)光單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該第二基板單元的第一傾斜基板上的第一發(fā) 光元件及至少一電性地設(shè)置于該第二基板單元的第二傾斜基板上的第二發(fā)光元件；以及一外蓋單元，其設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元、該第二基板單元 及該發(fā)光單元，其中該外蓋單元內(nèi)表面具有至少一第一反射層及至少一第二反射層，并且 該外蓋單元的上表面具有一位于該聚光元件上方且提供物體放置其上的透光元件；借此，由該第一發(fā)光元件及該第二發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束分別通過該第一反射層及該 第二反射層的反射而分別形成兩道投向位于該透光元件上的物體的第一反射光束，然后上 述兩道第一反射光束分別通過該物體的反射而匯合成一投向該聚光元件的第二反射光束， 最后該第二反射光束穿過該聚光元件并且投向該影像擷取元件。
4. 一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于，包括 一第一基板單元；一影像擷取單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該第一基板單元上的影像擷取元件； 一光學(xué)成像單元，其設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元； 一第二基板單元，其設(shè)置于該光學(xué)成像單元的外表面上并且電性連接于該第一基板單元；一發(fā)光單元，其具有至少一 電性地設(shè)置于該第二基板單元上的發(fā)光元件；以及一外蓋單元，其設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元、該第二基板單元 及該發(fā)光單元，其中該外蓋單元的上表面具有一提供物體放置其上的透光元件，并且上述至少一發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束直接投向該透光元件；借此，該光束通過該物體的反射而形成一投向該光學(xué)成像單元的反射光束，最后該反 射光束穿過該光學(xué)成像單元的透光區(qū)域并且投向該影像擷取元件。
5. 如權(quán)利要求4所述的可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于該光學(xué)成像單 元的外表面具有至少一傾斜面，該第二基板單元具有一設(shè)置于該光學(xué)成像單元的傾斜面上 的傾斜基板，該光學(xué)成像單元的外表面具有至少一從上述至少一傾斜面向下延伸至該第一 基板單元的延伸面，并且該第二基板單元具有一從該傾斜基板向下延伸且設(shè)置于該延伸面 上的延伸基板及一從該延伸基板向外彎折且電性連接于該第一基板單元的平面基板。
6. 如權(quán)利要求4所述的可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于該光學(xué)成像單 元的透光區(qū)域?yàn)橐淮┛住?br> 7. 如權(quán)利要求4所述的可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于該光學(xué)成像單 元的透光區(qū)域由一穿孔及一填入該穿孔內(nèi)的透光體所組成。
8. —種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于，包括 一第一基板單元；一影像擷取單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該第一基板單元上的影像擷取元件；一光學(xué)成像單元，其設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元，其中該光學(xué) 成像單元的外表面具有至少一反射層；一外蓋單元，其設(shè)置于該第一基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元，其中該外蓋單元 內(nèi)表面具有至少一傾斜面，并且該外蓋單元的上表面具有一位于該光學(xué)成像單元上方且提 供物體放置其上的透光元件；一第二基板單元，其設(shè)置于該外蓋單元的傾斜面上并且電性連接于該第一基板單元；以及一發(fā)光單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該第二基板單元上的發(fā)光元件； 借此，由上述至少一發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束通過上述至少一反射層的反射而形成一投 向位于該透光元件上的物體的第一反射光束，然后該第一反射光束通過該物體的反射而形 成一投向該光學(xué)成像單元的第二反射光束，最后該第二反射光束穿過該光學(xué)成像單元并且 投向該影像擷取元件。
9. 一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于，包括 一基板單元；一影像擷取單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元上的影像擷取元件；一光學(xué)成像單元，其設(shè)置于該基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元，其中該光學(xué)成像 單元的外表面具有至少一傾斜面，并且該基板單元的一末端電性地設(shè)置于上述至少一傾斜 面上；一發(fā)光單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元的一末端上且位于上述至少一傾 斜面上方的發(fā)光元件；以及一外蓋單元，其設(shè)置于該基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元及該發(fā)光單元，其中該 外蓋單元內(nèi)表面具有至少一反射層，并且該外蓋單元的上表面具有一位于該光學(xué)成像單元 上方且提供物體放置其上的透光元件；借此，由上述至少一發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束通過上述至少一反射層的反射而形成一投 向位于該透光元件上的物體的第一反射光束，然后該第一反射光束通過該物體的反射而形 成一投向該光學(xué)成像單元的第二反射光束，最后該第二反射光束穿過該光學(xué)成像單元并且 投向該影像擷取元件。
10. —種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其特征在于，包括一基板單元；一影像擷取單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元上的影像擷取元件； 一光學(xué)成像單元，其設(shè)置于該基板單元上并且覆蓋該影像擷取單元，其中該光學(xué)成像單元的外表面具有至少一傾斜面，并且該基板單元的一末端電性地設(shè)置于上述至少一傾斜面上；一發(fā)光單元，其具有至少一電性地設(shè)置于該基板單元的一末端上且位于上述至少一傾 斜面上方的發(fā)光元件；以及一外蓋單元，其設(shè)置于該基板單元上并且覆蓋該光學(xué)成像單元及該發(fā)光單元，其中該 外蓋單元的上表面具有一位于該光學(xué)成像單元上方且提供物體放置其上的透光元件，并且 上述至少一發(fā)光組件所產(chǎn)生的光束直接投向該透光元件；借此，該光束通過該物體的反射而形成一投向該光學(xué)成像單元的反射光束，最后該反 射光束穿過該光學(xué)成像單元并且投向該影像擷取元件。
專利摘要一種可簡化光學(xué)組件的影像擷取模塊，其包括一第一基板單元、一影像擷取單元、一光學(xué)成像單元、一第二基板單元、一發(fā)光單元及一外蓋單元；第二基板單元設(shè)置于光學(xué)成像單元的外表面上并電性連接于第一基板單元；發(fā)光單元具有一電性地設(shè)置于第二基板單元上的發(fā)光元件；外蓋單元內(nèi)表面具有至少一反射層；借此，由發(fā)光元件所產(chǎn)生的光束通過反射層的反射而形成一投向物體的第一反射光束，然后第一反射光束通過物體的反射而形成一投向光學(xué)成像單元的第二反射光束，最后第二反射光束穿過光學(xué)成像單元的透光區(qū)域并且投向影像擷取元件。本實(shí)用新型可省去公知影像擷取模塊內(nèi)的導(dǎo)光元件的使用，以達(dá)到簡化光學(xué)組件的優(yōu)勢。
文檔編號G06K9/20GK201522711SQ20092017795
公開日2010年7月7日 申請日期2009年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月25日
發(fā)明者許志行, 陳知堅(jiān) 申請人:海華科技股份有限公司