專利名稱:光學(xué)觸控裝置、光學(xué)觸控顯示裝置及光源模塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種觸控顯示裝置、觸控裝置及光源,且尤其涉及一種光學(xué)觸控顯示 裝置、光學(xué)觸控裝置及光源模塊。
背景技術(shù):
近年來(lái),隨著信息技術(shù)、無(wú)線移動(dòng)通訊和信息家電等各項(xiàng)應(yīng)用的快速發(fā)展,為了達(dá) 到更便利、體積更輕巧化,以及更人性化的目的,許多信息產(chǎn)品的輸入裝置已由傳統(tǒng)的鍵 盤(pán)或鼠標(biāo)等轉(zhuǎn)變?yōu)橛|控面板(touch panel),此觸控面板與顯示器結(jié)合成觸控面板顯示器 (touch panel display)。在現(xiàn)今一般的觸控面板設(shè)計(jì)大致可區(qū)分為電阻式、電容式、光學(xué) 式、聲波式以及電磁式等。電阻式觸控面板主要是藉由單點(diǎn)按壓的壓力,使得原本分開(kāi)的導(dǎo)電層相互接觸而 導(dǎo)通,因而在導(dǎo)通處產(chǎn)生電壓降(voltage drop),經(jīng)由測(cè)量電壓降的位置就可以判斷按壓 處位于面板上的坐標(biāo)。電容式觸控面板主要是在其內(nèi)外側(cè)導(dǎo)電層產(chǎn)生均勻的電場(chǎng),因此當(dāng) 導(dǎo)體(如人類的手指)與之接觸時(shí)會(huì)產(chǎn)生靜電結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生微小的電容變化,經(jīng)由測(cè)量電 容變化的位置,可以判斷按壓處位于面板上的坐標(biāo)。此外,中國(guó)臺(tái)灣專利申請(qǐng)第981291M號(hào)揭露了一種光學(xué)式觸控裝置,此種光學(xué)式 觸控裝置的特征在于屏幕的至少一側(cè)設(shè)置對(duì)應(yīng)的導(dǎo)光條、非可見(jiàn)光源及光傳感器。當(dāng)使用 者觸控某位置時(shí),光傳感器可檢測(cè)到此位置無(wú)光源信號(hào),以作為觸控位置的辨識(shí)。中國(guó)臺(tái)灣專利公開(kāi)第200700797號(hào)揭露一種發(fā)光模塊,包括導(dǎo)光板、發(fā)光體及吸 光材料。此外中國(guó)臺(tái)灣專利公開(kāi)第200841227號(hào)揭露了一種光學(xué)觸控裝置,包括光源、導(dǎo)光 模塊及影像感測(cè)模塊。光源的作用是將光投射至導(dǎo)光模塊內(nèi),導(dǎo)光模塊的作用是將輸入裝 置的移動(dòng)狀態(tài)傳達(dá)給影像感測(cè)模塊。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種光學(xué)觸控裝置,具有良好的觸控位置判斷準(zhǔn)確度。本發(fā)明提供一種光學(xué)觸控顯示裝置,具有良好的觸控位置判斷準(zhǔn)確度。本發(fā)明提供一種光源模塊,具有均勻的出光強(qiáng)度。本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點(diǎn)可以從本發(fā)明所揭露的技術(shù)特征中得到進(jìn)一步的了解。為達(dá)上述的一或部分或全部目的或是其它目的,本發(fā)明的一實(shí)施例提出一種光學(xué) 觸控裝置,其適用于顯示器。顯示器具有顯示面。光學(xué)觸控裝置包括至少一光源、至少一導(dǎo) 光單元、至少一光檢測(cè)器及第一減光結(jié)構(gòu)。光源配置于顯示面旁,并適于提供光束。導(dǎo)光單 元配置于該顯示面旁,且配置于光束的傳遞路徑上。導(dǎo)光單元具有第一表面、第二表面、以 及入光面。第二表面相對(duì)于第一表面。入光面連接第一表面與第二表面。光束適于經(jīng)由入 光面進(jìn)入導(dǎo)光單元中,且適于經(jīng)由第一表面?zhèn)鬟f至顯示面前的感測(cè)空間。光檢測(cè)器配置于 顯示面旁,用以感測(cè)光束于感測(cè)空間中的強(qiáng)度變化。第一減光結(jié)構(gòu)覆蓋第一表面的鄰接入 光面的部分,以降低光束的通過(guò)第一減光結(jié)構(gòu)的部分的強(qiáng)度。
本發(fā)明的另一實(shí)施例提出一種光學(xué)觸控顯示裝置,包括上述的顯示器及上述的光 學(xué)觸控裝置。本發(fā)明的又一實(shí)施例提出一種光源模塊,包括上述的光源、上述的導(dǎo)光單元、上述 的第一減光結(jié)構(gòu)及前框。前框覆蓋導(dǎo)光單元的部分表面,其中前框適于讓光束通過(guò),且第一 減光結(jié)構(gòu)設(shè)置于前框及導(dǎo)光單元的至少其一上?;谏鲜觯景l(fā)明的實(shí)施例采用配置于導(dǎo)光單元上的第一減光結(jié)構(gòu),來(lái)降低從第 一表面的鄰接入光面的部分出射的光束的過(guò)強(qiáng)的強(qiáng)度,如此可使導(dǎo)光單元的整體出光強(qiáng)度 較為均勻,進(jìn)而提升光學(xué)觸控裝置及光學(xué)觸控顯示裝置對(duì)觸控位置的判斷準(zhǔn)確度。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉實(shí)施例,并結(jié)合附圖作詳 細(xì)說(shuō)明如下。
圖1繪示本發(fā)明的一實(shí)施例的光學(xué)觸控顯示裝置的俯視圖;圖2繪示圖1的光學(xué)觸控顯示裝置沿剖面線I-I的剖面示意圖;圖3繪示為圖1中的導(dǎo)光單元與減光結(jié)構(gòu)的立體示意圖;圖4繪示圖3導(dǎo)光單元與光源在χ方向上的俯視圖;圖5A為本發(fā)明的一實(shí)施例的光源模塊的結(jié)構(gòu)示意圖;圖5B為圖5A的光源模塊沿著II-II線的剖面示意圖;圖6A為不采用第一減光結(jié)構(gòu)與第二減光結(jié)構(gòu)的光源模塊的出光強(qiáng)度曲線圖;圖6B為本實(shí)施例的光源模塊的出光強(qiáng)度曲線圖;圖7為本發(fā)明的另一實(shí)施例的光源模塊的剖面示意圖;圖8為本發(fā)明的又一實(shí)施例的光源模塊的剖面示意圖;圖9為本發(fā)明的再一實(shí)施例的光源模塊的剖面示意圖。
具體實(shí)施例方式有關(guān)本發(fā)明的前述及其它技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)與功效,在以下結(jié)合附圖的一優(yōu)選實(shí)施 例的詳細(xì)說(shuō)明中,將可清楚的呈現(xiàn)。以下實(shí)施例中所提到的方向用語(yǔ),例如上、下、左、右、 前或后等,僅是參考附圖的方向。因此,使用的方向用語(yǔ)是用來(lái)說(shuō)明并非用來(lái)限制本發(fā)明。圖1繪示本發(fā)明的一實(shí)施例的光學(xué)觸控顯示裝置的俯視圖。圖2繪示圖1的光學(xué) 觸控顯示裝置沿I-I線的剖面示意圖。同時(shí)參照?qǐng)D1與圖2,光學(xué)觸控顯示裝置100包括顯 示器110以及光學(xué)觸控裝置120。顯示器110具有顯示面112,其中顯示面112前具有感測(cè) 空間P。除此之外,本實(shí)例的顯示器110還包括外框114。在本實(shí)施例中,顯示面112設(shè)置 于外框114中,且光學(xué)觸控裝置120配置于外框114之上。如圖1所示,光學(xué)觸控裝置120包括至少一光源122b、至少一導(dǎo)光單元1Mb、以及 至少一光檢測(cè)器U6a。光源122b配置于顯示面112旁,適于提供光束Ll。在本實(shí)施例中,光 束Ll例如為非可見(jiàn)光,且光源122b例如為紅外光發(fā)光二極管(infrared light emitting diode, IR-LED)。繼續(xù)參照?qǐng)D1,導(dǎo)光單元124b是配置于光束Ll的傳遞路徑上。另一方面,本實(shí)施 例的光學(xué)觸控裝置120包括多個(gè)光源,例如光源12 122c (圖1示意地繪示3個(gè))。光檢測(cè)器126a配置于顯示面112旁,用以感測(cè)光束(例如光束L2)于感測(cè)空間P中的強(qiáng)度變 化。除此之外,光學(xué)觸控裝置120還包括多個(gè)導(dǎo)光單元以及多個(gè)光檢測(cè)器,例如導(dǎo)光單元 124a 12 (圖1示意地繪示3個(gè)),以及光檢測(cè)器126a與126b (圖1示意地繪示2個(gè))。 導(dǎo)光單元12 12 對(duì)應(yīng)光源12 122c分別配置于顯示面112的不同側(cè),其中每一 光檢測(cè)器配置于顯示面112旁相對(duì)于導(dǎo)光單元之其一。具體而言,光檢測(cè)器126a是配置于 顯示面112旁相對(duì)于導(dǎo)光單元IMa,且光檢測(cè)器126b是配置于顯示面112旁相對(duì)于導(dǎo)光單 元124b。其中,光檢測(cè)器126a例如是感測(cè)光束L2自導(dǎo)光單元12 出射后在y方向的強(qiáng)度 變化,光檢測(cè)器126b例如是感測(cè)光束Ll自導(dǎo)光單元124b出射后在χ方向的強(qiáng)度變化。除此之外,本實(shí)施例的光學(xué)觸控裝置120還包括處理單元130,處理單元130電連 接至光檢測(cè)器126a或光檢測(cè)器126b。同時(shí)參照?qǐng)D1與圖2,當(dāng)觸控物體140(例如手指) 進(jìn)入感測(cè)空間P時(shí),處理單元130會(huì)依據(jù)各光束自導(dǎo)光單元出射后于不同方向的強(qiáng)度變化 來(lái)決定觸控物體140相對(duì)顯示面112的位置(X,y)。圖3繪示為圖1中的導(dǎo)光單元與減光結(jié)構(gòu)的立體示意圖。如圖3所示,導(dǎo)光單元 124a具有表面Si、表面S2,以及入光面S3。表面S2相對(duì)于表面Si,且入光面S3連接表面 Sl與表面S2。同時(shí)參照?qǐng)D1與圖3,來(lái)自光源12 的光束L2會(huì)經(jīng)由入光面S3進(jìn)入導(dǎo)光單 元12 中,且透過(guò)表面Sl傳遞至顯示面112前的感測(cè)空間P。換句話說(shuō),在本實(shí)施例中,導(dǎo) 光單元12 的表面Sl為出光面。除此之外,本實(shí)施例的導(dǎo)光單元12 還具有表面S4、表面S5、以及表面S6。如圖 3所示,導(dǎo)光單元12 的表面S4連接入光面S3、表面Sl以及表面S2。表面S5相對(duì)于表面 S4,并連接入光面S3、表面Sl以及表面S2。另一方面,表面S6相對(duì)于入光面S3。圖4繪示為圖3導(dǎo)光單元12 與光源12 在χ方向上的俯視圖。如圖4所示, 表面S2具有多個(gè)微結(jié)構(gòu)128,且這些微結(jié)構(gòu)1 在靠近光源12 處的數(shù)量密度小于這些 微結(jié)構(gòu)1 在遠(yuǎn)離光源12 處的數(shù)量密度,其中上述的微結(jié)構(gòu)1 例如是印刷網(wǎng)點(diǎn)或蝕刻 點(diǎn)。另外,印刷網(wǎng)點(diǎn)例如為凸點(diǎn)或凸紋,且蝕刻點(diǎn)例如為凹點(diǎn)或凹紋。藉由調(diào)整微結(jié)構(gòu)1 的疏密(即數(shù)量密度)能夠使圖1的光束L2于導(dǎo)光單元12 的出光面(表面Si)均勻出 光,以使導(dǎo)光單元12 在y方向上提供高均勻度的光源。值得注意的是,導(dǎo)光單元12 在 ζ方向的寬度a可以做得很薄,因此有利于光學(xué)觸控裝置120的薄型化。此外,在其它實(shí)施例中,導(dǎo)光單元12 的表面Sl、表面S4、表面S5以及表面S6 (繪 示于圖3)亦可具有上述的微結(jié)構(gòu)128。換言之,在另一實(shí)施例中,導(dǎo)光單元12 的表面Si、 表面S2、表面S4、表面S5及表面S6的至少其中之一具有多個(gè)微結(jié)構(gòu)128,以使光束L2于導(dǎo) 光單元12 的出光面(表面Si)在y方向均勻出光。另一方面,圖1的導(dǎo)光單元124b與 124c亦可具有與導(dǎo)光單元12 的相同結(jié)構(gòu),如此一來(lái),導(dǎo)光單元124b與12 便可于顯示 面112的另外兩側(cè)提供均勻的光源,進(jìn)而使得感測(cè)空間P的輻照度有良好的均勻度,其中輻 照度為每單位時(shí)間入射至每單位面積上的光能(irradiance,W/m2)。本實(shí)施例的導(dǎo)光單元 124b與12 的結(jié)構(gòu)可參照導(dǎo)光單元IMa,在此不加贅述。同時(shí)參照?qǐng)D1與圖3,在本實(shí)施例中,光源12 是配置于顯示面112的角落A旁, 且導(dǎo)光單元12 是配置于顯示面112的側(cè)邊11 旁。另外,表面Sl面向感測(cè)空間P。當(dāng) 觸控物體140進(jìn)入感測(cè)空間P時(shí),觸控物體140會(huì)遮擋部分自導(dǎo)光單元12 出射的光束 L2,并使得光檢測(cè)器126a在對(duì)應(yīng)的y方向檢測(cè)到光束L2的強(qiáng)度變化。換句話說(shuō),光檢測(cè)器126a會(huì)在對(duì)應(yīng)的y方向檢測(cè)到暗點(diǎn),此暗點(diǎn)可作為觸控位置中y坐標(biāo)的辨識(shí)依據(jù)。同樣地, 觸控物體140也會(huì)遮擋部分自導(dǎo)光單元124b出射的光束Li,并使得光檢測(cè)器126b在χ方 向感測(cè)到另一光束Ll的強(qiáng)度變化。換句話說(shuō),光檢測(cè)器126a會(huì)在對(duì)應(yīng)的χ方向檢測(cè)到暗 點(diǎn),此暗點(diǎn)可作為觸控位置中χ坐標(biāo)的辨識(shí)依據(jù)。接著,處理單元130便可依據(jù)上述的兩方 向的強(qiáng)度變化決定觸控物體140相對(duì)顯示面112的位置(X,y)。值得注意的是,藉由適當(dāng)旋轉(zhuǎn)光檢測(cè)器126b的角度,光檢測(cè)器126b亦可感測(cè)自導(dǎo) 光單元12 出射的光束L2于感測(cè)空間P在y方向的強(qiáng)度變化。換言之,在其它實(shí)施例中, 光檢測(cè)器126a和光檢測(cè)器126b可依據(jù)擺設(shè)的位置或旋轉(zhuǎn)的角度來(lái)分別感測(cè)感測(cè)空間P在 χ方向與y方向的強(qiáng)度變化。因此,藉由光檢測(cè)器126a和光檢測(cè)器126b分別感測(cè)光束于不 同方向的強(qiáng)度變化,來(lái)決定觸控物體140的位置(X,y)。換句話說(shuō),光檢測(cè)器126a和126b 的位置并不受限于圖1的位置,其可依據(jù)設(shè)計(jì)者需求自行調(diào)整。一般而言,從導(dǎo)光單元IMa、124bU24c的表面Sl的鄰接入光面S3的部分及鄰接 表面S6的部分所出射的光束Li、L2的強(qiáng)度會(huì)較強(qiáng),導(dǎo)致整體出光不均勻,進(jìn)而影響了光檢 測(cè)器126a、U6b的判斷準(zhǔn)確度。為了改善此問(wèn)題,可采用第一減光結(jié)構(gòu)160a及第二減光結(jié) 構(gòu)160b。第一減光結(jié)構(gòu)160a覆蓋表面Sl的鄰接入光面S3的部分,以降低光束Li、L2的 通過(guò)第一減光結(jié)構(gòu)160a的部分的強(qiáng)度。此外,第二減光結(jié)構(gòu)160b覆蓋表面Sl的鄰接表面 S6的部分,以降低光束的通過(guò)第二減光結(jié)構(gòu)160b的部分的強(qiáng)度。在本實(shí)施例中,第一減光 結(jié)構(gòu)160a與第二減光結(jié)構(gòu)160b例如是涂布于表面Sl上的涂層,此涂層例如是包含顏料的 漆,且此顏料可遮蔽至少部分光束Li、L2。如此一來(lái),從導(dǎo)光單元12^、lMb、12k的表面 Sl的鄰接入光面S3的部分及鄰接表面S6的部分所出射的光束Li、L2的強(qiáng)度便能夠與從 表面Sl的其它部分所出射的光束Li、L2的強(qiáng)度較為接近,以提升整體的出光均勻度,進(jìn)而 提升光檢測(cè)器126a、1 的判斷準(zhǔn)確度。因此,本實(shí)施例的光學(xué)觸控裝置120對(duì)于觸控位 置的判斷準(zhǔn)確度便能夠提升。為了進(jìn)一步提升整體出光均勻度,在本實(shí)施例中,可使第一減光結(jié)構(gòu)160a及第二 減光結(jié)構(gòu)160b的降低強(qiáng)度的程度隨著光束L1、L2照射于第一減光結(jié)構(gòu)160a與第二減光結(jié) 構(gòu)160b上的不同位置的強(qiáng)度的變化而變化,且強(qiáng)度越大的位置,降低強(qiáng)度的程度越大。舉 例而言,第一減光結(jié)構(gòu)160a的降低強(qiáng)度的程度在第一減光結(jié)構(gòu)160a中的靠近入光面S3的 位置大于在遠(yuǎn)離入光面S3的位置。此外,第二減光結(jié)構(gòu)160b的降低強(qiáng)度的程度在第二減 光結(jié)構(gòu)160b中的靠近表面S6的位置大于在遠(yuǎn)離表面S6的位置。降低強(qiáng)度的程度可藉由 對(duì)第一減光結(jié)構(gòu)160a與第二減光結(jié)構(gòu)160b所設(shè)定的參數(shù)來(lái)決定。舉例而言,在降低光強(qiáng) 度的程度越大的位置上,第一減光結(jié)構(gòu)160a與第二減光結(jié)構(gòu)160b的厚度越厚、顏料越濃、 漆的涂布層數(shù)越多或上述方式的任意組合。反之,在降低光強(qiáng)度的程度越小的位置上,第一 減光結(jié)構(gòu)160a與第二減光結(jié)構(gòu)160b的厚度越薄、顏料越淡、漆的涂布層數(shù)越少或上述方式 的任意組合。值得注意的是,本發(fā)明并不限定第一減光結(jié)構(gòu)160a與第二減光結(jié)構(gòu)160b為涂層。 在其它實(shí)施例中,第一減光結(jié)構(gòu)與第二減光結(jié)構(gòu)亦可以是設(shè)置于表面Sl上的多個(gè)光散射 微結(jié)構(gòu)。此光散射微結(jié)構(gòu)例如是表面Sl上的多個(gè)凸點(diǎn)、凹點(diǎn)、凸紋、凹紋或光散射粒子,利 用將光束L2散射的方式降低光束L2的強(qiáng)度。另外,本發(fā)明并不限定光學(xué)觸控裝置120須 具有第二減光結(jié)構(gòu)160b。在其它實(shí)施例中,只要導(dǎo)光單元12如、1Mb、124c的長(zhǎng)度夠長(zhǎng),因8而使得從表面Sl的鄰接表面S6的部分出射的光束的強(qiáng)度不會(huì)過(guò)強(qiáng),可不用設(shè)置第二減光 結(jié)構(gòu)160b。圖5A為本發(fā)明的一實(shí)施例的光源模塊的結(jié)構(gòu)示意圖,且圖5B為圖5A的光源模塊 沿著II-II線的剖面示意圖。參照?qǐng)D5A與圖5B,本實(shí)施例的光源模塊200包括上述的光 源122a、上述的導(dǎo)光單元IMa、上述的第一減光結(jié)構(gòu)160a、上述的第二減光結(jié)構(gòu)160b及前 框150。本實(shí)施例的光源模塊200類似于圖1的導(dǎo)光單元IMa、光源122a、第一減光結(jié)構(gòu) 160a及第二減光結(jié)構(gòu)160b的組合,且本實(shí)施例的光源模塊200可用以取代圖1的導(dǎo)光單元 IMa、光源122a、第一減光結(jié)構(gòu)160a及第二減光結(jié)構(gòu)160b的組合,以形成不同類型的光學(xué) 觸控裝置及光學(xué)觸控顯示裝置。以下就本實(shí)施例的光源模塊200與圖1的結(jié)構(gòu)的不同處加 以說(shuō)明。為了便于讀者閱讀,圖5A與圖5B的導(dǎo)光單元12 繪示為圖1的導(dǎo)光單元12 相對(duì)于xy平面的鏡像,亦即將原本的+ζ方向改為-ζ方向。然而,導(dǎo)光單元12 的各表面 與x、y、ζ方向的對(duì)應(yīng)關(guān)系可依導(dǎo)光單元12 相對(duì)于顯示面112的設(shè)置位置或需求而作改 變,本發(fā)明不以圖1、圖5A及圖5B所繪示者為限。本實(shí)施例的前框150覆蓋導(dǎo)光單元12 的部分表面,在本實(shí)施例中,例如是覆蓋 入光面S3、表面Si、表面S2、表面S4及表面S6。然而,在其它實(shí)施例中,前框150亦可以是 覆蓋入光面S3、表面Si、表面S2、表面S4及表面S6的至少其一。前框150適于讓光束L2 通過(guò)。前框150中可添加色母(color master),以使前框150為不透明,如此可使光學(xué)觸 控顯示裝置100更為美觀。上述色母對(duì)于紅外光仍具有穿透性,也就是說(shuō),光束L2仍可穿 透前框150并到達(dá)圖1的感測(cè)空間P,故光檢測(cè)器126a與126b的感測(cè)功能不會(huì)受到影響。 再者,在本實(shí)施例中,前框150配置于表面Sl與第一減光結(jié)構(gòu)160a之間,且前框150至少 覆蓋表面Si。再者,第一減光結(jié)構(gòu)160a覆蓋表面Sl的鄰接入光面S3的部分。在本實(shí)施例 中,第一減光結(jié)構(gòu)160a為涂布于前框150的表面上的涂層,第一減光結(jié)構(gòu)160a與圖1的實(shí) 施例中所述的涂層實(shí)質(zhì)上相同。另外,光源模塊200可還包括反射單元170,覆蓋表面S2、表面S4、表面S5及表面 S6(如圖3所繪示)的至少其一。在本實(shí)施例中,反射單元170覆蓋表面S2、表面S4及表 面S5。具體而言,反射單元170包括反射片172、174及176,分別覆蓋表面35、32及54。由于本實(shí)施例的光源模塊200具有第一減光結(jié)構(gòu)160a及第二減光結(jié)構(gòu)160b,因 此從導(dǎo)光單元12 的表面Sl的鄰接入光面S3的部分及鄰接表面S6的部分所出射的光 束L2的強(qiáng)度便能夠與表面Sl的其它部分所出射的光束L2的強(qiáng)度較為接近,以提升整體的 出光均勻度,進(jìn)而提升光檢測(cè)器的判斷準(zhǔn)確度。以下以實(shí)驗(yàn)圖表來(lái)說(shuō)明光源模塊200的功 效。本實(shí)施例的光源模塊200亦可用來(lái)取代圖1的導(dǎo)光單元1Mb、光源122b、第一減光結(jié) 構(gòu)160a與第二減光結(jié)構(gòu)160b的組合,且可用來(lái)取代圖1的導(dǎo)光單元12 、光源122c、第一 減光結(jié)構(gòu)160a與第二減光結(jié)構(gòu)160b的組合,需注意的是,光源模塊200中的導(dǎo)光單元12 的各表面的面對(duì)方向須作對(duì)應(yīng)的調(diào)整,以使表面Sl面對(duì)感測(cè)空間P,且使入光面S3面對(duì)光 源(如光源122b或光源122c)。圖6A為不采用第一減光結(jié)構(gòu)與第二減光結(jié)構(gòu)的光源模塊的出光強(qiáng)度曲線圖,圖 6B為本實(shí)施例的光源模塊的出光強(qiáng)度曲線圖。參照?qǐng)D6A與圖6B,圖中橫軸為y方向(即 導(dǎo)光單元12 的延伸方向)上的位置,且縱軸為從表面Sl出射的光束L2的強(qiáng)度。由圖6A 可知,因未采用第一減光結(jié)構(gòu)160a與第二減光結(jié)構(gòu)160b,從表面Sl兩端(即鄰接入光面S3的部分與鄰接表面S6的部分)出射的光束L2的強(qiáng)度過(guò)強(qiáng),如此會(huì)影響光檢測(cè)器的判斷 準(zhǔn)確度。再參照?qǐng)D6B,由于本實(shí)施例的光源模塊200采用了第一減光結(jié)構(gòu)160a與第二減 光結(jié)構(gòu)160b,因此整體的出光強(qiáng)度如圖6B所示較為均勻,所以可提升光檢測(cè)器的判斷準(zhǔn)確度。值得注意的是,當(dāng)導(dǎo)光單元12 在y方向上的長(zhǎng)度夠長(zhǎng)時(shí),亦可僅采用第一減光 結(jié)構(gòu)160a而不采用第二減光結(jié)構(gòu)160b。圖7為本發(fā)明的另一實(shí)施例的光源模塊的剖面示意圖。參照?qǐng)D7,本實(shí)施例的光源 模塊200a與圖5B的光源模塊200類似,而兩者的差異在于本實(shí)施例的光源模塊200a的第 一減光結(jié)構(gòu)162為設(shè)置于前框150a的表面上的多個(gè)光散射微結(jié)構(gòu)。在本實(shí)施例中,光散射 微結(jié)構(gòu)例如是凸點(diǎn)。然而,在其它實(shí)施例中,光散射微結(jié)構(gòu)亦可以是前框150a的表面上的 凹點(diǎn)、凸紋、凹紋或光散射粒子。另外,光源模塊200a的第二減光結(jié)構(gòu)(圖7中未繪示)亦 可以是多個(gè)光散射微結(jié)構(gòu)。圖8為本發(fā)明的又一實(shí)施例的光源模塊的剖面示意圖。參照?qǐng)D8,本實(shí)施例的光 源模塊200b與圖5B的光源模塊200類似,兩者的差異如下所述。在本實(shí)施例中,光源模塊 200b的第一減光結(jié)構(gòu)160a配置于表面Sl與前框150b之間。在本實(shí)施例中,第一減光結(jié)構(gòu) 160a為涂布于前框150b的表面上的涂層。此外,光源模塊200b的第二減光結(jié)構(gòu)(圖8中 未繪示)亦可以是配置于表面Sl與前框150b之間,且例如為涂布于前框150b的表面上的 涂層。圖9為本發(fā)明的再一實(shí)施例的光源模塊的剖面示意圖。參照?qǐng)D9,本實(shí)施例的光 源模塊200c與圖8的光源模塊200b類似,然而,兩者的差異在于光源模塊200c的第一減 光結(jié)構(gòu)160a為涂布于表面Sl上的涂層。此外,在本實(shí)施例中,第二減光結(jié)構(gòu)(圖9中未繪 示)亦可以是涂布于表面Sl上的涂層。值得注意的是,本發(fā)明并不限定第一減光結(jié)構(gòu)160a是設(shè)置于圖5B、圖8與圖9所 繪示的位置的其中之一。在其它實(shí)施例中,圖5B、圖8與圖9所繪示的位置上亦可分別設(shè)有 三個(gè)第一減光結(jié)構(gòu)160a,或者圖5B、圖8與圖9所繪示的位置的任二者上分別設(shè)有二個(gè)第 一減光結(jié)構(gòu)160a。同理,第二減光結(jié)構(gòu)160b亦是如此,在此不再重述。綜上所述,本發(fā)明的實(shí)施例采用配置于導(dǎo)光單元上的第一減光結(jié)構(gòu),來(lái)降低從表 面Sl的鄰接入光面的部分所出射的光束的過(guò)強(qiáng)的強(qiáng)度,如此可使導(dǎo)光單元的整體出光強(qiáng) 度較為均勻,進(jìn)而提升光學(xué)觸控裝置及光學(xué)觸控顯示裝置對(duì)觸控位置的判斷準(zhǔn)確度。此外, 本發(fā)明的實(shí)施例可還采用第二減光結(jié)構(gòu)來(lái)覆蓋表面Sl的鄰接表面S6的部分,來(lái)降低從表 面Sl的鄰接表面S6的部分所出射的光束的過(guò)強(qiáng)的強(qiáng)度,如此可使導(dǎo)光單元的整體出光強(qiáng) 度較為均勻。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已,當(dāng)不能以此限定本發(fā)明實(shí)施的范圍,即 大凡依本發(fā)明權(quán)利要求范圍及發(fā)明說(shuō)明書(shū)內(nèi)容所作的簡(jiǎn)單的等效變化與修飾,皆仍屬本發(fā) 明專利涵蓋的范圍內(nèi)。另外本發(fā)明的任一實(shí)施例或權(quán)利要求不須達(dá)成本發(fā)明所揭露的全部 目的或優(yōu)點(diǎn)或特點(diǎn)。此外,摘要部分和標(biāo)題僅是用來(lái)輔助專利文件搜尋之用,并非用來(lái)限制 本發(fā)明的權(quán)利范圍。10
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)觸控裝置,適用于顯示器,所述顯示器具有顯示面,所述光學(xué)觸控裝置包括至少一光源,配置于所述顯示面旁,并適于提供光束;至少一導(dǎo)光單元,配置于所述顯示面旁,且配置于所述光束的傳遞路徑上,所述導(dǎo)光單 元具有第一表面;第二表面,相對(duì)于所述第一表面;以及入光面,連接所述第一表面與所述第二表面,所述光束適于經(jīng)由所述入光面進(jìn)入所述 導(dǎo)光單元中,且適于經(jīng)由所述第一表面?zhèn)鬟f至所述顯示面前的感測(cè)空間;至少一光檢測(cè)器,配置于所述顯示面旁,用以感測(cè)所述光束于所述感測(cè)空間中的強(qiáng)度 變化;以及第一減光結(jié)構(gòu),覆蓋所述第一表面的鄰接所述入光面的部分,以降低所述光束的通過(guò) 所述第一減光結(jié)構(gòu)的部分的強(qiáng)度。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控裝置,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)的降低所述強(qiáng)度的程度 隨著所述光束照射于所述第一減光結(jié)構(gòu)上的不同位置的強(qiáng)度的變化而變化,且所述強(qiáng)度越 大的位置,降低所述強(qiáng)度的程度越大。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控裝置,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)的降低所述強(qiáng)度的程度 在所述第一減光結(jié)構(gòu)中的靠近所述入光面的位置大于在遠(yuǎn)離所述入光面的位置。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控裝置,還包括前框,覆蓋所述導(dǎo)光單元的部分表面,其 中所述前框適于讓所述光束通過(guò)。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)觸控裝置,其中所述前框至少覆蓋所述導(dǎo)光單元的所述第 一表面,且所述第一減光結(jié)構(gòu)配置于所述第一表面與所述前框之間。
6.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)觸控裝置,其中所述前框至少覆蓋所述導(dǎo)光單元的所述第 一表面,且所述前框配置于所述第一表面與所述第一減光結(jié)構(gòu)之間。
7.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)觸控裝置,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)為涂布于所述前框的表 面上的涂層或設(shè)置于所述前框的表面上的多個(gè)光散射微結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控裝置,還包括第二減光結(jié)構(gòu),其中所述導(dǎo)光單元還具有第三表面,連接所述入光面、所述第一表面及所述第二表面;第四表面,相對(duì)于所述第三表面,且連接所述入光面、所述第一表面及所述第二表面;以及第五表面,相對(duì)于所述入光面,其中,所述第二減光結(jié)構(gòu)覆蓋所述第一表面的鄰接所述第五表面的部分,以降低所述 光束的通過(guò)所述第二減光結(jié)構(gòu)的部分的強(qiáng)度。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控裝置,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)為涂布于所述導(dǎo)光單元 的所述第一表面上的涂層或設(shè)置于所述導(dǎo)光單元的所述第一表面上的多個(gè)光散射微結(jié)構(gòu)。
10.一種光學(xué)觸控顯示裝置,包括 顯示器,所述顯示器具有顯示面;以及 光學(xué)觸控裝置,包括至少一光源,配置于所述顯示面旁,并適于提供光束;至少一導(dǎo)光單元,配置于所述顯示面旁,且配置于所述光束的傳遞路徑上,所述導(dǎo)光單 元具有第一表面;第二表面,相對(duì)于所述第一表面;以及入光面,連接所述第一表面與所述第二表面,所述光束適于經(jīng)由所述入光面進(jìn)入所述 導(dǎo)光單元中,且適于經(jīng)由所述第一表面?zhèn)鬟f至所述顯示面前的感測(cè)空間;至少一光檢測(cè)器,配置于所述顯示器旁,用以感測(cè)所述光束于所述測(cè)感測(cè)空間中的強(qiáng) 度變化;以及第一減光結(jié)構(gòu),覆蓋所述第一表面的鄰接所述入光面的部分,以降低所述光束的通過(guò) 所述第一減光結(jié)構(gòu)的部分的強(qiáng)度。
11.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控顯示裝置,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)的降低所述強(qiáng)度 的程度隨著所述光束照射于所述第一減光結(jié)構(gòu)上的不同位置的強(qiáng)度的變化而變化,且所述 強(qiáng)度越大的位置,降低所述強(qiáng)度的程度越大。
12.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控顯示裝置,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)的降低所述強(qiáng)度 的程度在所述第一減光結(jié)構(gòu)中的靠近所述入光面的位置大于在遠(yuǎn)離所述入光面的位置。
13.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控顯示裝置,其中所述光學(xué)觸控裝置還包括前框,覆 蓋所述導(dǎo)光單元的部分表面,其中所述前框適于讓所述光束通過(guò)。
14.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)觸控顯示裝置,其中所述前框至少覆蓋所述導(dǎo)光單元的 所述第一表面,且所述第一減光結(jié)構(gòu)配置于所述第一表面與所述前框之間。
15.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)觸控顯示裝置,其中所述前框至少覆蓋所述導(dǎo)光單元的 所述第一表面,且所述前框配置于所述第一表面與所述第一減光結(jié)構(gòu)之間。
16.如權(quán)利要求13所述的光學(xué)觸控顯示裝置,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)為涂布于所述前 框的表面上的涂層或設(shè)置于所述前框的表面上的多個(gè)光散射微結(jié)構(gòu)。
17.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控顯示裝置,其中所述光學(xué)觸控裝置還包括第二減光 結(jié)構(gòu),且所述導(dǎo)光單元還具有第三表面,連接所述入光面、所述第一表面及所述第二表面;第四表面,相對(duì)于所述第三表面,且連接所述入光面、所述第一表面及所述第二表面;以及第五表面,相對(duì)于所述入光面,其中,所述第二減光結(jié)構(gòu)覆蓋所述第一表面的鄰接所述第五表面的部分,以降低所述 光束的通過(guò)所述第二減光結(jié)構(gòu)的部分的強(qiáng)度。
18.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控顯示裝置,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)為涂布于所述導(dǎo) 光單元的所述第一表面上的涂層或設(shè)置于所述導(dǎo)光單元的所述第一表面上的多個(gè)光散射 微結(jié)構(gòu)。
19.一種光源模塊,包括至少一光源,適于提供光束;導(dǎo)光單元,配置于所述光束的傳遞路徑上,所述導(dǎo)光單元具有第一表面;第二表面,相對(duì)于所述第一表面;以及入光面,連接所述第一表面與所述第二表面,所述光束適于經(jīng)由所述入光面進(jìn)入所述 導(dǎo)光單元中,且適于經(jīng)由所述第一表面?zhèn)鬟f至外界;第一減光結(jié)構(gòu),覆蓋所述第一表面的鄰接所述入光面的部分,以降低所述光束的通過(guò) 所述第一減光結(jié)構(gòu)的部分的強(qiáng)度;以及前框,覆蓋所述導(dǎo)光單元的部分表面,其中所述前框適于讓所述光束通過(guò),且所述第一 減光結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述前框及所述導(dǎo)光單元的至少其一上。
20.如權(quán)利要求19所述的光源模塊,其中所述第一減光結(jié)構(gòu)為涂布于所述前框的表面 上的涂層或設(shè)置于所述前框的表面上的多個(gè)光散射微結(jié)構(gòu)。
21.如權(quán)利要求19所述的光源模塊,還包括第二減光結(jié)構(gòu),其中所述導(dǎo)光單元還具有 第三表面,連接所述入光面、所述第一表面及所述第二表面;第四表面,相對(duì)于所述第三表面,且連接所述入光面、所述第一表面及所述第二表面;以及第五表面,相對(duì)于所述入光面,其中,所述第二減光結(jié)構(gòu)覆蓋所述第一表面的鄰接所述第五表面的部分,以降低所述 光束的通過(guò)所述第二減光結(jié)構(gòu)的部分的強(qiáng)度。
全文摘要
一種光學(xué)觸控裝置,包括至少一光源、至少一導(dǎo)光單元、至少一光檢測(cè)器及減光結(jié)構(gòu)。光源配置于顯示器的顯示面旁,并適于提供光束。導(dǎo)光單元配置于顯示面旁,且配置于光束的傳遞路徑上。導(dǎo)光單元具有第一表面、第二表面及入光面。第二表面相對(duì)于第一表面,入光面連接第一表面與第二表面。光束適于經(jīng)由入光面進(jìn)入導(dǎo)光單元中,且適于經(jīng)由第一表面?zhèn)鬟f至顯示面前的感測(cè)空間。光檢測(cè)器配置于顯示面旁。減光結(jié)構(gòu)覆蓋第一表面的鄰接入光面的部分。一種光學(xué)觸控顯示裝置及光源模塊亦被提出。
文檔編號(hào)G06F3/042GK102043542SQ20091020633
公開(kāi)日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2009年10月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月15日
發(fā)明者馮華德, 尤嘉宏, 廖俊謙 申請(qǐng)人:中強(qiáng)光電股份有限公司