專利名稱：光學(xué)式觸控裝置及其運(yùn)行方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及觸控裝置，特別涉及一種能夠通過噪聲抑制模塊的設(shè)置有效地避免由 于光感測(cè)器高密度排列而導(dǎo)致的干擾效應(yīng)(crosstalk effect)的光學(xué)式觸控裝置及其運(yùn) 行方法。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，隨著圖像顯示相關(guān)的科技不斷地發(fā)展，市場(chǎng)上出現(xiàn)的各式各樣新型態(tài)的 顯示裝置逐漸取代傳統(tǒng)的陰極射線管顯示器。其中，觸控式液晶顯示裝置不僅省電且不占 空間，還同時(shí)具有可直接通過接觸方式進(jìn)行輸入的優(yōu)點(diǎn)，因而廣受一般消費(fèi)者的喜愛，已成 為顯示器市場(chǎng)上的主流，并且廣泛地應(yīng)用于各類電子產(chǎn)品中，例如自動(dòng)柜員機(jī)、銷售點(diǎn)終端 機(jī)、游客導(dǎo)覽系統(tǒng)或工業(yè)控制系統(tǒng)等。一般而言，目前較為常見的觸控式裝置包含電阻式觸控裝置、電容式觸控裝置以 及光學(xué)式觸控裝置等類型，通過不同檢測(cè)原理及方式進(jìn)行單一或多重觸控點(diǎn)的檢測(cè)。在上 述各種不同類型的觸控式裝置中，光學(xué)式觸控裝置由于具有透光性佳的特性，已成為區(qū)別 于傳統(tǒng)的電阻式觸控裝置與電容式觸控裝置之外的另一常用技術(shù)。請(qǐng)參照?qǐng)D1，圖1示出傳統(tǒng)的光學(xué)式觸控裝置的示意圖。如圖1所示，傳統(tǒng)的光學(xué)式 觸控裝置1包含光發(fā)射器IOa 10d、光感測(cè)器12a 12d及面板14，其中，光發(fā)射器IOa IOd及光感測(cè)器12a 12d分別設(shè)置于面板14的相異兩側(cè)，并且光感測(cè)器12a 12d分別 對(duì)應(yīng)于光發(fā)射器IOa 10d。然而，由圖1可知，光發(fā)射器IOc所發(fā)射的一道光束(beam)包含多道感測(cè)光 (rays)，圖1中的感測(cè)光Ll L3即為該多道感測(cè)光的其中三道感測(cè)光。一旦光感測(cè)器 12a 12d或光發(fā)射器IOa IOd排列得相當(dāng)密集時(shí)，很可能導(dǎo)致該多道感測(cè)光中某些位于 較外側(cè)的角度較大的感測(cè)光(例如圖1中的Ll及L3)并非被對(duì)應(yīng)于光發(fā)射器IOc的光感 測(cè)器12c所接收，而是分別被鄰近光感測(cè)器12c的光感測(cè)器12d及12b所接收。如此將會(huì) 產(chǎn)生光的干擾效應(yīng)(cross talk effect)，因而嚴(yán)重影響傳統(tǒng)的光學(xué)式觸控裝置1在判讀觸 控點(diǎn)位置時(shí)的準(zhǔn)確性。因此，本發(fā)明提出一種光學(xué)式觸控裝置及其運(yùn)行方法，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提出一種能夠通過噪聲抑制模塊的設(shè)置有效地避免由于光感測(cè)器高密度 排列而導(dǎo)致的干擾效應(yīng)的光學(xué)式觸控裝置及其運(yùn)行方法。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例為一種光學(xué)式觸控裝置。在此實(shí)施例中，該光學(xué)式 觸控裝置包含光發(fā)射模塊、噪聲抑制模塊、光感測(cè)模塊及處理模塊。其中，該光發(fā)射模塊及 該光感測(cè)模塊分別設(shè)置于該光學(xué)式觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)及相異于該第一側(cè)的第 二側(cè)；噪聲抑制模塊設(shè)置于該第二側(cè)且位于該光感測(cè)模塊的多個(gè)光感測(cè)器的前方。該光發(fā) 射模塊發(fā)出至少一道感測(cè)光束(beam)，并且該至少一道感測(cè)光束包含多道感測(cè)光(rays)。
4若該多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向該多個(gè)光感測(cè)器中的一個(gè)光感測(cè)器的入射角大 于預(yù)設(shè)值，該特定感測(cè)光將會(huì)被視為噪聲且該噪聲抑制模塊將會(huì)阻止該特定感測(cè)光進(jìn)入該 光感測(cè)器。當(dāng)該光感測(cè)模塊根據(jù)其接收該至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果后，該處 理模塊根據(jù)該感測(cè)結(jié)果判定形成于該表面上的觸控點(diǎn)位置。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，若該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)器的入射角 小于該預(yù)設(shè)值且該特定感測(cè)光射至該噪聲抑制模塊，該噪聲抑制模塊折射該特定感測(cè)光至 該光感測(cè)器，以強(qiáng)化其接收強(qiáng)度。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，噪聲抑制模塊包含多個(gè)開孔，該多個(gè)開孔的 位置系分別對(duì)應(yīng)于該多個(gè)光感測(cè)器。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，多個(gè)開孔的外型采用前凸、內(nèi)縮或楔形的設(shè) 計(jì)。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，多個(gè)開孔配合該多個(gè)光感測(cè)器的排列情形 而改變其設(shè)計(jì)。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，開孔采用兩段式斜率的設(shè)計(jì)，當(dāng)射向該光感 測(cè)器的該特定感測(cè)光的入射角大于該預(yù)設(shè)值時(shí)，該開孔折射該特定感測(cè)光以遠(yuǎn)離該光感測(cè) 器；當(dāng)射向該光感測(cè)器的該特定感測(cè)光的入射角小于該預(yù)設(shè)值時(shí)，該開孔將該特定感測(cè)光 折射至該光感測(cè)器，以強(qiáng)化其接收強(qiáng)度。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，噪聲抑制模塊的一個(gè)表面涂布有吸光性材 料，當(dāng)該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)器的入射角大于該預(yù)設(shè)值且射至該噪聲抑制模塊的該表 面時(shí)，該表面吸收該特定感測(cè)光以阻止該特定感測(cè)光進(jìn)入該光感測(cè)器。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)具體實(shí)施例，同樣為一種光學(xué)式觸控裝置。在此實(shí)施例中， 該光學(xué)式觸控裝置包含光發(fā)射模塊、噪聲抑制模塊、光感測(cè)模塊及處理模塊。其中，該光發(fā) 射模塊及該光感測(cè)模塊分別設(shè)置于該光學(xué)式觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)及相異于該第 一側(cè)的第二側(cè)；該噪聲抑制模塊設(shè)置于該第一側(cè)且位于該光發(fā)射模塊的多個(gè)光發(fā)射器的前 方。該光發(fā)射模塊發(fā)出至少一道感測(cè)光束，并且該至少一道感測(cè)光束包含多道感測(cè)光。若 該多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向光感測(cè)模塊的發(fā)射角大于預(yù)設(shè)值，該特定感測(cè)光將 會(huì)被視為噪聲且噪聲抑制模塊將會(huì)阻止該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)模塊。當(dāng)該光感測(cè)模塊 根據(jù)其接收該至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果后，該處理模塊根據(jù)該感測(cè)結(jié)果判定 形成于該表面上的觸控點(diǎn)位置。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，若該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)模塊的發(fā)射 角小于該預(yù)設(shè)值且該特定感測(cè)光射至該噪聲抑制模塊，該噪聲抑制模塊將該特定感測(cè)光折 射向該光感測(cè)模塊。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，噪聲抑制模塊包含多個(gè)開孔，該多個(gè)開孔的 位置分別對(duì)應(yīng)于該多個(gè)光發(fā)射器。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，多個(gè)開孔的外型采用前凸、內(nèi)縮或楔形的設(shè) 計(jì)。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，多個(gè)開孔配合該多個(gè)光感測(cè)器的排列情形 而改變其設(shè)計(jì)。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，開孔采用兩段式斜率的設(shè)計(jì)，當(dāng)射向該光感
5測(cè)器的該特定感測(cè)光的發(fā)射角大于該預(yù)設(shè)值時(shí)，該開孔折射該特定感測(cè)光以阻止該特定感 測(cè)光射向該光感測(cè)器；當(dāng)射向該光感測(cè)器的該特定感測(cè)光的發(fā)射角小于該預(yù)設(shè)值時(shí)，該開 孔將該特定感測(cè)光折射向該光感測(cè)器。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置，其中，噪聲抑制模塊的一個(gè)表面涂布有吸光性材 料，當(dāng)該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)器的發(fā)射角大于該預(yù)設(shè)值且射至該噪聲抑制模塊的該表 面時(shí)，該表面吸收該特定感測(cè)光以阻止該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)器。根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)施例為一種光學(xué)式觸控裝置運(yùn)行方法。在此實(shí)施例中， 該光學(xué)式觸控裝置包含光發(fā)射模塊、光感測(cè)模塊、噪聲抑制模塊及處理模塊，該光發(fā)射模塊 及該光感測(cè)模塊分別設(shè)置于該光學(xué)式觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)及第二側(cè)，該噪聲抑制 模塊設(shè)置于該第二側(cè)且位于該光感測(cè)模塊的多個(gè)光感測(cè)器的前方。該方法包含下列步驟 (a)該光發(fā)射模塊發(fā)出至少一道感測(cè)光束，并且該至少一道感測(cè)光束包含多道感測(cè)光；(b) 若該多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向該多個(gè)光感測(cè)器中的一個(gè)光感測(cè)器的入射角大 于預(yù)設(shè)值，該特定感測(cè)光將會(huì)被視為噪聲且該噪聲抑制模塊將會(huì)阻止該特定感測(cè)光進(jìn)入該 光感測(cè)器；(c)該光感測(cè)模塊根據(jù)其接收該至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果；(d)該 處理模塊根據(jù)該感測(cè)結(jié)果判定形成于該表面上的觸控點(diǎn)位置。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，若該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)器的入射角小于該預(yù)設(shè) 值且該特定感測(cè)光射至該噪聲抑制模塊，該噪聲抑制模塊折射該特定感測(cè)光至該光感測(cè) 器，以強(qiáng)化其接收強(qiáng)度。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，噪聲抑制模塊包含多個(gè)開孔，該多個(gè)開孔的位置分別對(duì) 應(yīng)于該多個(gè)光感測(cè)器。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，多個(gè)開孔的外型采用前凸、內(nèi)縮或楔形的設(shè)計(jì)。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，多個(gè)開孔能夠配合該多個(gè)光感測(cè)器的不同排列情形而 改變其設(shè)計(jì)。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，開孔采用兩段式斜率的設(shè)計(jì)，當(dāng)射向該光感測(cè)器的該特 定感測(cè)光的入射角大于該預(yù)設(shè)值時(shí)，該開孔折射該特定感測(cè)光以遠(yuǎn)離該光感測(cè)器；當(dāng)射向 該光感測(cè)器的該特定感測(cè)光的入射角小于該預(yù)設(shè)值時(shí)，該開孔將該特定感測(cè)光折射至該光 感測(cè)器，以強(qiáng)化其接收強(qiáng)度。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，噪聲抑制模塊的一個(gè)表面涂布有吸光性材料，當(dāng)該特定 感測(cè)光射向該光感測(cè)器的入射角大于該預(yù)設(shè)值且射至該噪聲抑制模塊的該表面時(shí)，該表面 吸收該特定感測(cè)光以阻止該特定感測(cè)光進(jìn)入該光感測(cè)器。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)具體實(shí)施例，同樣為一種光學(xué)式觸控裝置運(yùn)行方法。在此實(shí) 施例中，該光學(xué)式觸控裝置包含光發(fā)射模塊、光感測(cè)模塊、噪聲抑制模塊及處理模塊，該光 發(fā)射模塊及該光感測(cè)模塊分別設(shè)置于該光學(xué)式觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)及第二側(cè)，該 噪聲抑制模塊設(shè)置于該第一側(cè)且位于該光發(fā)射模塊的多個(gè)光發(fā)射器的前方。該方法包含下 列步驟(a)該光發(fā)射模塊發(fā)出至少一道感測(cè)光束，并且該至少一道感測(cè)光束包含多道感 測(cè)光；(b)若該多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向該光感測(cè)模塊的發(fā)射角大于預(yù)設(shè)值， 該特定感測(cè)光被視為噪聲且該噪聲抑制模塊阻止該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)模塊；(c)該 光感測(cè)模塊根據(jù)其接收該至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果；(d)該處理模塊根據(jù)該 感測(cè)結(jié)果判定形成于該表面上的觸控點(diǎn)位置。
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根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，若該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)模塊的發(fā)射角小于該預(yù) 設(shè)值且該特定感測(cè)光射至該噪聲抑制模塊，該噪聲抑制模塊將該特定感測(cè)光折射向該光感 測(cè)模塊。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，噪聲抑制模塊包含多個(gè)開孔，該多個(gè)開孔的位置分別對(duì) 應(yīng)于該多個(gè)光發(fā)射器。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，多個(gè)開孔的外型采用前凸、內(nèi)縮或楔形的設(shè)計(jì)。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，多個(gè)開孔能夠配合該多個(gè)光感測(cè)器的不同排列情形而 改變其設(shè)計(jì)。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，開孔采用兩段式斜率的設(shè)計(jì)，當(dāng)射向該光感測(cè)器的該特 定感測(cè)光的發(fā)射角大于該預(yù)設(shè)值時(shí)，該開孔折射該特定感測(cè)光以阻止該特定感測(cè)光射向該 光感測(cè)器；當(dāng)射向該光感測(cè)器的該特定感測(cè)光的發(fā)射角小于該預(yù)設(shè)值時(shí)，該開孔將該特定 感測(cè)光折射向該光感測(cè)器。根據(jù)本發(fā)明的方法，其中，噪聲抑制模塊的一個(gè)表面涂布有吸光性材料，當(dāng)該特定 感測(cè)光射向該光感測(cè)器的發(fā)射角大于該預(yù)設(shè)值且射至該噪聲抑制模塊的該表面時(shí)，該表面 吸收該特定感測(cè)光以阻止該特定感測(cè)光射向該光感測(cè)器。關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與精神可以通過以下的發(fā)明詳述及附圖得到進(jìn)一步的了解。


圖1示出傳統(tǒng)的光學(xué)式觸控裝置的示意圖。圖2及圖3分別示出根據(jù)本發(fā)明的具體實(shí)施例的光學(xué)式觸控裝置的功能方塊圖及 示意圖。圖4(A)及(B)示出噪聲抑制模塊的多個(gè)開孔的不同外型的示意圖。圖5(A) (C)示出噪聲抑制模塊的多個(gè)開孔配合光感測(cè)器的不同排列情形而相 對(duì)應(yīng)地改變其設(shè)計(jì)的示意圖。圖6示出光學(xué)式觸控裝置的噪聲抑制模塊設(shè)置于光發(fā)射模塊的同一側(cè)且位于光 發(fā)射器的前方的示意圖。圖7示出噪聲抑制模塊的不同表面分別涂布有吸收性材料及反射性材料的示意 圖。圖8及圖9分別示出具有兩段式斜率的開口的噪聲抑制模塊設(shè)置于光感測(cè)器前方 或光發(fā)射器前方的示意圖。圖10示出根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)施例的光學(xué)式觸控裝置運(yùn)行方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體實(shí)施例為一種光學(xué)式觸控裝置。請(qǐng)參照?qǐng)D2及圖3，圖2及 圖3分別示出該光學(xué)式觸控裝置的功能方塊圖及示意圖。如圖2所示，光學(xué)式觸控裝置2 包含光發(fā)射模塊20、光感測(cè)模塊22、面板24、噪聲抑制模塊26及處理模塊28。其中，光感 測(cè)模塊22耦接至處理模塊28。如圖3所示，光發(fā)射模塊20包含四個(gè)光發(fā)射器20a 20d且光感測(cè)模塊22包含 四個(gè)光感測(cè)器22a 22d。光發(fā)射器20a 20d及光感測(cè)器22a 22d分別設(shè)置于面板24
7的兩側(cè)，光感測(cè)器22a 22d分別對(duì)應(yīng)于光發(fā)射器20a 20d。實(shí)際上，光發(fā)射模塊20所包 含的光發(fā)射器的數(shù)目及光感測(cè)模塊22所包含的光感測(cè)器的數(shù)目均視實(shí)際需求而定，并不 以此例為限。在此實(shí)施例中，噪聲抑制模塊26設(shè)置于光感測(cè)模塊22的同一側(cè)，并且噪聲抑制模 塊26設(shè)置于光感測(cè)器22a 22d的前方，由此達(dá)到抑制噪聲的功效。如圖3所示，噪聲抑制 模塊26具有四個(gè)開孔，并且這四個(gè)開口的位置分別對(duì)應(yīng)于光感測(cè)器22a 22d。假設(shè)光發(fā) 射器20c發(fā)射出一道感測(cè)光束，并且該感測(cè)光束包含多道感測(cè)光，圖3中的三道不同的感測(cè) 光Ll L3即包含在該多道感測(cè)光內(nèi)。其中，由于感測(cè)光L2由光發(fā)射器20c平行地射向相 對(duì)應(yīng)的光感測(cè)器22c，因此，感測(cè)光L2能夠通過噪聲抑制模塊26中的對(duì)應(yīng)于光感測(cè)器22c 的開口而射至光感測(cè)器22c。至于感測(cè)光Li，由于感測(cè)光Ll射向光感測(cè)器22c的入射角度較感測(cè)光L2大，并且 感測(cè)光Ll比感測(cè)光L2位于該感測(cè)光束的較外側(cè)處，當(dāng)此入射角度大于預(yù)設(shè)值時(shí)，代表感測(cè) 光Ll可能產(chǎn)生偏斜而射向鄰近光感測(cè)器22c的光感測(cè)器22d，也就是說(shuō)，對(duì)于光感測(cè)器22d 而言，感測(cè)光Ll是不必要的噪聲，故噪聲抑制模塊26將會(huì)阻擋住感測(cè)光Ll的前進(jìn)，以避免 感測(cè)光Ll進(jìn)入光感測(cè)器22d導(dǎo)致錯(cuò)誤的觸控點(diǎn)感測(cè)結(jié)果。實(shí)際上，上述預(yù)設(shè)值可以由使用 者或系統(tǒng)設(shè)定，根據(jù)實(shí)際需求而定，并無(wú)一定的限制。同樣地，由于感測(cè)光L3射向光感測(cè)器22c的入射角度較感測(cè)光L2大，并且感測(cè)光 L3比感測(cè)光L2位于該感測(cè)光束的較外側(cè)處，當(dāng)此入射角度大于預(yù)設(shè)值時(shí)，代表感測(cè)光L3可 能產(chǎn)生偏斜而射向鄰近光感測(cè)器22c的光感測(cè)器22b，也就是說(shuō)，對(duì)于光感測(cè)器22b而言，感 測(cè)光L3是不必要的噪聲，故噪聲抑制模塊26將會(huì)阻擋住感測(cè)光L3的前進(jìn)，以避免感測(cè)光 L3進(jìn)入光感測(cè)器22b導(dǎo)致錯(cuò)誤的觸控點(diǎn)感測(cè)結(jié)果。在實(shí)際應(yīng)用中，噪聲抑制模塊26的多個(gè)開孔的外型可采用前凸(如圖4(A)所 示)、內(nèi)縮(如圖4(B)所示)、楔形(如圖5(B)所示)或其他任意型式的設(shè)計(jì)，并無(wú)一定的 限制。此外，噪聲抑制模塊26的多個(gè)開孔也能夠配合光感測(cè)器22a 22d的不同排列情形 而相對(duì)應(yīng)地改變其設(shè)計(jì)，如同圖5(A) (C)所示。接下來(lái)，光感測(cè)模塊22將會(huì)根據(jù)其接收該至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié) 果。處理模塊28即會(huì)根據(jù)該感測(cè)結(jié)果判定形成于面板24表面上的觸控點(diǎn)位置。值得注意的是，噪聲抑制模塊26除了可以設(shè)置于光感測(cè)模塊22的同一側(cè)，并且 位于光感測(cè)器22a 22d的前方外，在實(shí)際應(yīng)用中，噪聲抑制模塊26還可設(shè)置于光發(fā)射模 塊20的同一側(cè)，并且位于光發(fā)射器20a 20d的前方，也能夠達(dá)到相當(dāng)良好的噪聲抑制效 果。請(qǐng)參照?qǐng)D6，圖6示出噪聲抑制模塊26設(shè)置于光發(fā)射模塊20的同一側(cè)且位于光發(fā)射器 20a 20d的前方的示意圖。如圖6所示，由于噪聲抑制模塊26設(shè)置于光發(fā)射模塊20的同一側(cè)且位于光發(fā)射 器20a 20d的前方，所以當(dāng)光發(fā)射模塊20的光發(fā)射器20c所射出的感測(cè)光束中的一道特 定感測(cè)光射向光感測(cè)模塊22的光感測(cè)器22c的發(fā)射角大于預(yù)設(shè)值時(shí)，代表該特定感測(cè)光可 能會(huì)偏斜而射向鄰近光感測(cè)器22c的其他光感測(cè)器22b及22d，故該特定感測(cè)光將會(huì)被視為 噪聲，并且噪聲抑制模塊26將會(huì)阻擋住該特定感測(cè)光。因此，只有當(dāng)該特定感測(cè)光射向光 感測(cè)模塊22的光感測(cè)器22c的發(fā)射角小于預(yù)設(shè)值時(shí)，該特定感測(cè)光才能夠順利通過噪聲抑 制模塊26的開口而射向光感測(cè)器22c。
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請(qǐng)參照?qǐng)D7，圖7示出噪聲抑制模塊26的不同表面分別涂布有光吸收性材料及光 反射性材料的示意圖。如圖7所示，在噪聲抑制模塊26中，對(duì)應(yīng)于光感測(cè)器22c的開口的 上方表面261b及下方表面262b均涂布有光反射性材料，由于感測(cè)光L2及L3的入射角度 小于預(yù)設(shè)值，故涂布有光反射性材料的上方表面261b及下方表面262b即可將感測(cè)光L2及 L3分別折射成折射光R2及R3，由此增加光感測(cè)器22c對(duì)于小角度感測(cè)光的接收強(qiáng)度，使得 光感測(cè)器22c的感測(cè)結(jié)果能夠更為準(zhǔn)確。此外，由于噪聲抑制模塊26的表面261a及262a分別涂布有光吸收性材料，并且 入射角度大于預(yù)設(shè)值的感測(cè)光L4及L5將會(huì)射至表面261a及262a，因此，表面261a及262a 將會(huì)吸收感測(cè)光L4及L5，以避免被視為光感測(cè)器22c的噪聲的感測(cè)光L4及L5射至光感測(cè) 器22c，使噪聲抑制效果更佳。請(qǐng)參照?qǐng)D8，圖8示出具有兩段式斜率的開口的噪聲抑制模塊26設(shè)置于光感測(cè)器 22c前方的示意圖。如圖8所示，假設(shè)感測(cè)光Ll L3的入射角度均小于預(yù)設(shè)值，其中感測(cè) 光Ll能夠直接射至光感測(cè)器22c而不會(huì)被噪聲抑制模塊26阻擋，而感測(cè)光L2及L3則會(huì) 被噪聲抑制模塊26折射成可射至光感測(cè)器22c的折射光R2及R3 ；至于入射角度大于預(yù)設(shè) 值的感測(cè)光L4及L5則會(huì)被噪聲抑制模塊26折射成遠(yuǎn)離光感測(cè)器22c的折射光R4及R5， 以達(dá)到抑制噪聲的功效。同理，圖9示出具有兩段式斜率的開口的噪聲抑制模塊26設(shè)置于光發(fā)射器20c前 方的示意圖。如圖9所示，假設(shè)光發(fā)射器20c發(fā)射出的感測(cè)光Ll L3的入射角度均小于 預(yù)設(shè)值，其中感測(cè)光Ll能夠直接射向光感測(cè)器22c而不會(huì)被噪聲抑制模塊26所阻擋或折 射，而感測(cè)光L2及L3則會(huì)被噪聲抑制模塊26折射成可射向光感測(cè)器22c的折射光R2及 R3 ；至于入射角度大于預(yù)設(shè)值的感測(cè)光L4及L5則會(huì)被噪聲抑制模塊26折射成無(wú)法射向光 感測(cè)器22c的折射光R4及R5，以達(dá)到抑制噪聲的功效。值得注意的是，上述所列舉的各種形式的光學(xué)式觸控裝置具有不同的設(shè)置方式及 位置，僅為本發(fā)明的較佳具體實(shí)施例，實(shí)際上仍有其他型式的設(shè)置方式及位置，并不以上述 實(shí)例為限。根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)施例為一種光學(xué)式觸控裝置運(yùn)行方法。在此實(shí)施例中， 該光學(xué)式觸控裝置包含光發(fā)射模塊、光感測(cè)模塊、噪聲抑制模塊及處理模塊，該光發(fā)射模塊 及該光感測(cè)模塊分別設(shè)置于該光學(xué)式觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)及第二側(cè)。實(shí)際上，該 噪聲抑制模塊可以設(shè)置于該第二側(cè)且位于該光感測(cè)模塊的多個(gè)光感測(cè)器的前方，或是設(shè)置 于該第一側(cè)且位于該光發(fā)射模塊的多個(gè)光發(fā)射器的前方，但不以此為限。請(qǐng)參照?qǐng)D10，圖10示出該光學(xué)式觸控裝置運(yùn)行方法的流程圖。如圖10所示，首 先，在步驟SlO中，該光發(fā)射模塊發(fā)出至少一道感測(cè)光束。該至少一道感測(cè)光束包含多道感 測(cè)光。接著，在步驟S12中，若該多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向該多個(gè)光感測(cè)器中的 一個(gè)光感測(cè)器的入射角大于預(yù)設(shè)值，該特定感測(cè)光被視為噪聲且該噪聲抑制模塊阻止該特 定感測(cè)光進(jìn)入該光感測(cè)器。在步驟S14中，該光感測(cè)模塊根據(jù)其接收該至少一道感測(cè)光束 的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果。最后，在步驟S16中，該處理模塊根據(jù)該感測(cè)結(jié)果判定形成于該表面 上的觸控點(diǎn)位置。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置及其運(yùn)行方法能夠通過各種具有 不同型式的噪聲抑制模塊的設(shè)置，有效地避免由于光感測(cè)器及光發(fā)射器高密度排列而導(dǎo)致
9的干擾效應(yīng)，故可大幅提升光學(xué)式觸控裝置檢測(cè)觸控點(diǎn)的準(zhǔn)確性。通過以上對(duì)優(yōu)選具體實(shí)施例的詳述，希望能更加清楚描述本發(fā)明的特征與精神， 而并非以上述所披露的優(yōu)選具體實(shí)施例來(lái)對(duì)本發(fā)明的范圍加以限制。相反地，其目的是希 望能涵蓋各種改變及等同性安排在本發(fā)明權(quán)利要求的范圍內(nèi)。主要組件符號(hào)說(shuō)明SlO S16 流程步驟1、2:光學(xué)式觸控裝置14、24:面板IOa 10d、20a 20d 光發(fā)射器12a 12d、22a 22d 光感測(cè)器261a、262a:噪聲抑制模塊的表面261b 上方表面262b 下方表面Ll L5 感測(cè)光20 光發(fā)射模塊22:光感測(cè)模塊26:噪聲抑制模塊28 處理模塊R2 R5 折射光。
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權(quán)利要求
一種光學(xué)式觸控裝置，包含光發(fā)射模塊，設(shè)置于所述光學(xué)式觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)，用以發(fā)出至少一道感測(cè)光束，所述至少一道感測(cè)光束包含多道感測(cè)光；光感測(cè)模塊，設(shè)置于所述表面上相異于所述第一側(cè)的第二側(cè)，所述光感測(cè)模塊包含多個(gè)光感測(cè)器；噪聲抑制模塊，設(shè)置于所述第二側(cè)且位于所述光感測(cè)模塊的所述多個(gè)光感測(cè)器的前方，若所述多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向所述多個(gè)光感測(cè)器中的一個(gè)光感測(cè)器的入射角大于預(yù)設(shè)值，所述特定感測(cè)光被視為噪聲且所述噪聲抑制模塊阻止所述特定感測(cè)光進(jìn)入所述光感測(cè)器；以及處理模塊，耦接至所述光感測(cè)模塊，當(dāng)所述光感測(cè)模塊根據(jù)其接收所述至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果后，所述處理模塊根據(jù)所述感測(cè)結(jié)果判定形成于所述表面上的觸控點(diǎn)位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)式觸控裝置，其中若所述特定感測(cè)光射向所述光感測(cè)器 的入射角小于所述預(yù)設(shè)值且所述特定感測(cè)光射至所述噪聲抑制模塊，所述噪聲抑制模塊折 射所述特定感測(cè)光至所述光感測(cè)器，以強(qiáng)化其接收強(qiáng)度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)式觸控裝置，其中所述噪聲抑制模塊包含多個(gè)開孔，所 述多個(gè)開孔的位置分別對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)光感測(cè)器。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)式觸控裝置，其中所述多個(gè)開孔的外型采用前凸、內(nèi)縮 或楔形的設(shè)計(jì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)式觸控裝置，其中所述多個(gè)開孔配合所述多個(gè)光感測(cè)器 的排列情形而改變其設(shè)計(jì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)式觸控裝置，其中所述開孔采用兩段式斜率的設(shè)計(jì)，當(dāng) 射向所述光感測(cè)器的所述特定感測(cè)光的入射角大于所述預(yù)設(shè)值時(shí)，所述開孔折射所述特定 感測(cè)光以遠(yuǎn)離所述光感測(cè)器；當(dāng)射向所述光感測(cè)器的所述特定感測(cè)光的入射角小于所述預(yù) 設(shè)值時(shí)，所述開孔將所述特定感測(cè)光折射至所述光感測(cè)器，以強(qiáng)化其接收強(qiáng)度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)式觸控裝置，其中所述噪聲抑制模塊的一個(gè)表面涂布有 吸光性材料，當(dāng)所述特定感測(cè)光射向所述光感測(cè)器的入射角大于所述預(yù)設(shè)值且射至所述噪 聲抑制模塊的所述表面時(shí)，所述表面吸收所述特定感測(cè)光以阻止所述特定感測(cè)光進(jìn)入所述 光感測(cè)器。
8.一種光學(xué)式觸控裝置，包含光發(fā)射模塊，設(shè)置于所述光學(xué)式觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)，用以發(fā)出至少一道感 測(cè)光束，所述至少一道感測(cè)光束包含多道感測(cè)光；光感測(cè)模塊，設(shè)置于所述表面上相異于所述第一側(cè)的第二側(cè)；噪聲抑制模塊，設(shè)置于所述第一側(cè)且位于所述光發(fā)射模塊的多個(gè)光發(fā)射器的前方，若 所述多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向所述光感測(cè)模塊的發(fā)射角大于預(yù)設(shè)值，所述特定 感測(cè)光被視為噪聲且所述噪聲抑制模塊阻止所述特定感測(cè)光射向所述光感測(cè)模塊；以及處理模塊，耦接至所述光感測(cè)模塊，當(dāng)所述光感測(cè)模塊根據(jù)其接收所述至少一道感測(cè) 光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果后，所述處理模塊根據(jù)所述感測(cè)結(jié)果判定所述表面上的觸控點(diǎn)位 置。
9.一種運(yùn)行光學(xué)式觸控裝置的方法，所述光學(xué)式觸控裝置包含光發(fā)射模塊、光感測(cè)模 塊、噪聲抑制模塊及處理模塊，所述光發(fā)射模塊及所述光感測(cè)模塊分別設(shè)置于所述光學(xué)式 觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)及第二側(cè)，所述噪聲抑制模塊設(shè)置于所述第二側(cè)且位于所述 光感測(cè)模塊的多個(gè)光感測(cè)器的前方，所述方法包含下列步驟所述光發(fā)射模塊發(fā)出至少一道感測(cè)光束，所述至少一道感測(cè)光束包含多道感測(cè)光； 若所述多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向所述多個(gè)光感測(cè)器中的一個(gè)光感測(cè)器的 入射角大于預(yù)設(shè)值，所述特定感測(cè)光被視為噪聲且所述噪聲抑制模塊阻止所述特定感測(cè)光 進(jìn)入所述光感測(cè)器；所述光感測(cè)模塊根據(jù)其接收所述至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果；以及 所述處理模塊根據(jù)所述感測(cè)結(jié)果判定所述表面上的觸控點(diǎn)位置。
10.一種運(yùn)行光學(xué)式觸控裝置的方法，所述光學(xué)式觸控裝置包含光發(fā)射模塊、光感測(cè)模 塊、噪聲抑制模塊及處理模塊，所述光發(fā)射模塊及所述光感測(cè)模塊分別設(shè)置于所述光學(xué)式 觸控裝置的一個(gè)表面的第一側(cè)及第二側(cè)，所述噪聲抑制模塊設(shè)置于所述第一側(cè)且位于所述 光發(fā)射模塊的多個(gè)光發(fā)射器的前方，所述方法包含下列步驟所述光發(fā)射模塊發(fā)出至少一道感測(cè)光束，所述至少一道感測(cè)光束包含多道感測(cè)光； 若所述多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向所述光感測(cè)模塊的發(fā)射角大于預(yù)設(shè)值， 所述特定感測(cè)光被視為噪聲且所述噪聲抑制模塊阻止所述特定感測(cè)光射向所述光感測(cè)模 塊；所述光感測(cè)模塊根據(jù)其接收所述至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果；以及 所述處理模塊根據(jù)所述感測(cè)結(jié)果判定所述表面上的觸控點(diǎn)位置。
全文摘要
一種光學(xué)式觸控裝置，包含光發(fā)射模塊、噪聲抑制模塊、光感測(cè)模塊及處理模塊。該光發(fā)射模塊發(fā)出至少一道感測(cè)光束。該至少一道感測(cè)光束包含多道感測(cè)光。若該多道感測(cè)光中的一道特定感測(cè)光射向該光感測(cè)模塊中的一個(gè)光感測(cè)器的入射角大于預(yù)設(shè)值，該噪聲抑制模塊阻止該特定感測(cè)光進(jìn)入該光感測(cè)器。當(dāng)該光感測(cè)模塊根據(jù)其接收該至少一道感測(cè)光束的情形產(chǎn)生感測(cè)結(jié)果后，該處理模塊根據(jù)該感測(cè)結(jié)果判定觸控點(diǎn)位置。本發(fā)明還提供了運(yùn)行光學(xué)式觸控裝置的方法。本發(fā)明的光學(xué)式觸控裝置及其運(yùn)行方法能夠通過噪聲抑制模塊的設(shè)置有效地避免由于光感測(cè)器高密度排列而導(dǎo)致的干擾效應(yīng)。
文檔編號(hào)G06F3/042GK101937288SQ20091015156
公開日2011年1月5日 申請(qǐng)日期2009年7月1日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月1日
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