專利名稱：驗(yàn)證drc配置文件的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)計(jì)工藝方法，尤其涉及一種利用正確圖形和錯(cuò)誤 圖形驗(yàn)證DRC (Design Rule Check,設(shè)計(jì)規(guī)則檢査)配置文件的方法。
背景技術(shù)：
芯片版圖設(shè)計(jì)時(shí)必須進(jìn)行DRC檢查，不符合版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的圖案不 能保證在硅片上實(shí)現(xiàn)，圖1說(shuō)明了版圖驗(yàn)證在IC設(shè)計(jì)中的位置。
任何物理版圖驗(yàn)證工具都通過(guò)DRC配置文件對(duì)版圖數(shù)據(jù)進(jìn)行檢查， 其流程如圖2所示。DRC配置文件的質(zhì)量可決定版圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢査的準(zhǔn)確 性，因此，DRC配置文件必須涵蓋版圖設(shè)計(jì)中的每一條規(guī)則，并且不能有 漏錯(cuò)(版圖錯(cuò)誤沒(méi)有檢査出來(lái))，不能有偽錯(cuò)(正確的版圖被報(bào)告有錯(cuò))。
目前，主要通過(guò)手工構(gòu)建的錯(cuò)誤圖形和成功流片的設(shè)計(jì)檢驗(yàn)DRC配 置文件是否正確，用DRC配置文件檢査錯(cuò)誤圖形應(yīng)該報(bào)告相應(yīng)的錯(cuò)誤，檢 査成功流片的設(shè)計(jì)應(yīng)沒(méi)有錯(cuò)誤，否則表明配置文件有誤。
這種方法的缺點(diǎn)是手工構(gòu)建的錯(cuò)誤圖形和成功流片的設(shè)計(jì)不能覆蓋 版圖設(shè)計(jì)規(guī)則中的所有設(shè)計(jì)規(guī)則，因而不能保證DRC配置文件的精確性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種驗(yàn)證DRC配置文件的方法，能 確保DRC配置文件的準(zhǔn)確性，并使DRC配置文件對(duì)每一條設(shè)計(jì)規(guī)則作精確 檢査。 為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明驗(yàn)證DRC配置文件的方法包括如下 步驟
(1) 設(shè)計(jì)兩組圖形， 一組為正確圖形，另一組為錯(cuò)誤圖形，所述正確 圖形符合版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的要求，所述錯(cuò)誤圖形不滿足版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的要 求；
(2) 用DRC配置文件分別檢査正確圖形和錯(cuò)誤圖形；
(3) 如果步驟(2)中的DRC配置文件檢査正確圖形沒(méi)有錯(cuò)誤，且檢 査錯(cuò)誤圖形有相應(yīng)錯(cuò)誤，說(shuō)明DRC配置文件正確；
(4) 如果步驟(2)不能得出步驟(3)的結(jié)果，說(shuō)明DRC配置文件 有錯(cuò)誤，需進(jìn)行修改。
本發(fā)明的驗(yàn)證DRC配置文件的方法，保證了版圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢査的準(zhǔn) 確性，為芯片成功流片提供有力保障。


下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
圖1是現(xiàn)有版圖驗(yàn)證在IC設(shè)計(jì)中所處位置的示意圖2是現(xiàn)有DRC配置文件檢査版圖數(shù)據(jù)的流程圖3是本發(fā)明的實(shí)施例中正確圖形和錯(cuò)誤圖形的舉例示意圖4是本發(fā)明驗(yàn)證DRC配置文件的方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明驗(yàn)證DRC配置文件的方法，包括如下步驟設(shè)計(jì)兩組圖形， 一組為正確圖形，該圖形符合版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的要求，另一組為錯(cuò)誤圖形， 該錯(cuò)誤圖形不滿足版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的要求，這兩組圖形都包含版圖設(shè)計(jì)中的
全部規(guī)則；用DRC配置文件分別檢査正確圖形和錯(cuò)誤圖形，如果檢查正 確圖形都沒(méi)有錯(cuò)誤，且檢査錯(cuò)誤圖形都有相應(yīng)規(guī)則的錯(cuò)誤，說(shuō)明DRC配 置文件正確，否則說(shuō)明DRC配置文件有錯(cuò)誤，需進(jìn)行修改(見(jiàn)圖4)。
本發(fā)明驗(yàn)證DRC配置文件的方法，通過(guò)參數(shù)化單元實(shí)現(xiàn)正確圖形的 設(shè)計(jì)，使正確圖形恰好符合版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的要求，再由改變參數(shù)值一個(gè)格 點(diǎn)得到錯(cuò)誤圖形，該錯(cuò)誤圖形剛好不滿足版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的要求。例如某條 規(guī)則是金屬的最小距離為0. 32，則該規(guī)則的正確圖形和錯(cuò)誤圖形如圖3 所示，在正確圖形中，表示兩個(gè)金屬之間最小距離的數(shù)值為0. 32，而在 錯(cuò)誤圖形中，表示兩個(gè)金屬之間最小距離的數(shù)值為0.31。然后用DRC配 置文件分別檢査正確圖形和錯(cuò)誤圖形，如果檢查正確圖形都沒(méi)有錯(cuò)誤，檢 査錯(cuò)誤圖形都有相應(yīng)規(guī)則的錯(cuò)誤，說(shuō)明DRC配置文件正確，否則說(shuō)明該 DRC配置文件有誤，需修改。
權(quán)利要求
1.一種驗(yàn)證DRC配置文件的方法，其特征在于，包括如下步驟(1)設(shè)計(jì)兩組圖形，一組為正確圖形，另一組為錯(cuò)誤圖形，所述正確圖形符合版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的要求，所述錯(cuò)誤圖形不滿足版圖設(shè)計(jì)規(guī)則的要求；(2)用DRC配置文件分別檢查正確圖形和錯(cuò)誤圖形；(3)如果步驟(2)中的DRC配置文件檢查正確圖形沒(méi)有錯(cuò)誤，且檢查錯(cuò)誤圖形有相應(yīng)錯(cuò)誤，說(shuō)明DRC配置文件正確；(4)如果步驟(2)不能得出步驟(3)的結(jié)果，說(shuō)明DRC配置文件有錯(cuò)誤，需進(jìn)行修改。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(1)中設(shè)計(jì)正 確圖形通過(guò)參數(shù)化單元實(shí)現(xiàn)。
3. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(1)中的錯(cuò)誤 圖形由改變參數(shù)值一個(gè)格點(diǎn)獲得。
4. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述正確圖形和錯(cuò)誤圖形 都包含版圖設(shè)計(jì)規(guī)則。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種驗(yàn)證DRC配置文件的方法，包括步驟設(shè)計(jì)兩組圖形，一組為正確圖形，另一組為錯(cuò)誤圖形；用DRC配置文件分別檢查正確圖形和錯(cuò)誤圖形，如果檢查正確圖形沒(méi)有錯(cuò)誤，且檢查錯(cuò)誤圖形有相應(yīng)錯(cuò)誤，說(shuō)明DRC配置文件正確，否則說(shuō)明DRC配置文件有錯(cuò)誤，需修改。本發(fā)明的驗(yàn)證DRC配置文件的方法，能確保DRC配置文件的正確，保證版圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢查的準(zhǔn)確性，為芯片成功流片提供有力保障。
文檔編號(hào)G06F17/50GK101162477SQ20061011712
公開(kāi)日2008年4月16日 申請(qǐng)日期2006年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年10月13日
發(fā)明者晏志卿 申請(qǐng)人:上海華虹Nec電子有限公司