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光學(xué)指紋采集儀的制作方法

文檔序號(hào):6421806閱讀:881來源:國知局
專利名稱:光學(xué)指紋采集儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種指紋圖像捕獲裝置,具體涉及一種光學(xué)指紋采集儀。
背景技術(shù)
指紋采集儀是指紋識(shí)別系統(tǒng)的輸入裝置,可廣泛使用于指紋鎖、考勤系統(tǒng)、帶指紋識(shí)別功能的鼠標(biāo)、鍵盤、手機(jī)等裝置上,也可以用于公安系統(tǒng)的指紋比對(duì)采集等作業(yè),為提高指紋識(shí)別的清晰度,通常采用光學(xué)指紋采集儀。
現(xiàn)有的光學(xué)指紋采集儀,其光路有全反射式和散射式兩種。散射式光路的原理是,在指紋凹部,入射光會(huì)穿過成像表面,而在指紋凸部,入射光會(huì)產(chǎn)生散射(不規(guī)則的反射)光,收集散射光,會(huì)獲得在指紋凸部較亮,而在指紋凹部暗的指紋圖像。然而,由于散射光方向的不規(guī)則性,在一個(gè)方向上收集的散射光強(qiáng)度較弱,會(huì)影響指紋的識(shí)別。
全反射式光路又稱吸收式光路,參見附圖一所示,其原理是,利用光學(xué)棱鏡成像表面的全內(nèi)反射特性,在指紋凹部,入射光在成像表面進(jìn)行全內(nèi)反射,在指紋凸部,入射光的某些部分被吸收并從指紋凸部散射,從而,將較暗的指紋凸部與較亮的指紋凹部區(qū)別開。在全反射光路中,為減小系統(tǒng)的尺寸,通常希望減小第一透鏡的直徑,然而,如果第一透鏡的直徑比成像表面上的指紋小,則透鏡組件必須放置成離觀察表面較遠(yuǎn),以便使捕獲的指紋圖像邊緣清晰,這又會(huì)使光程延長,而使系統(tǒng)尺寸增大,這一矛盾使得全反射式的光學(xué)指紋采集儀體積難以縮小,從而造成了其應(yīng)用的局限性。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型目的是提供一種成像清晰、體積小的光學(xué)指紋采集儀。
為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種光學(xué)指紋采集儀,包括光源、棱鏡、物鏡、圖像傳感器和殼體,在棱鏡的成像表面入射光的角度大于臨界角,還包括有光源反射鏡和成像反射鏡,所述成像反射鏡的法線方向與出射光方向的夾角在150°至165°之間。
上述技術(shù)方案中,所述“物鏡”用于使指紋成像,物鏡可以是單個(gè)透鏡,也可以是透鏡組,成像的方式為,光源發(fā)出的光經(jīng)光源反射鏡反射后進(jìn)入棱鏡中,在棱鏡的成像表面,入射光角度大于臨界角,將待成像的指紋置于棱鏡的成像表面上,在指紋的凹處,入射光發(fā)生全反射,在指紋的凸處,入射光被部分吸收及散射,從而減弱反射的亮度,出射光經(jīng)成像反射鏡反射后,由物鏡成像在圖像傳感器上,形成明暗構(gòu)成的指紋圖像。本實(shí)用新型為達(dá)到減小體積的目的,利用成像反射鏡使出射光向棱鏡的另一側(cè)反射,從而在光程不變的情況下,長度可以減小近一半,同時(shí),為避免在此過程中出射光與入射光間形成干擾,設(shè)置了光源反射鏡,將光源移至棱鏡的成像表面一側(cè),從而具有創(chuàng)造性。
本實(shí)用新型優(yōu)選的技術(shù)方案為,所述棱鏡為等腰直角棱鏡,所述光源反射鏡與直角棱鏡的成像表面平行設(shè)置,所述成像反射鏡的法線方向與出射光方向的夾角為157.5°。
其中,所述圖像傳感器可以為CMOS芯片,并且,為減少梯形失真,所述圖像傳感器平面與物鏡光軸間的夾角在80°至87°之間。
或者,所述圖像傳感器也可以為CCD傳感器。
進(jìn)一步的技術(shù)方案,所述殼體中部設(shè)有擋板,光源反射鏡固定連接于擋板上。
由于上述技術(shù)方案運(yùn)用,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)1.由于本實(shí)用新型設(shè)置了成像反射鏡,使得光程不變的情況下,指紋采集儀的長度減小近半,從而在保證成像清晰度的前提下,縮小了指紋采集儀的尺寸;2.本實(shí)用新型利用光源反射鏡使光源移動(dòng)位置,既使光源與棱鏡間有一定的距離,保證光照的均勻度,又騰出了空間,使得成像反射鏡的設(shè)置角度得以實(shí)現(xiàn);3.在殼體中設(shè)置了擋片,利用擋片和光源反射鏡的配合遮擋光源,避免了光源的雜散光對(duì)成像的干擾。


附圖1為現(xiàn)有技術(shù)的光學(xué)指紋采集儀光路示意圖;附圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中[1]、光源;[2]、光源反射鏡;[3]、擴(kuò)散片;[4]、棱鏡;[5]、成像反射鏡;[6]、物鏡;[7]、圖像傳感器;[8]、殼體;[9]、成像表面;[10]、擋板。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述實(shí)施例一參見附圖2所示,一種光學(xué)指紋采集儀,包括光源1、光源反射鏡2、直角棱鏡4、成像反射鏡5、物鏡6、圖像傳感器7和殼體8,所述直角棱鏡4為等腰直角棱鏡,其成像表面9位于殼體8一側(cè)邊的開口處,所述殼體8中部設(shè)有擋板10,擋板10與棱鏡4的成像表面9平行,光源反射鏡2固定連接于擋板10上,所述成像反射鏡5的法線方向與出射光方向的夾角為157.5°。
本實(shí)施例中,所述圖像傳感器7為CMOS芯片,CMOS芯片與物鏡光軸間的夾角為83°。
權(quán)利要求1.一種光學(xué)指紋采集儀,包括光源[1]、棱鏡[4]、物鏡[6]、圖像傳感器[7]和殼體[8],在棱鏡[4]的成像表面[9]入射光的角度大于臨界角,其特征在于還包括有光源反射鏡[2]和成像反射鏡[5],所述成像反射鏡[5]的法線方向與出射光方向的夾角在150°至165°之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)指紋采集儀,其特征在于所述棱鏡[4]為等腰直角棱鏡,所述光源反射鏡[2]與直角棱鏡的成像表面[9]平行設(shè)置,所述成像反射鏡[5]的法線方向與出射光方向的夾角為157.5°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)指紋采集儀,其特征在于所述圖像傳感器[7]為CMOS芯片。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)指紋采集儀,其特征在于所述圖像傳感器平面與物鏡光軸間的夾角在80°至87°之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)指紋采集儀,其特征在于所述圖像傳感器[7]為CCD傳感器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)指紋采集儀,其特征在于所述殼體[8]中部設(shè)有擋板[10],光源反射鏡[2]固定連接于擋板[10]上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種光學(xué)指紋采集儀,包括光源、棱鏡、物鏡、圖像傳感器和殼體,其特征在于還包括有光源反射鏡和成像反射鏡,所述成像反射鏡的法線方向與出射光方向的夾角在150°至165°之間。本實(shí)用新型在保證成像清晰度的前提下,縮小了指紋采集儀的尺寸,從而適用于指紋鎖等要求采集儀體積小、成像清晰的場(chǎng)合使用。
文檔編號(hào)G06K9/20GK2653608SQ20032011044
公開日2004年11月3日 申請(qǐng)日期2003年10月27日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月27日
發(fā)明者倪蘇平, 陳偉元 申請(qǐng)人:蘇州孔雀信天游電子有限公司
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