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相位差式防偽方法

文檔序號:6484122閱讀:269來源:國知局
專利名稱:相位差式防偽方法
技術領域
本發(fā)明提供一種可以作為機密文件或物品防偽效果的防偽方法,尤其是指一種利用經(jīng)過特殊處理的相位差片將圖樣隱藏,再利用與偏光片結合方式可以顯示圖樣的相位差式防偽方法。
目前常用的防偽方法,是利用激光全像片或是衍射光柵的激光防偽結構,再外覆一透明塑料保護膜,以便將圖樣隱藏在要防偽的物品上。而利用激光全像片或衍射光柵結構將圖樣隱藏,在光線照射下則可以顯示出圖樣,且仿冒者可以將透明塑料保護膜去除后,利用電鑄的技術即可將激光全像片或衍射光柵結構予以復制,且仿冒者可任意制作一相似的標簽來取代真正的激光防偽標簽,一般非專業(yè)識別人員在缺乏原版的防偽標簽比對下,也無法正確地予以識別其真?zhèn)?。另外,在印刷技術及數(shù)字取樣技術進步的情況下,精密印刷的防偽圖樣也很容易利用高分辨率的掃描儀及印刷設備復制到人眼難以分辨的程度。
如現(xiàn)有技術所揭示的,利用兩片光柵片或全像片,其中一片為判別片,當判別片以適當角度覆蓋另一片后,其產(chǎn)生的疊紋才可形成可供識別用的圖樣,以解決上述容易以人眼識別出防偽物品上的防偽圖樣的問題,但該全像片或是光柵片的制作難度高且成本昂貴。
本發(fā)明的另一目的,在于解決現(xiàn)有技術利用精密印刷、全像片及光柵的防偽方法,易于偽造復制的問題,而提出一種以人眼無法直接看出隱藏的圖樣且不易偽造的防偽方法。
為達到上述的目的,本發(fā)明的相位差式防偽方法,提供利用經(jīng)過特殊處理過后的相位差片以隱藏防偽或是機密圖樣,該相位差片具有不同相位差的隱藏圖樣區(qū)域與背景區(qū)域,當結合可以產(chǎn)生及過濾偏振光的識別裝置后,而能在隱藏圖樣區(qū)域與背景區(qū)域產(chǎn)生不同的透光率而顯示出特殊設計的隱藏圖樣;本發(fā)明還可以利用相位差可疊加或補償?shù)奶匦?,用一片以上的相位差片來組合出要隱藏的圖案,也可以將帶有部分隱藏圖樣的相位差片與偏光片構成識別裝置,以提高復制難度的效果而作為高度防偽。
圖2,是本發(fā)明的相位差片的示意圖。
圖3,是本發(fā)明的具有二相位差片的防偽方法示意圖。
圖4,是本發(fā)明的利用條紋圖方式的相位差片示意圖。
圖5,是本發(fā)明的識別裝置與相位差片結合的示意圖。
圖6,是本發(fā)明的穿透式識別裝置與單一相位差片結合的示意圖。
圖7,是本發(fā)明的穿透式識別裝置與單一相位差片的光路示意圖。
圖8,是本發(fā)明的穿透式識別裝置與二相位板結合的示意圖。
圖9,是本發(fā)明的各種相位差片與穿透式識別裝置結合后相對應隱藏圖樣區(qū)域與背景區(qū)域透光率的比較圖。


圖10,是本發(fā)明的另一穿透式識別裝置的示意圖。
圖11,是本發(fā)明的反射式識別裝置與單一相位差片的示意圖。
圖12,是本發(fā)明的反射式識別裝置與二相位板的示意圖。
圖13,是本發(fā)明的另一反射式識別裝置的示意圖。
再參見圖1及圖2所示,其中該相位差片10上的隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13的制作是針對某相位延遲的相位差片10經(jīng)過特殊處理(如化學處理、熱處理等去除部份或全部相位差延遲特性的加工)來形成,而該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13未與識別裝置20結合前,其隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13均呈現(xiàn)透明狀態(tài),因此,觀察者無法直接看到相位差片10的隱藏圖樣11,另外觀察者利用一般的光源照射在該相位差片10上也無法顯示出該隱藏圖樣11,因此,可以達到防偽的效果。
該相位差片10的隱藏圖樣11可由至少一相位差片10疊合而成,請參見圖3所示,是本發(fā)明具有二相位差片的防偽方法的示意圖,當相位差片10由第一相位差片10A及第二相位差片10B兩片相位差片疊合而成時,則該相位差片10上每一位置的相位差是由該位置相對應于第一相位差片10A及第二相位差片10B上的相位差加和而成;上述方式可將隱藏圖樣11分散在不同的相位差片(如第一相位差片10A或第二相位差片10B)上,再將一相位差片(如第一相位差片10A)置于要防偽的物品上,而另一相位差片(如第二相位差片10B)置于識別裝置20上,當此兩片相位差片準確的疊合后,才能組合出所隱藏的圖樣。因此,當觀察者利用任何特殊方法讀取到欲防偽物品上的圖樣,但由于有部分的圖樣是在該識別裝置20上,故該觀察者也無法得知完整的隱藏圖樣11而不能進行偽造。而且,該第一相位差片10A及第二相位差片10B可以利用亂點圖方式(如圖3所示)或條紋圖方式(如圖4所示)將圖樣隱藏到亂點圖或條紋圖中,使人眼對于未與識別裝置結合的防偽圖樣的識別更為困難;且該亂點圖的制作并不以二元方式加工相位差(已加工的區(qū)域為零相位差)為限,也可利用灰階方式加工亂點圖并配合灰階相位差片制作方式,而以該條紋圖方式其中該條紋的方向可以為任意周期的不規(guī)則條紋;而利用亂點圖方式作為隱藏圖樣時當觀察者讀取到任一片相位差片時,顯示出來的圖樣是許多亂點,而無法識別出隱藏圖樣,因此,以亂點圖及條紋圖將防偽圖樣加以調(diào)整改變的方式可提高防偽效果。
當識別裝置20與該相位差片10結合,請參見圖5所示,是本發(fā)明識別裝置與相位差片結合的示意圖,該識別裝置20的偏振光21入射在相位差片10,后通過該相位差片10上具有不同相位差的隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13,之后分別在隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13射出不同偏振化方向的第一偏振光21A及第二偏振光21B,當此兩道偏振光通過識別裝置20,使該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13產(chǎn)生不同的透光率而顯示出隱藏圖樣11。
而本發(fā)明的識別裝置20可依據(jù)要防偽物品的透光或不透光分為穿透式及反射式,下面結合圖標進行作詳細說明穿透式如圖6所示,該穿透式識別裝置20A可包括設在相位差片10上方的上偏光片22A及相位差片10下方的下偏光片22B,該上偏光片22A及下偏光片22B可以是線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片,且該上偏光片22A及下偏光片22B可以結合其它必要元件組成模塊;請參見圖7所示,當穿透式識別裝置20A與該相位差片10結合后,以一光源23照射在下偏光片22B,后產(chǎn)生偏振光21入射在相位差片10上具有不同相位差的隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13,之后分別在隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13射出不同偏振化方向的第一偏振光21A及第二偏振光21B,之后通過上偏光片22A,由于該上偏光片22A上具有一定的偏振性,因此該第一偏振光21A及第二偏振光21B通過上偏光片22A后,會產(chǎn)生光被吸收及穿透的現(xiàn)象,而使該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13產(chǎn)生不同的透光率,通過上述的透光率不同的對比而顯示出隱藏圖樣11,當該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13的對比越大則顯示出的隱藏圖樣越明顯;而當光源23照射在上偏光片22A,再經(jīng)過相位差片10,后由下偏光片22B射出,也可顯示出隱藏圖樣11。
再參見圖6所示,當上偏光片22A及下偏光片22B分別為水平線偏光片及垂直線偏光片,該相位差片10為1/2λ(半波長相位延遲)片,并通過特殊處理(如化學處理、熱處理、激光處理等)使其隱藏圖樣區(qū)域的相位差為1/2λ而該背景區(qū)域13的相位差為0λ,且該下偏光片22B為垂直方向的偏光片,相位差片10的拉伸方向與下偏光片22B的偏光成45度角貼合,當光線照射在下偏光片22B,而產(chǎn)生垂直偏振光,后通過相位差片10的隱藏圖樣區(qū)域12的垂直偏振光變?yōu)樗狡窆?,及通過背景區(qū)域13的垂直偏振光不變,后來,該隱藏圖樣區(qū)域12的水平偏振光入射在水平方向的上偏光片22A而穿透,使該隱藏圖樣區(qū)域12完全透光,而該垂直偏振光則被上偏光片22A吸收,使該背景區(qū)域13呈現(xiàn)黑色,由于該隱藏圖樣區(qū)域12(呈現(xiàn)完全透光)與背景區(qū)域13(呈現(xiàn)黑色)的色澤呈現(xiàn)最高對比,因此,可清楚顯示該隱藏圖樣。而其它可達到上述對比效果的情況,請參見圖9的本發(fā)明各種相位差片與穿透式識別裝置結合后相對應隱藏圖樣區(qū)域與背景區(qū)域穿透率的比較圖。
穿透式識別裝置20A也配合二片相位差片使用,請參見圖8所示,其中該第一相位差片10A可貼在該一偏光片(如上偏光片22A)上,并且第二相位差片10B貼在另一偏光片(如下偏光片22B)上,再將貼在第一相位差片10A上的上偏光片22A貼在要防偽的可透光物品上,以便將一部分圖樣隱藏在可透光物品上,其它部分圖樣隱藏在識別裝置20A上,當?shù)谝幌辔徊钇?0A與第二相位差片10B準確疊合后,并由一光源23入射在下偏光片22B,才可顯示出隱藏圖樣,因此,當僅具有透光物品或穿透式識別裝置20A均無法得知隱藏圖樣,因此,可以達到更好的防偽效果。
另外,穿透式識別裝置20A可采用一可發(fā)射偏振光之偏振光發(fā)射器來取代圖7中的一光源23及下偏光片22B,請參見圖10所示,該穿透式識別裝置20A均包括一偏振光發(fā)射器25及設在相位差片10下表面的下偏光片22B,該穿透式識別裝置20A與相位差片10結合后,該偏振光發(fā)射器25發(fā)出一偏振光21照射在該相位差片10的上表面,則顯示出隱藏圖樣。當該相位差片10的下表面與下偏光片22B的一面貼合后,再將該下偏光片22B的另一面貼在要防偽的可透光物品上,則可以將圖樣隱藏在該物品上。反射式如圖11所示,該反射式識別裝置20B包括一設在相位差片10上方的偏光片22及一設在相位差片10下方的偏振態(tài)保留性質(zhì)的反射層24;其中該偏光片22可以是線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片,該反射層24可以是金屬反射層,且該偏光片22及反射層24可以結合其它必要元件組成模塊;當反射式識別裝置20B與該相位差片10結合后,以一光源23照射在偏光片22上,后產(chǎn)生偏振光21入射在相位差片10上具有不同相位差的隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13,之后分別經(jīng)過隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13產(chǎn)生不同極化方向的偏振光,之后經(jīng)過反射層24反射后,再通過隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13射出形成第一偏振光21A及第二偏振光21B,再到達偏光片22,由于該偏光片22上具有一定的偏振性,因此該第一偏振光21A及第二偏振光21B通過偏光片22后,會產(chǎn)生光被吸收或穿透的現(xiàn)象,而使該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13產(chǎn)生不同的反射率,通過上述的反射率不同的對比而顯示出隱藏圖樣11,當該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13的對比越大則顯示出的隱藏圖樣越明顯。
再參見圖11所示,當偏光片22為水平線偏光片,且該相位差片10為1/4λ片,并通過特殊處理(如化學處理、熱處理、激光處理等)使其隱藏圖樣區(qū)域12的相位差為1/4λ而該背景區(qū)域13的相位差為0λ,且該偏光片22的極化方向與該相位差片10的拉伸方向成45度角貼合后;當光線照射在偏光片22,而產(chǎn)生水平偏振光,后通過相位差片10的隱藏圖樣區(qū)域12的水平偏振光變?yōu)閳A偏振光,而通過背景區(qū)域13的水平偏振光不變,后來,該圓偏振光經(jīng)過偏振態(tài)保留性質(zhì)的反射層24的反射,再次通過隱藏圖樣區(qū)域12的相位差1/4λ而成為垂直偏光,使該隱藏圖樣區(qū)域12呈現(xiàn)黑色,而通過背景區(qū)域13的水平偏振光則經(jīng)由反射層24反射,再通過背景區(qū)域13時仍為水平偏光,使該背景區(qū)域13完全透光,由于該隱藏圖樣區(qū)域12(呈現(xiàn)黑色)與背景區(qū)域13(呈現(xiàn)反光)的色澤呈現(xiàn)最高對比,因此,可清楚顯示該隱藏圖樣。
該反射式識別裝置20B也配合二片相位差片使用,請參見圖12所示,該第一相位差片10A可以貼在該偏光片22上,并且第二相位差片10B貼在反射層24上,再將反射層24貼在要防偽的不透光物品上,以將一部分圖樣隱藏在不透光物品上,其它部分圖樣隱藏在反射式識別裝置20B上,當?shù)谝幌辔徊钇?0A與第二相位差片10B疊合,并由一光源23入射在該偏光片22上,才可顯示出隱藏圖樣,因此,當僅具有不透光物品或反射式識別裝置20B均無法得知隱藏圖樣,因此,可達到更好的防偽效果。
另外,請參見圖13所示,是本發(fā)明的另一反射式識別裝置示意圖,反射式識別裝置20B也可由一可發(fā)射偏振光的偏振光發(fā)射器25及設在相位差片10下表面的反射式偏光片26所組成;其中該反射式偏光片26是一具有反射層的偏光片,而該反射式偏光片26的偏光片只反射特定偏振方向的偏振光,其余偏振方向的光線會加以吸收或穿透;當該反射式識別裝置20B與相位差片10結合后,該偏振光發(fā)射器25發(fā)出一偏振光照射在該相位差片10上,后經(jīng)過反射式偏光片26,使與反射式偏光片26相同偏振方向的偏振光反射,而其它方向的偏振光則經(jīng)由反射式偏光片26穿透或被其吸收;由于該隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13的相位差不同,故通過隱藏圖樣區(qū)域12與背景區(qū)域13所產(chǎn)生的偏振光方向也不同,故入射在反射式偏光片26時,會產(chǎn)生不同的反射現(xiàn)象,而具有不同的反射率,因而顯示出隱藏圖樣。而當該相位差片10的下表面與反射式偏光片26的一面貼合后,再將該反射式偏光片26的另一面貼在要防偽的不透光物品上,則可將圖樣隱藏在該物品上。如圖13所示,當偏振光發(fā)射器25產(chǎn)生的偏振光方向為水平,反射式偏光片26的偏振方向也為水平,相位差片10為1/2λ片,并通過特殊處理(如化學處理、熱處理、激光處理等)使其隱藏圖樣區(qū)域12的相位差為1/2λ而該背景區(qū)域13的相位差為0λ,而反射式偏光片26的極化方向與該相位差片10的拉伸方向成45度角貼合;當由偏振光發(fā)射器25所產(chǎn)生的水平偏振光通過相位差片10的隱藏圖樣區(qū)域12的水平偏振光變?yōu)榇怪逼窆猓ㄟ^背景區(qū)域13的水平偏振光不變;當兩偏振光行進到水平偏振方向的反射式偏光片26,通過隱藏圖樣區(qū)域12的垂直偏振光被完全吸收或穿透,從上方觀察位置觀看則成為黑色區(qū)域;通過背景區(qū)域13的水平偏振光則被反射式偏光片26完全反射,從上方觀察位置觀看則成為反光區(qū)域,此一方式的搭配可以達到最高的對比。
以上所述,只是本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已,不能用以限定本發(fā)明實施的范圍,即大凡依照本發(fā)明申請專利范圍所作的等效物變化與修改,都應仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍內(nèi)。
權利要求
1.一種相位差式防偽方法,其特征在于其提供具有隱藏圖樣(11)的相位差片(10),所述相位差片(10)的隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)具有不同的相位差,當可以產(chǎn)生偏振光(21)的識別裝置(20)與所述相位差片(10)結合,可使隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)產(chǎn)生不同的透光率而顯示出隱藏圖樣(11)。
2.根據(jù)權利要求1所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)未與識別裝置(20)結合前,其隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)均呈現(xiàn)透明狀態(tài);且結合識別裝置(20)后所顯示出的隱藏圖樣(11)可以用人眼或機器識別的方式加以判別其真?zhèn)巍?br> 3.根據(jù)權利要求1所述的相位差式防偽方法,其中所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)具有不同的相位差,使由入射在相位差片(10)的偏振光(21)由隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)射出不同極化方向的第一偏振光(21A)及第二片偏振光(21B)。
4.根據(jù)權利要求1所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)的隱藏圖樣(11)可由至少一相位差片(10)疊合而成。
5.根據(jù)權利要求1所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)可由第一相位差片(10A)及第二相位差片(10B)疊合而成,且所述相位差片(10)的相位差可以由第一相位差片(10A)相對應第二相位差片(10B)位置的相位差加和而成。
6.根據(jù)權利要求5所述的相位差式防偽方法,其中所述第一相位差片(10A)及第二相位差片(10B)可以用亂點圖方式隱藏圖樣(11)。
7.根據(jù)權利要求5所述的相位差式防偽方法,其中所述第一相位差片(10A)及第二相位差片(10B)可以用條紋圖方式隱藏圖樣(11)。
8.根據(jù)權利要求1所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)可以包括設在相位差片(10)上方及下方的一對偏光片(22A、22B)。
9.根據(jù)權利要求8所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)與相位差片(10)結合后,提供一光源(23)入射在一偏光片(22)上,則可以顯示出隱藏圖樣(11)。
10.根據(jù)權利要求8所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)可以是1/2λ片,且通過特殊處理使所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)的相位差分別為1/2λ及0λ或0λ及1/2λ為最佳。
11.根據(jù)權利要求8所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)的偏光片(22)可以是線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片。
12.根據(jù)權利要求8所述的相位差式防偽方法,其中所述第一相位差片(10A)可以貼在所述的一偏光片(22A)上,并且第二相位差片(10B)貼在另一偏光片(22B)上,再將已貼合在偏光片(22A)上的第一相位差片(10A)貼在要防偽的可透光物品上,以便將圖樣隱藏在所述物品上。
13.根據(jù)權利要求12所述的相位差式防偽方法,其中所述當已經(jīng)貼合在偏光片(22A)上的第一相位差片(10A)與已經(jīng)貼合在偏光片(22B)上的第二相位差片(10B)兩者相位差片部分準確疊合后,并由一光源(23)入射在其中一偏光片(22A)上,則可以在另一片偏光片(22B)上顯示出隱藏圖樣(11)。
14.根據(jù)權利要求1所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)可以包括分別設在相位差片(10)上方的一偏光片(22)及下方的一偏振態(tài)保留性質(zhì)的反射層(24)。
15.根據(jù)權利要求14所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)與相位差片(10)結合后,提供一光源(23)入射所述偏光片(22),通過反射后則可以顯示出隱藏圖樣(11)。
16.根據(jù)權利要求14所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)可以是1/4λ片,且通過特殊處理使所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)的相位差分別為1/4λ及0λ或0λ及1/4λ為最佳。
17.根據(jù)權利要求14所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)的偏光片(22)可以是線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片。
18.根據(jù)權利要求14所述的相位差式防偽方法,其中所述第一相位差片(10A)可以貼在所述偏光片(22)上,并且第二相位差片(10B)貼在反射層(24)上,再將反射層(24)貼在要防偽的不透光物品上,以便將圖樣隱藏在所述物品上。
19.根據(jù)權利要求18所述的相位差式防偽方法,其中所述當?shù)谝幌辔徊钇?10A)與第二相位差片(10B)準確疊合后,并由一光源(23)入射在所述偏光片(22)上,則顯示出隱藏圖樣(11)。
20.根據(jù)權利要求1所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)可以包括一偏振光發(fā)射器(25)及設在相位差片(10)下表面的下偏光片(22B)。
21.根據(jù)權利要求20所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)與相位差片(10)結合后,所述偏振光發(fā)射器(25)發(fā)出一偏振光(21)照射在所述相位差片(10)的上表面,則顯示出隱藏圖樣(11)。
22.根據(jù)權利要求20所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)的下表面與下偏光片(22B)的一面貼合后,再將所述下偏光片(22B)的另一面貼在要防偽的可透光物品上,以便將圖樣隱藏在所述物品上。
23.根據(jù)權利要求20所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)可以是1/2λ片,且通過特殊處理使所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)的相位差分別為1/2λ及0λ或0λ及1/2λ為最佳。
24.根據(jù)權利要求1所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)可以包括一偏振光發(fā)射器(25)及設在相位差片(10)下表面的反射式偏光片(26)。
25.根據(jù)權利要求24所述的相位差式防偽方法,其中所述識別裝置(20)與相位差片(10)結合后,所述偏振光發(fā)射器(25)發(fā)出一偏振光(21)照射在所述相位差片(10)的上表面,則顯示出隱藏圖樣(11)。
26.根據(jù)權利要求24所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)的下表面與反射式偏光片(26)的一面貼合后,再將所述反射式偏光片(26)的另一面貼在要防偽的不透光物品,以便將圖樣隱藏在所述物品上。
27.根據(jù)權利要求24所述的相位差式防偽方法,其中所述反射式偏光片(26)包括一偏光片(22)及設在偏光片(22)下方的反射層,以產(chǎn)生反射的偏振光。
28.根據(jù)權利要求24所述的相位差式防偽方法,其中所述相位差片(10)可以是1/2λ片,且通過特殊處理使所述隱藏圖樣區(qū)域(12)與背景區(qū)域(13)的相位差分別為1/2λ及0λ或0λ及1/2λ為最佳。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種相位差式防偽方法,其提供利用經(jīng)過特殊處理過后的相位差片以隱藏防偽或者是機密圖樣,結合可以產(chǎn)生及過濾偏振光的識別裝置后,而能顯示出特殊設計的隱藏圖樣;可進一步利用相位差可疊加或補償?shù)奶匦?,可用一片以上的相位差片來組合出要隱藏的圖案,也可以結合帶有特殊圖樣的相位差片與偏光片構成識別裝置,以提高復制難度的效果而作為高度防偽。
文檔編號G06K9/58GK1448887SQ0210816
公開日2003年10月15日 申請日期2002年3月28日 優(yōu)先權日2002年3月28日
發(fā)明者王迺岳, 蔡朝旭 申請人:財團法人工業(yè)技術研究院
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