專利名稱:一種安裝錫球裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉一種安裝錫球裝置,特別是指一種為CPU座體精確安裝入錫球的安裝錫球裝置。
現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)有的安裝錫球裝置,如美國(guó)第620963B1號(hào)發(fā)明專利案所公開(kāi)的安裝錫球裝置,其主要是通過(guò)一吸氣裝置將錫球吸附在吸錫球座的錐形孔洞,并利用吸氣壓力的解除使錫球自然釋放進(jìn)入CPU座體。因此現(xiàn)有的此種裝置為確保能產(chǎn)生足夠的吸力,必須依靠較大型的吸氣裝置以提供強(qiáng)大吸力,否則會(huì)由于錫球在圓度的制造上差異,導(dǎo)致風(fēng)漏現(xiàn)象而無(wú)法令錫球穩(wěn)定吸附,同時(shí)會(huì)產(chǎn)生震動(dòng)造成易位;其次,當(dāng)吸氣壓力消失欲使錫球落下時(shí),可能會(huì)因?yàn)殪o電現(xiàn)象或其他因素,造成錫球仍卡持殘留在吸錫球座的孔洞,因此難以在CPU座體中精確安裝入錫球。
技術(shù)內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種安裝錫球裝置,可強(qiáng)迫錫球被頂出而精確落入CPU座體的對(duì)應(yīng)孔洞,防止錫球卡持或殘留于及錫球座,可以在CPU座體中精確安裝入錫球。
本實(shí)用新型的另一個(gè)目的在提供一種安裝錫球裝置,無(wú)須倚賴大型的吸氣裝置即能提供強(qiáng)大的吸力,不受錫球真圓度影響,均可穩(wěn)定吸附錫球,不會(huì)發(fā)生震動(dòng)易位或產(chǎn)生風(fēng)漏現(xiàn)象。
實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的的安裝錫球裝置包括上模組及下?;瑝K,CPU座體可置于上模組與下?;瑝K之間,上模組是由氣壓缸、錫球蓋板、頂盤及吸錫球座所組成,利用吸錫球座將錫球施予吸附,并藉氣壓缸下壓推動(dòng)頂盤,使頂盤表面分布所設(shè)之頂針可強(qiáng)迫錫球被頂出而精確落入CPU座體之對(duì)應(yīng)孔洞。
實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的另一目的的安裝錫球裝置的吸錫球座是開(kāi)設(shè)多個(gè)直形孔洞以供錫球直接吸附,而頂盤表面之頂針是小于直形孔洞之直徑,使吸氣氣流仍可通過(guò)直形孔洞,因此不需依賴大型的吸氣裝置即能提供強(qiáng)大的吸力,不受錫球真圓度影響,可穩(wěn)定吸附錫球,不會(huì)發(fā)生震動(dòng)易位或產(chǎn)生風(fēng)漏現(xiàn)象。
作為本實(shí)用新型的改進(jìn),上模組是包括氣壓缸、錫球蓋板、頂盤及吸錫球座,其中氣壓缸設(shè)于錫球蓋板上方,上、下端各設(shè)有進(jìn)氣口及排氣口,通過(guò)進(jìn)氣與排氣作用,控制活塞桿上下動(dòng)作;錫球蓋板設(shè)于吸錫球座上方,其一側(cè)設(shè)有通孔并接合一接頭,以便與真空產(chǎn)生器聯(lián)接;頂盤,其下端表面分布設(shè)有多個(gè)頂針,安裝到錫球蓋板與吸錫球座之間,其與錫球蓋板之間設(shè)有適當(dāng)?shù)臍饬魍ǖ阑虮3謿饬鏖g隙,使氣流可由錫球蓋板的通孔經(jīng)過(guò)該氣流通道而進(jìn)入吸錫球座,以產(chǎn)生真空吸力,又頂盤下端面選定處并開(kāi)設(shè)一個(gè)或一個(gè)以上之盲孔,以供伸縮彈簧對(duì)應(yīng)安裝入;吸錫球座,是用來(lái)供錫球蓋板形成鎖合,在其中央開(kāi)設(shè)一凹槽面以供頂盤放置,該凹槽面表面設(shè)有呈選定分布的多個(gè)孔洞,且多個(gè)孔洞與頂盤的多個(gè)頂針相對(duì)應(yīng),同時(shí)該凹槽面在未設(shè)有孔洞區(qū)域則與供伸縮彈簧形成頂持。
作為進(jìn)一步改進(jìn),安裝錫裝置的頂盤下端面所設(shè)的盲孔是在壁面開(kāi)設(shè)一個(gè)或一個(gè)以上的通氣孔。
作為改進(jìn),安裝錫球裝置的吸錫球座在凹槽面表面所設(shè)的多個(gè)孔洞,是以呈直形孔洞為較佳。
作為改進(jìn),安裝錫球裝置的該頂盤之頂針是小于吸錫球座之孔洞直徑。
作為進(jìn)一步改進(jìn),安裝錫球裝置的頂盤的氣流通道是為十字槽形狀。
作為改進(jìn),安裝錫球裝置的吸錫球座在適當(dāng)處可設(shè)置多個(gè)滾球套筒,而?;瑝K在對(duì)應(yīng)處設(shè)有滑柱,滑柱可貫穿套接于滾珠套筒。
作為改進(jìn),安裝錫球裝置的下模滑塊之兩側(cè)均具有一擋塊。
采用本實(shí)用新型的安裝錫球裝置,CPU座體置于上模組與下?;瑝K之間,利用吸錫球座將錫球吸附,并由氣壓缸下壓推動(dòng)頂盤,使頂盤表面所設(shè)的頂針強(qiáng)迫錫球被頂出而精確落入CPU座體之對(duì)應(yīng)孔洞,防止錫球因震動(dòng)易位或殘留于吸錫球座。同時(shí)吸錫球座是開(kāi)設(shè)多個(gè)直形孔洞供錫球直接吸附,在頂盤表面的頂針小于直形孔洞之直徑,吸氣氣流仍可通過(guò)直形孔洞,不須依賴大型的吸氣裝置即能提供強(qiáng)大的吸力,不受錫球真圓度影響,均可穩(wěn)定吸附錫球,不會(huì)發(fā)生震動(dòng)易位或產(chǎn)生風(fēng)漏現(xiàn)象。
圖1是本實(shí)用新型的組合立體圖。
圖2是本實(shí)用新型中上模組與下?;瑝K呈分離狀態(tài)的立體圖。
圖3是本實(shí)用新型中上模組與下?;瑝K呈分離的斷面示意圖。
圖4是本實(shí)用新型的分解立體圖。
圖5是本實(shí)用新型中氣壓缸下壓推動(dòng)頂盤的動(dòng)作示意圖。
圖6是本實(shí)用新型中錫球呈吸附狀態(tài)的局部放大示意圖。
具體實(shí)施例現(xiàn)在根據(jù)附圖通過(guò)對(duì)實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明,將本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特征及其作用、目的詳細(xì)說(shuō)明如下如圖1至圖3所示,本實(shí)用新型的安裝錫球裝置構(gòu)成是包括一上模組10及一下?;瑝K20,該上模組10是由一氣壓缸1、一錫球蓋板2、一頂盤3及一吸錫球座4所組成,CPU座體30可置于上模組10與下?;瑝K20之間,利用吸錫球座4將錫球40予以吸附,氣壓缸1下壓推動(dòng)頂盤3,使頂盤3表面分布所設(shè)的頂針31強(qiáng)迫錫球40被頂出而精確落入CPU座體30之對(duì)應(yīng)孔洞301,這種結(jié)構(gòu)可以防止錫球40發(fā)生震動(dòng)易位或殘留卡持于吸錫球座4。
上述的上模組10,如圖3所示,其組成包括氣壓缸1、錫球蓋板2、頂盤3及吸錫球座4,其中氣壓缸1設(shè)于錫球蓋板2上方,上、下端各設(shè)有進(jìn)氣口11及排氣口12,通過(guò)進(jìn)氣與排氣作用,以控制活塞桿13上下動(dòng)作。
錫球蓋板2,設(shè)于吸錫球座上方,其一側(cè)設(shè)有通孔21并接合接頭22,以便與真空產(chǎn)生器聯(lián)接;頂盤3,其下端表面是分布設(shè)有多個(gè)頂針31,安裝到錫球蓋板2與吸錫球座4之間,其與錫球蓋板2是設(shè)有適當(dāng)?shù)臍饬魍ǖ?2或保持氣流間隙,使氣流可由錫球蓋板2的通孔21經(jīng)過(guò)該氣流通道32而進(jìn)入吸錫球座4,以產(chǎn)生真空吸力,頂盤3的下端面在選定處開(kāi)設(shè)一個(gè)或一個(gè)以上之盲孔33,以供伸縮彈簧34對(duì)應(yīng)裝入;如上述頂盤3的下端面所設(shè)的一個(gè)或一個(gè)以上之盲孔33,除可提供伸縮彈簧34對(duì)應(yīng)安裝入以外,亦可在各盲孔33的壁面開(kāi)設(shè)一個(gè)或一個(gè)以上的通氣孔331,使氣流亦有同時(shí)經(jīng)由該通氣孔331的增設(shè)而增強(qiáng)其對(duì)錫球40之吸附效果;吸錫球座4,是可用來(lái)供錫球蓋板2形成鎖合,在其中央開(kāi)設(shè)一凹槽面41以供頂盤3置入,該凹槽面41表面設(shè)有呈選定分布之多個(gè)孔洞42,同時(shí)的所述多個(gè)孔洞42與頂盤3的多個(gè)頂針31為呈完全對(duì)應(yīng),同時(shí)該凹槽面41在未設(shè)有孔洞4的區(qū)域則恰供上述伸縮彈簧34形成頂持,如第三圖所示,又該吸錫球座4在適當(dāng)處是可設(shè)置多個(gè)滾珠套筒43以便與下模滑塊20結(jié)合后具有較佳之滑動(dòng)效果,并確保上模組10及下?;瑝K20不會(huì)發(fā)生側(cè)傾;根據(jù)上述上模組10的組成,可將CPU座體30置入上模組10與下?;瑝K20之間,在真空吸入時(shí),氣流由錫球蓋板2的通孔21是經(jīng)頂盤3的氣流通道32通過(guò)吸錫球座4,故產(chǎn)生的真空吸力可將錫球40穩(wěn)固吸附,如圖3所示,當(dāng)氣壓缸1下壓推動(dòng)頂盤3時(shí),如圖5所示,頂盤3表面的頂針31向下移動(dòng)并強(qiáng)迫錫球40被頂出而精確落入CPU座體30之對(duì)應(yīng)孔洞301,錫球40不會(huì)發(fā)生殘留或卡持于吸錫球座4之情形。
如上述安裝錫球裝置,所述的吸錫球座3于凹槽面41表面所設(shè)呈選定分布多個(gè)孔洞42,呈直形孔洞為較佳,如圖6所示,以提供錫球40直接吸附定位,而頂盤3所設(shè)多個(gè)對(duì)應(yīng)的頂針31是小于該直形孔洞42的直徑,故不會(huì)阻斷及氣氣流通過(guò)直形孔洞42,以直形孔洞42直接吸附錫球40,其吸力十分強(qiáng)大,因此無(wú)須依賴大型的吸氣裝置,亦不受錫球40真圓度差異之影響,均可呈現(xiàn)穩(wěn)定吸附狀態(tài),不會(huì)發(fā)生震動(dòng)易位或產(chǎn)生風(fēng)漏現(xiàn)象。
上述的頂盤3,可以是設(shè)置如圖所示的十字槽形狀的氣流通道32,使氣流可由錫球蓋板2的通孔21經(jīng)過(guò)該氣流通道32而進(jìn)入吸錫球座4;同理可知,該氣流通道32的槽道或通孔的形狀并不需要特別限制,只要可以使氣流通暢經(jīng)過(guò)即可。
此外,所述的下?;瑝K20,其四端或適當(dāng)處并分別設(shè)有滑柱201,以供與吸錫球座4的滾珠套筒43貫穿套接,藉此產(chǎn)生較佳滑動(dòng)效果,并確保上模組10及下?;瑝K20不會(huì)發(fā)生側(cè)傾。另該下?;瑝K20兩側(cè)均具有一擋塊202,即藉兩側(cè)擋塊202的高度設(shè)定得以控制上模組10的下壓高度。
權(quán)利要求1.一種安裝錫球裝置,包括上模組及下模滑塊,CPU座體可置于上模組與下模滑塊之間,其特征在于上模組是由氣壓缸、錫球蓋板、頂盤及吸錫球座所組成,吸錫球座將錫球施予吸附,氣壓缸下壓推動(dòng)頂盤,頂盤表面分布所設(shè)的頂針可強(qiáng)迫錫球頂出而精確落入CPU座體的對(duì)應(yīng)孔洞。
2.如權(quán)利要求1所述的安裝錫球裝置,上模組是包括氣壓缸、錫球蓋板、頂盤及吸錫球座,其特征在于氣壓缸,設(shè)于錫球蓋板上方,上、下端各設(shè)有進(jìn)氣口及排氣口,通過(guò)進(jìn)氣與排氣作用控制活塞桿上下動(dòng)作;錫球蓋板,設(shè)于吸錫球座上方,其一側(cè)設(shè)有通孔并接合一接頭,以便與真空產(chǎn)生品聯(lián)接;頂盤,其下端表面分布設(shè)有多個(gè)頂針,安裝到錫球蓋板與吸錫球座之間,其與錫球蓋板之間設(shè)有適當(dāng)?shù)臍饬魍ǖ阑虮3謿饬鏖g隙,氣流可由錫球蓋板的通孔經(jīng)過(guò)該氣流通道而進(jìn)入吸錫球座,以產(chǎn)生真空吸力,頂盤下端面選定處并開(kāi)設(shè)一個(gè)或一個(gè)以上之盲孔,以供伸縮彈簧對(duì)應(yīng)安裝入;;吸錫球座,是用來(lái)供錫球蓋板形成鎖合,在其中央開(kāi)設(shè)一凹槽面以供頂盤放置,該凹槽面表面設(shè)有呈選定分布的多個(gè)孔洞,且多個(gè)孔洞與頂盤的多個(gè)頂針相對(duì)應(yīng),同時(shí)該凹槽面在未設(shè)有孔洞區(qū)域則與供伸縮彈簧形成頂持。。
3.如權(quán)利要求2所述的安裝錫裝置,所述的頂盤下端面所設(shè)的盲孔,是在壁面開(kāi)設(shè)一個(gè)或一個(gè)以上之通氣孔。
4.如權(quán)利要求1所述的安裝錫球裝置,所述的吸錫球座在凹槽面表面所設(shè)呈選定分布之多個(gè)孔洞是以呈直形孔洞為較佳。
5.如權(quán)利要求1所述的安裝錫球裝置,所述的頂盤的頂針是小于吸錫球座之孔洞直徑。
6.如權(quán)利要求1所述的安裝錫球裝置,頂盤的氣流通道是可為十字槽形狀。
7.如權(quán)利要求1所述的安裝錫球裝置,吸錫球座在適當(dāng)處可設(shè)置多個(gè)滾球套筒,而下?;瑝K于對(duì)應(yīng)處亦設(shè)有滑柱,滑柱可貫穿套接于滾珠套筒。
8.如權(quán)利要求1所述的安裝球裝置,該下?;瑝K之兩側(cè)均具有一擋塊。
專利摘要一種安裝錫球裝置,其構(gòu)成包括上模組及下?;瑝K,該上模組是由氣壓缸、錫球蓋板、頂盤及吸錫球座所組成,CPU座體置于上模組與下?;瑝K之間,利用吸錫球座將錫球吸附,并藉氣壓缸下壓推動(dòng)頂盤,使頂盤表面所設(shè)之頂針可強(qiáng)迫錫球被頂出而精確落入CPU座體之對(duì)應(yīng)孔洞,以防止錫球因震動(dòng)易位或殘留于吸錫球座。
文檔編號(hào)G06F1/00GK2504672SQ0125570
公開(kāi)日2002年8月7日 申請(qǐng)日期2001年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月13日
發(fā)明者朱德祥 申請(qǐng)人:番禺得意精密電子工業(yè)有限公司