一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，包括底座、承載平臺(tái)及至少兩個(gè)第一直線電機(jī)，其中，承載平臺(tái)可往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)地設(shè)置于底座上；至少兩個(gè)第一直線電機(jī)用于共同驅(qū)動(dòng)承載平臺(tái)運(yùn)動(dòng)，其中至少有一個(gè)位于承載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)軌跡的一端，其余的位于承載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)軌跡的另一端；上述運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在承載平臺(tái)運(yùn)動(dòng)軌跡的兩端分別設(shè)置有至少一個(gè)第一直線電機(jī)，從兩端同時(shí)驅(qū)動(dòng)承載平臺(tái)運(yùn)動(dòng)，與現(xiàn)有技術(shù)相比，在輸入同等電流的前提下，能夠使承載平臺(tái)獲得更大的加速度，更快的達(dá)到所需速度，增加其運(yùn)動(dòng)速度的同時(shí)，避免直線電機(jī)過熱；承載平臺(tái)兩端均有受力點(diǎn)，其上的負(fù)載及負(fù)載位置的變化能夠被分配至至少兩個(gè)第一直線電機(jī)上，有助于改善其動(dòng)態(tài)性能，提高可靠性及穩(wěn)定性。
【專利說明】
一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及運(yùn)動(dòng)平臺(tái)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著在科學(xué)技術(shù)的不斷進(jìn)步，需要運(yùn)動(dòng)平臺(tái)更快更準(zhǔn)，這對(duì)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)提出了更高的要求，而現(xiàn)有的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)主要有兩種驅(qū)動(dòng)方式，一種是采用傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)的方式，這種驅(qū)動(dòng)方式受加工精度、慣量、剛度、磨損等因素的限制，無法滿足所需的高速度及高精度的要求；另一種是通過一直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)運(yùn)動(dòng)，相對(duì)于上述的旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)方式，省去了用于將旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)化為直線運(yùn)動(dòng)的一系列傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，響應(yīng)速度、運(yùn)行速度以及精度均有了較大的提升，在上述結(jié)構(gòu)下提高運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的速度，就需要增大電流，這會(huì)導(dǎo)致直線電機(jī)發(fā)熱量上升，但是受直線電機(jī)本身散熱及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)等問題的制約，在運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的速度到達(dá)一定程度后，繼續(xù)提升，將會(huì)導(dǎo)致直線電機(jī)過熱，容易導(dǎo)致直線電機(jī)損壞，甚至引發(fā)安全事故，且在負(fù)載時(shí)，由于機(jī)械結(jié)構(gòu)不對(duì)稱，受力點(diǎn)位于運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的一側(cè)，導(dǎo)致運(yùn)動(dòng)平臺(tái)動(dòng)態(tài)性能、可靠性及穩(wěn)定性較差，限制了高速運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的發(fā)展。
[0003]因此，如何提供一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，提高其運(yùn)行速度，改善其動(dòng)態(tài)性能，提高可靠性及穩(wěn)定性，成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的重要技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明提供了一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，以達(dá)到提高其運(yùn)行速度，改善其動(dòng)態(tài)性能，提尚可靠性及穩(wěn)定性的目的。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
[0006]—種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，包括:
[0007]底座；
[0008]可往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)地設(shè)置于所述底座上的承載平臺(tái)；
[0009]用于共同驅(qū)動(dòng)所述承載平臺(tái)運(yùn)動(dòng)的至少兩個(gè)第一直線電機(jī)，至少兩個(gè)所述第一直線電機(jī)中至少有一個(gè)位于所述承載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)軌跡的一端，其余的位于所述承載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)軌跡的另一端。
[0010]優(yōu)選地，所述承載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)軌跡兩端的所述第一直線電機(jī)的數(shù)量相同且對(duì)稱布置。
[0011]優(yōu)選地，所述承載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)軌跡兩端的所述第一直線電機(jī)均為臥式直線電機(jī)。
[0012]優(yōu)選地，所述第一直線電機(jī)的初級(jí)設(shè)置于所述底座以及所述承載平臺(tái)中的一個(gè)上，次級(jí)設(shè)置于所述底座以及所述承載平臺(tái)中的另一個(gè)上。
[0013]優(yōu)選地，還包括可往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)地設(shè)置于所述承載平臺(tái)上的工作臺(tái)以及用于驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)的第二直線電機(jī)。
[0014]優(yōu)選地，所述第二直線電機(jī)的初級(jí)設(shè)置于所述底座及所述承載平臺(tái)中的一個(gè)上，次級(jí)設(shè)置于所述工作臺(tái)上，或者，所述第二直線電機(jī)的次級(jí)設(shè)置于所述底座及所述承載平臺(tái)中的一個(gè)上，初級(jí)設(shè)置于所述工作臺(tái)上。
[0015]優(yōu)選地，所述第一直線電機(jī)的初級(jí)外以及所述第二直線電機(jī)的初級(jí)外均罩設(shè)有磁屏蔽箱體。
[0016]優(yōu)選地，所述磁屏蔽箱體上設(shè)置有散熱孔
[0017]優(yōu)選地，還包括用于檢測(cè)所述承載平臺(tái)位移的第一位移檢測(cè)裝置以及用于檢測(cè)所述工作臺(tái)位移的第二位移檢測(cè)裝置。
[0018]優(yōu)選地，所述第一位移檢測(cè)裝置包括第一標(biāo)尺光柵以及第一光柵讀數(shù)頭，所述第一標(biāo)尺光柵設(shè)置于所述底座以及所述承載平臺(tái)中的一個(gè)上，所述第一光柵讀數(shù)頭設(shè)置于所述底座以及所述承載平臺(tái)中的另一個(gè)上。
[0019]優(yōu)選地，所述第二位移檢測(cè)裝置包括第二標(biāo)尺光柵以及第二光柵讀數(shù)頭，所述第二標(biāo)尺光柵設(shè)置于所述承載平臺(tái)以及所述工作臺(tái)中的一個(gè)上，所述第二光柵讀數(shù)頭設(shè)置于所述承載平臺(tái)以及所述工作臺(tái)中的另一個(gè)上。
[0020]從上述技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明提供的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，包括底座、承載平臺(tái)以及至少兩個(gè)第一直線電機(jī)，其中，底座主要起支撐及承載其上部件的作用;承載平臺(tái)可往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)地設(shè)置于底座上；至少兩個(gè)第一直線電機(jī)用于共同驅(qū)動(dòng)承載平臺(tái)運(yùn)動(dòng)，且至少兩個(gè)第一直線電機(jī)中至少有一個(gè)位于承載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)軌跡的一端，其余的位于承載平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)軌跡的另一端；
[0021]由此可見，本發(fā)明提供的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，在承載平臺(tái)運(yùn)動(dòng)軌跡的兩端分別設(shè)置有至少一個(gè)第一直線電機(jī)，從兩端同時(shí)驅(qū)動(dòng)承載平臺(tái)運(yùn)動(dòng)，與現(xiàn)有技術(shù)中單個(gè)直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)的結(jié)構(gòu)相比，在輸入同等電流的前提下，能夠使承載平臺(tái)獲得更大的加速度，更快的達(dá)到所需速度，增加其運(yùn)動(dòng)速度的同時(shí)，避免直線電機(jī)過熱;承載平臺(tái)兩端均有受力點(diǎn)，其上的負(fù)載及負(fù)載位置的變化能夠被分配至至少兩個(gè)第一直線電機(jī)上，有助于改善其動(dòng)態(tài)性能，提高可靠性及穩(wěn)定性?！靖綀D說明】
[0022]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0023]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在一種視角下的結(jié)構(gòu)示意圖；[〇〇24]圖2為圖1的局部結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在另一種視角下的結(jié)構(gòu)示意圖。【具體實(shí)施方式】
[0026]本發(fā)明提供了一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，以達(dá)到提高其運(yùn)行速度，改善其動(dòng)態(tài)性能，提高可靠性及穩(wěn)定性的目的。
[0027]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0028]請(qǐng)參閱圖1-圖3,圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在一種視角下的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為圖1的局部結(jié)構(gòu)示意圖，圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)在另一種視角下的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，包括底座1、承載平臺(tái)3以及至少兩個(gè)第一直線電機(jī)2。
[0030]其中，底座1主要起支撐及承載其上部件的作用；承載平臺(tái)3可往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)地設(shè)置于底座1上;至少兩個(gè)第一直線電機(jī)2中至少有一個(gè)位于承載平臺(tái)3的運(yùn)動(dòng)軌跡的一端，其余的位于承載平臺(tái)3的運(yùn)動(dòng)軌跡的另一端。
[0031]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，在承載平臺(tái)3運(yùn)動(dòng)軌跡的兩端分別設(shè)置有至少一個(gè)第一直線電機(jī)2,從兩端同時(shí)驅(qū)動(dòng)承載平臺(tái)3運(yùn)動(dòng)，在輸入同等電流的前提下，能夠使承載平臺(tái)3獲得更大的加速度，更快的達(dá)到所需速度，增加其運(yùn)動(dòng)速度的同時(shí)， 避免直線電機(jī)過熱;承載平臺(tái)3兩端均有受力點(diǎn)，其上的負(fù)載及負(fù)載位置的變化能夠被分配至至少兩個(gè)第一直線電機(jī)2上，有助于改善其動(dòng)態(tài)性能，提高可靠性及穩(wěn)定性。
[0032]為了使運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的機(jī)械結(jié)構(gòu)對(duì)稱，并且使承載平臺(tái)3的均勻受力，從而進(jìn)一步改善運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的動(dòng)態(tài)性能，在本發(fā)明實(shí)施例中，承載平臺(tái)3的運(yùn)動(dòng)軌跡兩端的第一直線電機(jī)2的數(shù)量相同且對(duì)稱布置。
[0033]分別位于承載平臺(tái)3運(yùn)動(dòng)軌跡兩端的第一直線電機(jī)2可以為臥式直線電機(jī)，或者為立式直線電機(jī)，上述的臥式直線電機(jī)為初級(jí)和次級(jí)均與底座1平行的直線電機(jī)，而立式直線電機(jī)為初級(jí)和次級(jí)均與底座1垂直的直線電機(jī)，在本發(fā)明實(shí)施例中，承載平臺(tái)3的運(yùn)動(dòng)軌跡兩端的第一直線電機(jī)2均為臥式直線電機(jī)。
[0034]現(xiàn)有技術(shù)中，由于承載平臺(tái)3—般由一側(cè)的一個(gè)直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)，由于機(jī)械結(jié)構(gòu)的不對(duì)稱以及受力點(diǎn)位于承載平臺(tái)3—側(cè)，導(dǎo)致承載平臺(tái)3在負(fù)載狀態(tài)下容易發(fā)生傾覆，為了解決這一問題，需要在直線電機(jī)的初級(jí)和次級(jí)之間設(shè)置導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)，即在初級(jí)和次級(jí)中的一個(gè)上設(shè)置滑槽，另一個(gè)上設(shè)置與之配合的滑塊，這樣雖然能夠解決上述問題，但是不可避免的會(huì)導(dǎo)致初級(jí)與次級(jí)之間摩擦力上升，與初級(jí)和次級(jí)中的一個(gè)連接的承載平臺(tái)3的重量也會(huì)相應(yīng)增加，影響同等功率下，承載平臺(tái)3所能獲得的加速度、最大速度以及運(yùn)動(dòng)的精準(zhǔn)度。
[0035]而通過將承載平臺(tái)3運(yùn)動(dòng)軌跡兩端的第一直線電機(jī)2均設(shè)置為臥式直線電機(jī)，使運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的機(jī)械結(jié)構(gòu)對(duì)稱，承載平臺(tái)3兩側(cè)同時(shí)受力，不僅能夠避免傾覆，而且由于不會(huì)發(fā)生傾覆，臥式直線電機(jī)的初級(jí)和次級(jí)之間也無需設(shè)置導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)，從而能夠降低初級(jí)與次級(jí)間的摩擦，同時(shí)降低承載平臺(tái)3的重量，使之能夠獲得更大的加速度，更快的達(dá)到所需速度，提高精準(zhǔn)度。
[0036]直線電機(jī)的初級(jí)也可以稱之為定子，次級(jí)也可以稱之為動(dòng)子，在本發(fā)明實(shí)施例中， 第一直線電機(jī)2的初級(jí)21設(shè)置于底座1以及承載平臺(tái)3中的一個(gè)上，次級(jí)22設(shè)置于底座1以及承載平臺(tái)3中的另一個(gè)上。在圖1所示的實(shí)施例中，第一直線電機(jī)2的初級(jí)21設(shè)置于底座1上， 次級(jí)22與承載平臺(tái)3固連。
[0037]運(yùn)動(dòng)平臺(tái)只支持一個(gè)方向上的運(yùn)動(dòng)無法滿足需要，因此，在本發(fā)明實(shí)施例中，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)還包括可往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)地設(shè)置于承載平臺(tái)3上的工作臺(tái)5以及用于驅(qū)動(dòng)工作臺(tái)5運(yùn)動(dòng)的第二直線電機(jī)6。這樣，能夠使工作臺(tái)5實(shí)現(xiàn)在平面內(nèi)的二維運(yùn)動(dòng)，滿足更多的要求。
[0038]第二直線電機(jī)6可以為一個(gè)，也可以設(shè)置多個(gè)，既可以全部位于工作臺(tái)5的一端，也可以分別位于工作臺(tái)5的兩端，在本發(fā)明實(shí)施例中，第二直線電機(jī)6設(shè)置有一個(gè)。
[0039]進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，第二直線電機(jī)6的初級(jí)61設(shè)置于底座1及承載平臺(tái)3中的一個(gè)上，次級(jí)62設(shè)置于工作臺(tái)5上，或者，第二直線電機(jī)6的次級(jí)62設(shè)置于底座1及承載平臺(tái)3中的一個(gè)上，初級(jí)61設(shè)置于工作臺(tái)5上。
[0040]如果將第二直線電機(jī)6的初級(jí)61或次級(jí)62設(shè)置于承載平臺(tái)3上，會(huì)導(dǎo)致承載平臺(tái)3 重量增加，從而影響承載平臺(tái)3獲得的加速度及精準(zhǔn)度，因此，在圖1所示的實(shí)施例中，第二直線電機(jī)6的初級(jí)61設(shè)置于底座1上，次級(jí)62設(shè)置于工作臺(tái)5上，進(jìn)一步地，由于承載平臺(tái)3運(yùn)動(dòng)時(shí)，工作臺(tái)5也會(huì)隨之在承載平臺(tái)3兩端的第一直線電機(jī)2間往復(fù)運(yùn)動(dòng)，為了避免第二直線電機(jī)6的初級(jí)61及次級(jí)62在上述運(yùn)動(dòng)中發(fā)生干涉，在本發(fā)明實(shí)施例中，第二直線電機(jī)6的初級(jí)61的寬度大于次級(jí)62的寬度。
[0041]在使用過程中，直線電機(jī)的初級(jí)周圍會(huì)存在磁場(chǎng)，當(dāng)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)用于晶圓等精密的半導(dǎo)體器件加工時(shí)，該磁場(chǎng)會(huì)對(duì)加工工件的性能產(chǎn)生影響，為了避免電機(jī)磁場(chǎng)對(duì)加工工件的影響，在本發(fā)明實(shí)施例中，第一直線電機(jī)2的初級(jí)21外以及第二直線電機(jī)6的初級(jí)61外均罩設(shè)有磁屏蔽箱體7,通過在直線電機(jī)的初級(jí)外罩設(shè)磁屏蔽箱體7,能夠有效屏蔽直線電機(jī)初級(jí)的磁場(chǎng)，避免直線電機(jī)漏磁對(duì)加工工件產(chǎn)生不良影響。進(jìn)一步地，為了避免第一直線電機(jī)及第二直線電機(jī)由于過熱而無法正常工作，磁屏蔽箱體上開設(shè)有散熱孔。
[0042]為了能夠?qū)\(yùn)動(dòng)平臺(tái)進(jìn)行準(zhǔn)確控制，提高其精準(zhǔn)度，在本發(fā)明實(shí)施例中，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)還包括用于檢測(cè)承載平臺(tái)3位移的第一位移檢測(cè)裝置4以及用于檢測(cè)工作臺(tái)5位移的第二位移檢測(cè)裝置8。[〇〇43]進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，第一位移檢測(cè)裝置4包括第一標(biāo)尺光柵42以及第一光柵讀數(shù)頭41，第一標(biāo)尺光柵42設(shè)置于底座1以及承載平臺(tái)3中的一個(gè)上，第一光柵讀數(shù)頭41 設(shè)置于底座1以及承載平臺(tái)3中的另一個(gè)上。第二位移檢測(cè)裝置8包括第二標(biāo)尺光柵81以及第二光柵讀數(shù)頭82,第二標(biāo)尺光柵81設(shè)置于承載平臺(tái)3以及工作臺(tái)5中的一個(gè)上，第二光柵讀數(shù)頭82設(shè)置于承載平臺(tái)3以及工作臺(tái)5中的另一個(gè)上。
[0044]當(dāng)然，光柵尺位移檢測(cè)裝置僅僅是本發(fā)明提供的一種優(yōu)選實(shí)施方式，并不僅僅限于此，位移檢測(cè)裝置還可以采用其他結(jié)構(gòu)，比如電感式位移傳感器、電渦流式位移傳感器等等，只要能夠檢測(cè)位移即可。
[0045]在實(shí)際應(yīng)用過程中，上述的第一位移檢測(cè)裝置4以及第二位移檢測(cè)裝置8可以與控制器的輸入端相連，而控制器的輸出端與第一直線電機(jī)2以及第二直線電機(jī)6相連，第一位移檢測(cè)裝置4以及第二位移檢測(cè)裝置8將檢測(cè)到的位移信息發(fā)送到控制器，控制器根據(jù)上述位移信息按照預(yù)定指令控制第一直線電機(jī)2和/或第二直線電機(jī)6運(yùn)動(dòng)，使工作臺(tái)5到達(dá)預(yù)定位置。
[0046]控制器可根據(jù)負(fù)載及負(fù)載的位置變化情況分配各直線電機(jī)的承載，從而減小由于結(jié)構(gòu)配置或負(fù)載變化引起的動(dòng)態(tài)誤差，進(jìn)一步改善運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的動(dòng)態(tài)性能。
[0047]本說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。[〇〇48]對(duì)所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。 對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，包括: 底座(I); 可往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)地設(shè)置于所述底座(I)上的承載平臺(tái)(3); 用于共同驅(qū)動(dòng)所述承載平臺(tái)(3)運(yùn)動(dòng)的至少兩個(gè)第一直線電機(jī)(2)，至少兩個(gè)所述第一直線電機(jī)(2)中至少有一個(gè)位于所述承載平臺(tái)(3)的運(yùn)動(dòng)軌跡的一端，其余的位于所述承載平臺(tái)(3)的運(yùn)動(dòng)軌跡的另一端。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，所述承載平臺(tái)(3)的運(yùn)動(dòng)軌跡兩端的所述第一直線電機(jī)(2)的數(shù)量相同且對(duì)稱布置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，所述承載平臺(tái)(3)的運(yùn)動(dòng)軌跡兩端的所述第一直線電機(jī)(2)均為臥式直線電機(jī)。4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，所述第一直線電機(jī)(2)的初級(jí)(21)設(shè)置于所述底座(I)以及所述承載平臺(tái)(3)中的一個(gè)上，次級(jí)(22)設(shè)置于所述底座(I)以及所述承載平臺(tái)(3)中的另一個(gè)上。5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，還包括可往復(fù)直線運(yùn)動(dòng)地設(shè)置于所述承載平臺(tái)(3)上的工作臺(tái)(5)以及用于驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)(5)運(yùn)動(dòng)的第二直線電機(jī)(6)ο6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，所述第二直線電機(jī)(6)的初級(jí)(61)設(shè)置于所述底座(I)及所述承載平臺(tái)(3)中的一個(gè)上，次級(jí)(62)設(shè)置于所述工作臺(tái)(5)上，或者，所述第二直線電機(jī)(6)的次級(jí)設(shè)置于所述底座(I)及所述承載平臺(tái)(3)中的一個(gè)上，初級(jí)設(shè)置于所述工作臺(tái)(5)上。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，所述第一直線電機(jī)(2)的初級(jí)(21)外以及所述第二直線電機(jī)(6)的初級(jí)(61)外均罩設(shè)有磁屏蔽箱體(7)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，所述磁屏蔽箱體(7)上設(shè)置有散熱孔。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，還包括用于檢測(cè)所述承載平臺(tái)(3)位移的第一位移檢測(cè)裝置(4)以及用于檢測(cè)所述工作臺(tái)(5)位移的第二位移檢測(cè)裝置(8)。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其特征在于，所述第一位移檢測(cè)裝置(4)包括第一標(biāo)尺光柵(42)以及第一光柵讀數(shù)頭(41)，所述第一標(biāo)尺光柵(42)設(shè)置于所述底座(I)以及所述承載平臺(tái)(3)中的一個(gè)上，所述第一光柵讀數(shù)頭(41)設(shè)置于所述底座(I)以及所述承載平臺(tái)(3)中的另一個(gè)上;所述第二位移檢測(cè)裝置(8)包括第二標(biāo)尺光柵(81)以及第二光柵讀數(shù)頭(82)，所述第二標(biāo)尺光柵(81)設(shè)置于所述承載平臺(tái)(3)以及所述工作臺(tái)(5)中的一個(gè)上，所述第二光柵讀數(shù)頭(82)設(shè)置于所述承載平臺(tái)(3)以及所述工作臺(tái)(5)中的另一個(gè)上。
【文檔編號(hào)】G05D3/12GK106020246SQ201610514026
【公開日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年6月30日
【發(fā)明人】賀云波, 陳新, 吳曉明, 曾志平, 高健, 楊志軍, 陳云, 張昱, 湯暉, 熬銀輝
【申請(qǐng)人】廣東工業(yè)大學(xué)