劑在不同溫度下的使用效果。所述底座I上設(shè)置控制模塊15，所述控制模塊15包括中央處理單元、顯示單元和溫控單元，顯示單元和溫控單元均與中央處理單元連接，霍爾傳感器與中央處理單元連接，溫控單元能夠控制反應(yīng)容器內(nèi)的溫度，顯示單元能夠顯示反應(yīng)容器內(nèi)溫度和反應(yīng)時(shí)間。
[0021]本實(shí)用新型在使用中，首先對(duì)鍋爐內(nèi)的水垢進(jìn)行取樣，將水垢均分放入水垢放置槽中，可在溫度一定的條件下，將不同配比的酸洗劑放入不同的反應(yīng)容器內(nèi)進(jìn)行試驗(yàn);也可在酸洗劑的配比相同的條件下，將不同溫度的酸洗劑放入不同的反應(yīng)容器內(nèi)進(jìn)行試驗(yàn)。在試驗(yàn)完畢后，記錄相應(yīng)的反應(yīng)時(shí)間和水垢殘余量，通過對(duì)比試驗(yàn)數(shù)據(jù)得到最佳使用方法。
[0022]為了提高本實(shí)用新型的檢測(cè)精度，所述蓋體3上設(shè)置與支撐桿9相適應(yīng)的導(dǎo)向筒16，所述蓋體3上設(shè)置防風(fēng)筒17，導(dǎo)向筒能夠保證支撐桿垂直向上，能夠避免支撐桿傾斜對(duì)檢測(cè)結(jié)果的影響，防風(fēng)筒能夠避免風(fēng)吹支撐桿造成的霍爾傳感器晃動(dòng)，能夠提高本實(shí)用新型的檢測(cè)精度。
[0023]為了便于對(duì)磁鐵高度的調(diào)節(jié)，所述鎖緊螺栓13為蝶形螺栓，可手動(dòng)對(duì)磁鐵高度進(jìn)行調(diào)節(jié)，能夠便于對(duì)磁鐵的高度的調(diào)節(jié)。
[0024]實(shí)施例:本實(shí)用新型所述是一種鍋爐水垢處理模擬試驗(yàn)裝置，包括底座，所述底座的頂部設(shè)置反應(yīng)容器，所述反應(yīng)容器為透明玻璃燒杯，所述底座上設(shè)有與反應(yīng)容器相適應(yīng)的擋塊。所述反應(yīng)容器的頂部設(shè)置蓋體，所述蓋體的材質(zhì)為透明玻璃，所述蓋體上設(shè)有排氣孔。所述反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)置彈簧，所述反應(yīng)容器的底部設(shè)有與彈簧相適應(yīng)的卡扣，所述彈簧通過卡扣與反應(yīng)容器固定連接。所述彈簧的頂部設(shè)置托盤，托盤上設(shè)有與彈簧相適應(yīng)的卡扣。所述托盤上設(shè)置水垢放置槽，水垢放置槽的材質(zhì)為透明玻璃，將鍋爐內(nèi)的水垢取樣放入水垢放置槽中，將水垢放置槽放在托盤上，能夠在反應(yīng)容器內(nèi)進(jìn)行水垢的溶解試驗(yàn)，能夠模擬鍋爐內(nèi)水垢的溶解過程，能夠?yàn)殄仩t內(nèi)水垢的處理提供酸洗劑的有效使用方法，能夠避免酸洗劑的浪費(fèi)。所述水垢放置槽的側(cè)壁上設(shè)置通孔，能夠增加水垢放置槽內(nèi)的水垢與外界的接觸面積，能夠保證水垢與酸洗劑充分反應(yīng)。所述水垢放置槽的中部設(shè)置支撐桿，支撐桿的材質(zhì)為玻璃，支撐桿與水垢放置槽采用一體式結(jié)構(gòu)，所述蓋體上設(shè)有與支撐桿相適應(yīng)的孔，孔的內(nèi)徑大于支撐桿的直徑，所述支撐桿與蓋體滑動(dòng)連接。所述支撐桿的頂部安裝霍爾傳感器，所述霍爾傳感器的兩側(cè)對(duì)稱設(shè)置磁鐵及支架，將裝有水垢的水垢放置槽放在托盤上，托盤上的重量增加，能夠?qū)椈蓧嚎s，隨著反應(yīng)的進(jìn)行，水垢逐漸減少，托盤上的重量逐漸變小，彈簧復(fù)位，彈簧復(fù)位能夠帶動(dòng)支撐桿頂部的霍爾傳感器向上移動(dòng)，霍爾傳感器在磁場(chǎng)內(nèi)移動(dòng)時(shí)，引起霍爾電勢(shì)變化，當(dāng)反應(yīng)完畢時(shí)，托盤上的重量不再變化，彈簧靜止，霍爾傳感器靜止，霍爾電勢(shì)不再變化，能夠有效測(cè)得反應(yīng)完畢時(shí)間，具有結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的特點(diǎn)。所述支架上設(shè)有滑槽和鎖緊螺栓，所述磁鐵與支架滑動(dòng)連接，所述支架與蓋體采用一體式結(jié)構(gòu)，能夠根據(jù)需要調(diào)整磁鐵的位置，能夠便于本實(shí)用新型的使用。所述反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)有加熱器，加熱器能夠?qū)Ψ磻?yīng)容器內(nèi)的酸洗劑進(jìn)行加熱，能夠模擬不同溫度下的水垢處理速度，能夠獲得酸洗劑在不同溫度下的使用效果。所述底座上設(shè)置控制模塊，所述控制模塊包括基于單片機(jī)的中央處理單元、顯示單元和溫控單元，顯示單元和溫控單元均與中央處理單元連接，霍爾傳感器與中央處理單元連接，溫控單元能夠控制反應(yīng)容器內(nèi)的溫度，顯示單元能夠顯示反應(yīng)容器內(nèi)溫度和反應(yīng)時(shí)間。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種鍋爐水垢處理模擬試驗(yàn)裝置，包括底座(I)，其特征是:所述底座(I)的頂部設(shè)置反應(yīng)容器(2)，所述反應(yīng)容器(2)的頂部設(shè)置蓋體(3)，所述蓋體(3)上設(shè)有排氣孔(4)，所述反應(yīng)容器(2)內(nèi)設(shè)置彈簧(5)，所述彈簧(5)與反應(yīng)容器(2)固定連接，所述彈簧(5)的頂部設(shè)置托盤(6)，所述托盤(6)上設(shè)置水垢放置槽(7)，所述水垢放置槽(7)的側(cè)壁上設(shè)置通孔(8)，所述水垢放置槽(7)的中部設(shè)置支撐桿(9)，所述支撐桿(9)與蓋體(3)滑動(dòng)連接，所述支撐桿(9)的頂部設(shè)置霍爾傳感器(10)，所述霍爾傳感器(10)的兩側(cè)對(duì)稱設(shè)置磁鐵(11)及支架(12)，所述磁鐵(11)與支架(12)滑動(dòng)連接，所述支架(12)上設(shè)有鎖緊磁鐵(11)的鎖緊螺栓(13)，所述支架(12)的底部與蓋體(3)固定連接，所述反應(yīng)容器(2)內(nèi)設(shè)有加熱器(14)，所述底座(I)上設(shè)置控制模塊(15)，所述控制模塊(15)包括中央處理單元、顯示單元和溫控單元。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍋爐水垢處理模擬試驗(yàn)裝置，其特征是:所述蓋體(3)上設(shè)置與支撐桿(9)相適應(yīng)的導(dǎo)向筒(16)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍋爐水垢處理模擬試驗(yàn)裝置，其特征是:所述蓋體(3)上設(shè)置防風(fēng)筒(17)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍋爐水垢處理模擬試驗(yàn)裝置，其特征是:所述鎖緊螺栓(13)為蝶形螺栓。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種鍋爐水垢處理模擬試驗(yàn)裝置，主要涉及鍋爐水垢處理領(lǐng)域。包括底座，所述底座的頂部設(shè)置反應(yīng)容器，所述反應(yīng)容器的頂部設(shè)置蓋體，所述蓋體上設(shè)有排氣孔，所述反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)置彈簧，所述彈簧的頂部設(shè)置托盤，所述托盤上設(shè)置水垢放置槽，所述水垢放置槽的側(cè)壁上設(shè)置通孔，所述水垢放置槽的中部設(shè)置支撐桿，所述支撐桿的頂部設(shè)置霍爾傳感器，所述霍爾傳感器的兩側(cè)對(duì)稱設(shè)置磁鐵及支架，所述支架上設(shè)有鎖緊磁鐵的鎖緊螺栓，所述反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)有加熱器，所述底座上設(shè)置控制模塊。本實(shí)用新型的有益效果在于：它能夠?yàn)殄仩t內(nèi)水垢的處理提供酸洗劑的有效使用方法，能夠避免酸洗劑的浪費(fèi)，具有結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的特點(diǎn)。
【IPC分類】G01N27/72, C02F5/08
【公開號(hào)】CN205374370
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201620005543
【發(fā)明人】周廣遠(yuǎn), 鄒璐, 楊艷
【申請(qǐng)人】周廣遠(yuǎn), 鄒璐, 楊艷
【公開日】2016年7月6日
【申請(qǐng)日】2016年1月4日