同步輻射x光連續(xù)衰減裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實用新型涉及一種X光輻射，尤其是涉及一種同步輻射X光連續(xù)衰減裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著同步輻射光源的發(fā)展，科研人員利用高穩(wěn)定性、高通量的同步輻射X光解析出越來越多的生物大分子結(jié)構(gòu)。生物大分子樣品以晶體的形式進行實驗，X光與生物大分子晶體相互作用，產(chǎn)生衍射圖，通過數(shù)據(jù)處理解析出生物大分子的結(jié)構(gòu)。不同的晶體對X光的承受能力不同，X光過強則會對晶體造成輻射損傷，X光過弱會導致某些衍射點采集不到，所以不同的蛋白質(zhì)晶體均需要調(diào)節(jié)到合適的X光的光強。雖然可以通過減少曝光時間來降低晶體的輻射損傷，但是由于有些晶體極易被輻射損傷，尤其是微小晶體(10微米以內(nèi))必須加入衰減片來降低X光的光通量密度。其次，線站工作人員通常用探測器來監(jiān)測光學儀器的位置，若某種儀器的安裝位置改變則可以通過探測器探測到的異常情況來調(diào)整光學儀器的位置。然而高通量的X光對探測器的損害較大，在調(diào)整光學儀器位置時候必須使用衰減器加最大衰減來使得光通量最小。
[0003]現(xiàn)在同步輻射光束線站所用的衰減器大部分為轉(zhuǎn)盤形式的衰減器，轉(zhuǎn)盤上有不同厚度的衰減片。或者是由多個衰減片組成的衰減器，每個衰減片都能插入或者移出光路從而產(chǎn)生不同的衰減片厚度，進而得到不同的衰減率。但是這2種形式的衰減器都不能實現(xiàn)連續(xù)衰減，只能提供有限的衰減選擇。連續(xù)型衰減器可以實現(xiàn)X光的連續(xù)衰減，可為用戶提供更多的衰減選擇。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中X光輻射衰減器的衰減選擇有限，無法根據(jù)需要連續(xù)地對衰減程度進行調(diào)節(jié)，并且在垂直方向有光偏移問題的缺陷，提供一種同步輻射X光連續(xù)衰減裝置。
[0005]本實用新型是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題的:
[0006]—種同步福射X光連續(xù)衰減裝置，其特點在于，包括正反向電動位移平臺、衰減片夾持支架、兩塊衰減片，所述衰減片夾持支架夾持固定所述衰減片，所述衰減片夾持支架設(shè)置于所述正反向電動位移平臺上，所述正反向電動位移平臺用于移動所述衰減片夾持支架以使得所述衰減片做相對運動。
[0007]較佳地，每一塊衰減片均呈三棱柱形。
[0008]較佳地，所述衰減片相向放置呈直四棱柱形。
[0009]較佳地，所述衰減片由高純鋁(純度高于99.8% )制成。
[0010]或者，所述衰減片可由原子序數(shù)小于鋁的其他材料制成。這是由于加工工藝的限制，衰減片最薄處小于0.1mm很難加工出來，為了滿足較大的衰減范圍，因而需選用原子序數(shù)等于鋁或者原子序數(shù)小于鋁的材料制成衰減片。
[0011]較佳地，所述正反向電動位移平臺包括減速器，用于減輕所述衰減片在移動過程中隨所述衰減片夾持支架的晃動。
[0012]較佳地，所述正反向電動位移平臺還包括精密雙向絲杠、帶有脈沖計步器的電機，所述脈沖計步器用于記錄所述電機運行的位置。
[0013]在符合本領(lǐng)域常識的基礎(chǔ)上，上述各優(yōu)選條件，可任意組合，即得本實用新型各較佳實例。
[0014]本實用新型的積極進步效果在于:本實用新型的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置能夠提供對X光輻射衰減程度的連續(xù)調(diào)節(jié)，滿足用戶對衰減率的不同要求。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實用新型一較佳實施例的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置的示意圖。
[0016]圖2為圖1的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置沿圖1中虛線的剖視圖。
[0017]圖3為圖1的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置中兩塊衰減片的放大示意圖。
【具體實施方式】
[0018]下面通過實施例的方式進一步說明本實用新型，但并不因此將本實用新型限制在所述的實施例范圍之中。
[0019]參考圖1和圖2所示，本實用新型一較佳實施例的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，包括正反向電動位移平臺、衰減片夾持支架6、兩塊衰減片7及X光輻射源，所述衰減片夾持支架夾持固定所述衰減片，所述衰減片夾持支架設(shè)置于所述正反向電動位移平臺上，所述正反向電動位移平臺用于移動所述衰減片夾持支架以使得所述衰減片做相對運動。所述同步輻射X光連續(xù)衰減裝置還包括。
[0020]其中，所述正反向電動位移平臺包括減速器2、聯(lián)軸器3、用于固定的軸承4、精密雙向絲杠5、帶脈沖計步器步進電機I。所述減速器2用于減輕所述衰減片在移動過程中隨所述衰減片夾持支架的晃動。所述脈沖計步器用于記錄所述電機運行的位置。
[0021]如圖3所示，每一塊衰減片均呈三棱柱形。所述衰減片相向放置呈直四棱柱形。所述衰減片由高純度的鋁制成。
[0022]雖然以上描述了本實用新型的【具體實施方式】，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當理解，這些僅是舉例說明，本實用新型的保護范圍是由所附權(quán)利要求書限定的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不背離本實用新型的原理和實質(zhì)的前提下，可以對這些實施方式做出多種變更或修改，但這些變更和修改均落入本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，其特征在于，包括正反向電動位移平臺、衰減片夾持支架、兩塊衰減片，所述衰減片夾持支架夾持固定所述衰減片，所述衰減片夾持支架設(shè)置于所述正反向電動位移平臺上，所述正反向電動位移平臺用于移動所述衰減片夾持支架以使得所述衰減片做相對運動。2.如權(quán)利要求1所述的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，其特征在于，每一塊衰減片均呈三棱柱形。3.如權(quán)利要求2所述的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，其特征在于，所述衰減片相向放置呈直四棱柱形。4.如權(quán)利要求1所述的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，其特征在于，所述衰減片由鋁制成。5.如權(quán)利要求4所述的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，其特征在于，鋁的純度高于99.8%。6.如權(quán)利要求1所述的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，其特征在于，所述正反向電動位移平臺包括減速器，用于減輕所述衰減片在移動過程中隨所述衰減片夾持支架的晃動。7.如權(quán)利要求1-6中任意一項所述的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，其特征在于，所述正反向電動位移平臺還包括精密雙向絲杠、帶有脈沖計步器的電機，所述脈沖計步器用于記錄所述電機運行的位置。
【專利摘要】本實用新型公開了一種同步輻射X光連續(xù)衰減裝置。所述一種同步輻射X光連續(xù)衰減裝置，包括正反向電動位移平臺、衰減片夾持支架、兩塊衰減片，所述衰減片夾持支架夾持固定所述衰減片，所述衰減片夾持支架設(shè)置于所述正反向電動位移平臺上，所述正反向電動位移平臺用于移動所述衰減片夾持支架以使得所述衰減片做相對運動。本實用新型的同步輻射X光連續(xù)衰減裝置能夠提供對X光輻射衰減程度的連續(xù)調(diào)節(jié)，滿足用戶對衰減率的不同要求。
【IPC分類】G01N23/20
【公開號】CN205352970
【申請?zhí)枴緾N201520966274
【發(fā)明人】李冰, 黃勝, 汪啟勝, 崔瑩, 何建華
【申請人】中國科學院上海應(yīng)用物理研究所
【公開日】2016年6月29日
【申請日】2015年11月27日