一種掃描電鏡的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及掃描電鏡領(lǐng)域，尤其涉及一種具有離子濺射功能的掃描電鏡。
【背景技術(shù)】
[0002]掃描電鏡，也稱為掃描電子顯微鏡，掃描電鏡利用聚焦的電子束在測試樣品的表面進行掃描，以獲得測試樣品表面的微觀結(jié)構(gòu)圖像。
[0003]在使用掃描電鏡進行測試時，往往需要在測試樣品的表面鍍上一層金屬顆粒，使得測試樣品表面上局部聚集的電子發(fā)散，否則過多的電子聚集在測試樣品表面將影響掃描電鏡中電子槍所發(fā)射的電子束，導(dǎo)致顯示的圖像扭曲。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，為了能夠消除測試樣品表面局部聚集的電子的影響，在使用如圖1所示的掃描電鏡對測試樣品進行掃描之前，通常會將固定在載臺3上的測試樣品(并未在圖1中示出)連同載臺3，一并放入一種稱為離子濺射儀(并未在圖1中示出)的設(shè)備內(nèi)，并使用離子濺射儀在真空條件下將特定的金屬離子鍍到測試樣品的表面，之后，將載臺3和固定其上的鍍有金屬離子的測試樣品，放入如圖1所示的掃描電鏡中進行掃描。
[0005]但是，采用現(xiàn)有技術(shù)的方式在針對測試樣品進行測試的過程中，首先需要使用離子濺射儀在測試樣品的表面鍍上金屬離子，而離子濺射儀的工作環(huán)境也為真空環(huán)境，那么，就需要在使用離子濺射儀時進行抽真空，這將消耗一定的時間，當(dāng)離子濺射過程結(jié)束后，再將載臺3連同鍍有金屬離子的測試樣品放入掃描電鏡中還需要抽真空，使得掃描電鏡的工作環(huán)境也變?yōu)檎婵窄h(huán)境，該過程同樣需要消耗一定的時間。顯然，現(xiàn)有技術(shù)中使用掃描電鏡獲得測試樣品表面微觀結(jié)構(gòu)的過程較為繁瑣，導(dǎo)致測試效率較低。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型實施例提供一種具有離子濺射功能的掃描電鏡，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中使用掃描電鏡對測試樣品進行測試的過程較為繁瑣、測試效率低的問題。
[0007]本實用新型提供一種掃描電鏡，包括:系統(tǒng)艙，與所述系統(tǒng)艙密封連接的氣閘，所述氣閘內(nèi)設(shè)有用于承載測試樣品的載臺，所述氣閘內(nèi)設(shè)有濺射靶，所述濺射靶朝向所述載臺，所述濺射靶與所述載臺之間不貼合。
[0008]進一步地，在所述濺射靶朝向所述載臺的一面，設(shè)有濺射材料涂層。
[0009]進一步地，所述濺射靶朝向所述載臺一面的尺寸不小于所述載臺的尺寸。
[0010]進一步地，所述載臺設(shè)于所述氣閘底部，所述濺射靶設(shè)于所述氣閘頂部。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型實施例提供的掃描電鏡，在其氣閘內(nèi)設(shè)有濺射靶，由于掃描電鏡和離子濺射儀均工作在真空環(huán)境，那么，只需在掃描電鏡的氣閘內(nèi)進行抽真空，從而達到濺射靶可工作的真空環(huán)境，完成離子濺射過程，并在此基礎(chǔ)上，調(diào)整氣閘的真空度，使得真空度達到掃描電鏡的真空環(huán)境，可見，通過該濺射靶，可直接在氣閘內(nèi)完成離子濺射的過程，并且，可以在掃描電鏡的氣閘內(nèi)完成抽真空操作，有效提升了測試的便捷性及效率。
【附圖說明】
[0012]此處所說明的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，構(gòu)成本實用新型的一部分，本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型，并不構(gòu)成對本實用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0013]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的掃描電鏡的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2為本實用新型實施例提供的一種掃描電鏡的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]為使本實用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本實用新型具體實施例及相應(yīng)的附圖對本實用新型技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0016]如圖2所示，本實用新型實施例提供了一種掃描電鏡Dl，在圖2中顯示了掃描電鏡Dl內(nèi)與本實用新型相關(guān)的主要部件。具體的，掃描電鏡Dl包括系統(tǒng)艙10、與所述系統(tǒng)艙10密封連接的氣閘20，在圖2中，氣閘20中設(shè)有用于承載測試樣品的載臺202，在氣閘20中還設(shè)有濺射靶204，濺射靶204朝向載臺202，且濺射靶204與載臺202之間相互間隔不貼合，二者之間具有一定的距離。
[0017]在圖2中所示的系統(tǒng)艙10中包含電子槍101、載臺基座102等部件，由于是現(xiàn)有技術(shù)，故在本實用新型中不再過多贅述。
[0018]進一步地，濺射靶204朝向載臺202的一面，設(shè)置有濺射材料涂層205，包括但不限于:金、鈾金、銅等導(dǎo)電金屬材料涂層。
[0019]基于此，由于濺射靶204與載臺202之間不貼合，那么，當(dāng)氣閘20處于真空、高電壓的工作環(huán)境下時，氣閘20中殘留的氣體分子被電離，形成等離子體，濺射材料涂層205中的金屬離子受到等離子體的影響，在電場作用下濺射至載臺202上的測試樣品表面，從而使測試樣品表面附著金屬離子，也即，在測試樣品表面形成導(dǎo)電薄層，完成離子濺射過程。當(dāng)然，在實際使用時，濺射靶204與載臺202之間的距離，將影響導(dǎo)電薄層的密度，所以，濺射靶204與載臺202之間的距離可以根據(jù)實際使用的需要進行設(shè)置，這里并不構(gòu)成對本實用新型的限定。
[0020]顯然，基于如圖2所示的氣閘20結(jié)構(gòu)，使得可以直接在掃描電鏡Dl的氣閘20內(nèi)完成針對測試樣品的離子濺射過程，而無需單獨使用額外的離子濺射儀，這將有效提升了對測試樣品進行測試的便捷性。
[0021]作為本實用新型中的一種可選方式，為了便于在氣閘20內(nèi)進行離子濺射過程，具體地，在圖2中可見，載臺202設(shè)于氣閘20的底部，濺射靶204設(shè)于氣閘20的頂部。
[0022]為了在離子濺射過程中，濺射材料涂層205上的金屬離子能夠充分濺射至測試樣品(測試樣品并未在圖2中示出)上，作為本實用新型中的一種可選方式，濺射靶204的面積不小于載臺202的面積。
[0023]基于本實用新型中的掃描電鏡Dl，在實際應(yīng)用時，可通過以下步驟實現(xiàn)對測試樣品的測試過程:
[0024]第一步:將測試樣品放置于氣閘20內(nèi)，并密閉氣閘20，進行抽真空，使得氣閘20中的真空度適于進行離子濺射，并在此時針對氣閘20施加高電壓，以達到離子濺射所需的電壓值，完成對測試樣品的離子濺射過程。當(dāng)然，抽真空和加高電壓的過程中，均使用掃描電鏡Dl自身適配的裝置，也即，在抽真空的過程中，可以使用掃描電鏡Dl自身攜帶的抽真空設(shè)備對氣閘20進行抽真空操作，之后，可以使用加電壓設(shè)備對抽真空后的氣閘20中施加高電壓。顯然，這也將提升操作的便捷性。
[0025]第二步:離子濺射過程完畢后，可以調(diào)節(jié)氣閘20內(nèi)的真空度，使得真空度達到掃描電鏡Dl掃描時所需的真空度，并將位于氣閘20內(nèi)的載臺基座201上的載臺202，通過推送桿203，從艙門103推送進系統(tǒng)艙10中進行掃描。
[0026]綜上所述，本實用新型實施例提供的掃描電鏡的氣閘內(nèi)設(shè)有濺射靶，由于掃描電鏡和離子濺射儀均工作在真空環(huán)境，那么，只需在掃描電鏡的氣閘內(nèi)進行抽真空，從而達到濺射靶可工作的真空環(huán)境，完成離子濺射過程，并在此基礎(chǔ)上，調(diào)整氣閘的真空度，使得真空度達到掃描電鏡的真空環(huán)境，可見，通過該濺射靶，可直接在氣閘內(nèi)完成離子濺射的過程，并且，可以在掃描電鏡的氣閘內(nèi)完成抽真空操作，顯然，與現(xiàn)有技術(shù)不同的是，采用本實用新型中的掃描電鏡對測試樣品進行掃描時，無需額外的離子濺射儀進行離子濺射，有效地增加了掃描過程的便捷性，也提升了掃描過程的效率。
[0027]以上所述僅為本實用新型的實施例而已，并不用于限制本實用新型。對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原理之內(nèi)所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種掃描電鏡，包括:系統(tǒng)艙，與所述系統(tǒng)艙密封連接的氣閘，所述氣閘內(nèi)設(shè)有用于承載測試樣品的載臺，其特征在于，所述氣閘內(nèi)設(shè)有濺射靶，所述濺射靶朝向所述載臺，所述濺射靶與所述載臺之間不貼合。2.如權(quán)利要求1所述的掃描電鏡，其特征在于，在所述濺射靶朝向所述載臺的一面，設(shè)有濺射材料涂層。3.如權(quán)利要求1或2所述的掃描電鏡，其特征在于，所述濺射靶朝向所述載臺一面的面積不小于所述載臺的面積。4.如權(quán)利要求3所述的掃描電鏡，其特征在于，所述載臺設(shè)于所述氣閘底部，所述濺射靶設(shè)于所述氣閘頂部。
【專利摘要】本實用新型公開了一種掃描電鏡，包括：系統(tǒng)艙，與所述系統(tǒng)艙密封連接的氣閘，所述氣閘內(nèi)設(shè)有用于承載測試樣品的載臺，所述氣閘內(nèi)設(shè)有濺射靶，所述濺射靶朝向所述載臺，所述濺射靶與所述載臺之間不貼合。正是由于本實用新型中的掃描電鏡在其氣閘內(nèi)設(shè)有濺射靶，由于掃描電鏡和離子濺射儀均工作在真空環(huán)境，那么，只需在掃描電鏡的氣閘內(nèi)進行抽真空，從而達到濺射靶可工作的真空環(huán)境，完成離子濺射過程，并在此基礎(chǔ)上，調(diào)整氣閘的真空度，使得真空度達到掃描電鏡的真空環(huán)境，可見，通過該濺射靶，可直接在氣閘內(nèi)完成離子濺射的過程，并且，可以在掃描電鏡的氣閘內(nèi)完成抽真空操作，有效提升了測試的便捷性及效率。
【IPC分類】G01N23/225
【公開號】CN205209995
【申請?zhí)枴緾N201520988177
【發(fā)明人】崔耀晨, 張玉祥
【申請人】昆山國顯光電有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2015年12月2日