測繪儀器用四軸基座的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及測繪儀器領(lǐng)域，具體涉及一種測繪儀器用四軸基座。
【背景技術(shù)】
[0002]測繪儀器需要用支撐架支撐，目前的支撐架是固定不動的，無法提供靈活的支撐方式，測繪儀器的放置位置也局限在一種位置。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的在于克服上述問題，提供一種靈活調(diào)整測繪儀器放置位置的測繪儀器用四軸基座。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型所采用的技術(shù)方案為:測繪儀器用四軸基座，包括水平設(shè)置的基座本體，其特征在于，還包括垂直設(shè)置于基座本體的旋轉(zhuǎn)塊，旋轉(zhuǎn)塊設(shè)置有旋轉(zhuǎn)塊定位點；還包括設(shè)置于基座本體的活動桿，所述的活動桿設(shè)有活動桿定位點，彈性支撐塊連接于旋轉(zhuǎn)塊定位點和活動桿定位點。
[0005]所述的活動桿與動力裝置連接，動力裝置使活動桿沿X軸、Y軸以及Z軸移動。
[0006]所述的旋轉(zhuǎn)塊與動力裝置連接，動力裝置使旋轉(zhuǎn)塊以平行于Y軸的直線為軸旋轉(zhuǎn)以調(diào)整旋轉(zhuǎn)塊定位點的位置。
[0007]所述的旋轉(zhuǎn)塊定位點和活動桿定位點均至少為2個。
[0008]測繪儀器安裝于所述的彈性支撐塊上。
[0009]所述的活動桿與Y軸平行設(shè)置。
[0010]本實用新型的有益效果是:活動桿能沿X、Y、Z軸分別移動，且旋轉(zhuǎn)塊也旋轉(zhuǎn)，使定位點的位置發(fā)生變化，彈性支撐塊由于具有彈性，其能適應(yīng)定位點的位置變化，從而使彈性支撐塊的位置可調(diào)，有助于靈活調(diào)整測繪儀器放置位置。
【附圖說明】
[0011]圖1本實用新型的結(jié)構(gòu)圖；
[0012]附圖標記含義如下:
[0013]1:基座本體；2:活動桿；3:活動桿定位點；4:旋轉(zhuǎn)塊；5:旋轉(zhuǎn)塊定位點；6:彈性支撐塊。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步說明。
[0015]根據(jù)圖1，測繪儀器用四軸基座，包括水平設(shè)置的基座本體I (實際為一塊平板)，其特征在于，還包括垂直設(shè)置于基座本體I的旋轉(zhuǎn)塊4，旋轉(zhuǎn)塊設(shè)置有旋轉(zhuǎn)塊定位點5 ;還包括設(shè)置于基座本體的活動桿2，所述的活動桿設(shè)有活動桿定位點3，彈性支撐塊6連接于旋轉(zhuǎn)塊定位點和活動桿定位點。
[0016]所述的活動桿與動力裝置連接，動力裝置使活動桿沿X軸、Y軸以及Z軸移動?？煞謩e沿著Z軸、Y軸或X軸移動，也可沿全部軸同時移動或沿部分軸同時移動。
[0017]所述的旋轉(zhuǎn)塊與動力裝置連接，動力裝置使旋轉(zhuǎn)塊以平行于Y軸的直線為軸旋轉(zhuǎn)以調(diào)整旋轉(zhuǎn)塊定位點的位置。即旋轉(zhuǎn)塊與基座本體所呈夾角為0-180度。
[0018]所述的旋轉(zhuǎn)塊定位點和活動桿定位點均至少為2個。測繪儀器安裝于所述的彈性支撐塊上。所述的活動桿與Y軸平行設(shè)置。
[0019]活動桿能沿X、Y、Z軸分別移動，且旋轉(zhuǎn)塊也旋轉(zhuǎn)，使定位點的位置發(fā)生變化，彈性支撐塊由于具有彈性，其能適應(yīng)定位點的位置變化，從而使彈性支撐塊的位置可調(diào)，有助于靈活調(diào)整測繪儀器放置位置。
[0020]上述實施例不以任何形式限制本實用新型，凡采用等同替換或等效變換的方式所獲得的技術(shù)方案，均落在本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.測繪儀器用四軸基座，包括水平設(shè)置的基座本體，其特征在于，還包括垂直設(shè)置于基座本體的旋轉(zhuǎn)塊，旋轉(zhuǎn)塊設(shè)置有旋轉(zhuǎn)塊定位點；還包括設(shè)置于基座本體的活動桿，所述的活動桿設(shè)有活動桿定位點，彈性支撐塊連接于旋轉(zhuǎn)塊定位點和活動桿定位點。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測繪儀器用四軸基座，其特征在于，所述的活動桿與動力裝置連接，動力裝置使活動桿沿X軸、Y軸以及Z軸移動。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測繪儀器用四軸基座，其特征在于，所述的旋轉(zhuǎn)塊與動力裝置連接，動力裝置使旋轉(zhuǎn)塊以平行于Y軸的直線為軸旋轉(zhuǎn)以調(diào)整旋轉(zhuǎn)塊定位點的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測繪儀器用四軸基座，其特征在于，所述的旋轉(zhuǎn)塊定位點和活動桿定位點均至少為2個。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測繪儀器用四軸基座，其特征在于，測繪儀器安裝于所述的彈性支撐塊上。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測繪儀器用四軸基座，其特征在于，所述的活動桿與Y軸平行設(shè)置。
【專利摘要】本實用新型涉及測繪儀器領(lǐng)域，具體涉及一種測繪儀器用四軸基座，包括水平設(shè)置的基座本體，其特征在于，還包括垂直設(shè)置于基座本體的旋轉(zhuǎn)塊，旋轉(zhuǎn)塊設(shè)置有旋轉(zhuǎn)塊定位點；還包括設(shè)置于基座本體的活動桿，所述的活動桿設(shè)有活動桿定位點，彈性支撐塊連接于旋轉(zhuǎn)塊定位點和活動桿定位點。本實用新型的有益效果是：活動桿能沿X、Y、Z軸分別移動，且旋轉(zhuǎn)塊也旋轉(zhuǎn)，使定位點的位置發(fā)生變化，彈性支撐塊由于具有彈性，其能適應(yīng)定位點的位置變化，從而使彈性支撐塊的位置可調(diào)，有助于靈活調(diào)整測繪儀器放置位置。
【IPC分類】G01D11-30
【公開號】CN204612738
【申請?zhí)枴緾N201520165575
【發(fā)明人】薛文英
【申請人】蘇州華徠光電儀器有限公司
【公開日】2015年9月2日
【申請日】2015年3月24日