一種帶全息高密度光柵的攝譜儀的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及原子特性分析設備，尤其涉及一種帶全息高密度光柵的攝譜儀。
【背景技術】
[0002]原子發(fā)射光譜分析中，試樣激發(fā)后將光源的復合光經色散分解為不同波長的光譜線，并用感光板記錄下來的裝置。一般由照明系統(tǒng)、準光系統(tǒng)、色散系統(tǒng)和投影系統(tǒng)組成。分為棱鏡攝譜儀和光柵攝譜儀兩種。
[0003]現有的光柵攝譜儀中，采用感光板來識別最終得到的光譜，并通過技術人員對感光板采集到的光譜信號進行描繪、刻畫，最終得到對應元素的譜線特征圖。但這種方式工作效率低下、描繪的譜線誤差較大。
[0004]此外，準光系統(tǒng)中需要限制入射光的光通量，現有技術常使用遮光裝置來實現該功能，但所述遮光裝置結構固定，無法根據具體需要調節(jié)入射光的光通量。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型所要解決的技術問題是提供一種可調節(jié)入射光光通量的帶全息高密度光柵的攝譜儀。
[0006]本實用新型解決上述技術問題的技術方案如下:一種帶全息高密度光柵的攝譜儀，它包括從前向后依次設置的激發(fā)機構、聚光機構和色散機構；
[0007]所述激發(fā)機構包括第一殼體，所述第一殼體內設有兩個電極，兩個所述電極之間設置有物料臺，兩個所述電極分別通過導線連接至電源；
[0008]所述聚光機構包括底座，所述底座上從前向后依次設有相互平行且高度相等的第一聚光鏡、第二聚光鏡和第三聚光鏡，所述第一聚光鏡和第二聚光鏡之間設有用于限制入射光光通量的遮光裝置；
[0009]所述遮光裝置包括兩塊遮光板，兩塊所述遮光板通過調節(jié)螺桿連接，所述調節(jié)螺桿用于微調兩塊所述遮光板之間狹縫的間距；
[0010]所述色散機構包括第二殼體，所述第二殼體內設有平面鏡、第一凹面鏡、光柵和第二凹面鏡，所述平面鏡將射入所述色散機構的光線反射至所述第一凹面鏡，所述第一凹面鏡將所述光線反射至用于色散的全息高密度光柵上，所述全息高密度光柵將色散后的單色光反射至第二凹面鏡上，所述第二凹面鏡將所述單色光反射至用于將光信號轉換為電信號的CXD光電傳感器上，所述CXD光電傳感器通過通訊線連接至顯示器。
[0011 ] 所述CXD光電傳感器通過通訊線連接至電腦，所述電腦通過通訊線連接至顯示器。
[0012]本實用新型的有益效果是:三個聚光鏡對入射光線具有匯聚作用，在第一聚光鏡和第二聚光鏡之間設置遮光裝置，可以減小進入色散機構的光通量；
[0013]本實用新型使用了全息高密度光柵，較傳統(tǒng)普通光柵而言，全息高密度光柵刻線更密，及相同大小的光柵上的狹縫更多，由于光柵產生的條紋的特點是:明條紋很亮很窄，相鄰明紋間的暗區(qū)很寬，衍射圖樣十分清晰。因而利用光柵衍射可以精確地測定波長。故狹縫數越多明條紋越亮、越細，光柵分辨本領就越高。
[0014]此外，用CCD光電傳感器代替?zhèn)鹘y(tǒng)的感光板，可以將色散后的光譜轉換為數字信號，將這些數字信號輸入到顯示器可以直觀、準確的分析，同時減少了人工識譜的過程，大大提高了工作效率。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實用新型結構示意圖；
[0016]圖2為本實用新型遮光裝置的結構示意圖。
[0017]附圖中，各標號所代表的部件列表如下:
[0018]1、第一殼體，2、導線，3、電極，4、物料臺，5、底座，6、第一聚光鏡，7、第二聚光鏡，8、第三聚光鏡，9、遮光裝置，91、遮光板，92、調節(jié)螺桿，10、平面鏡，11、第一凹面鏡，12、全息高密度光柵，13、第二凹面鏡，14、CXD光電傳感器，15、顯示器，16、第二殼體，17、電腦。
【具體實施方式】
[0019]以下結合附圖對本實用新型的原理和特征進行描述，所舉實例只用于解釋本實用新型，并非用于限定本實用新型的范圍。
[0020]如圖1所示，一種帶全息高密度光柵的攝譜儀，它包括從前向后依次設置的激發(fā)機構、聚光機構和色散機構；
[0021]所述激發(fā)機構包括第一殼體1，所述第一殼體I內設有兩個電極3，兩個所述電極3之間設置有物料臺4，兩個所述電極3分別通過導線2連接至電源；
[0022]所述聚光機構包括底座5，所述底座5上從前向后依次設有相互平行且高度相等的第一聚光鏡6、第二聚光鏡7和第三聚光鏡8，所述第一聚光鏡6和第二聚光鏡7之間設有用于限制入射光光通量的遮光裝置9 ;
[0023]所述遮光裝置9包括兩塊遮光板91，兩塊所述遮光板91通過調節(jié)螺桿92連接，所述調節(jié)螺桿92用于微調兩塊所述遮光板91之間狹縫的間距；
[0024]所述色散機構包括第二殼體16，所述第二殼體16內設有平面鏡10、第一凹面鏡
11、光柵12和第二凹面鏡13，所述平面鏡10將射入所述色散機構的光線反射至所述第一凹面鏡11，所述第一凹面鏡11將所述光線反射至用于色散的全息高密度光柵12上，所述全息高密度光柵12將色散后的單色光反射至第二凹面鏡13上，所述第二凹面鏡13將所述單色光反射至用于將光信號轉換為電信號的CCD光電傳感器14上，所述CCD光電傳感器14通過通訊線連接至顯示器15。
[0025]所述(XD光電傳感器14通過通訊線連接至電腦17，所述電腦17通過通訊線連接至顯示器15。
[0026]兩個電極3通電后，對放置在物料臺4上的物料進行激發(fā)，激發(fā)出的光依次通過第一聚光鏡6、遮光裝置9、第二聚光鏡7和第三聚光鏡8，經過聚光作用后的光線進入色散機構，由平面鏡10將射入所述散射機構的光線反射至所述第一凹面鏡11，第一凹面鏡11將所屬光學反射至用于色散的全息高密度光柵12上，所述全息高密度光柵12將色散后的單色光反射至第二凹面鏡13上，所述第二凹面鏡13將所述單色光反射至用于將光信號轉換為電信號的CXD光電傳感器14上，所述CXD光電傳感器14通過通訊線連接至顯示器15，顯示器15將CCD光電傳感器14接收的光信號反饋出來，反饋方式包括圖像和數據。CCD光電傳感器14連接至電腦17再連接至顯示器15，是為了方便工作人員通過電腦17對所得到的光譜圖形或數據進行處理。
[0027]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種帶全息高密度光柵的攝譜儀，其特征在于，它包括從前向后依次設置的激發(fā)機構、聚光機構和色散機構； 所述激發(fā)機構包括第一殼體(I)，所述第一殼體(I)內設有兩個電極(3)，兩個所述電極(3)之間設置有物料臺(4)，兩個所述電極(3)分別通過導線(2)連接至電源； 所述聚光機構包括底座(5)，所述底座(5)上從前向后依次設有相互平行且高度相等的第一聚光鏡(6)、第二聚光鏡(7)和第三聚光鏡(8)，所述第一聚光鏡(6)和第二聚光鏡(7)之間設有用于限制入射光光通量的遮光裝置(9); 所述遮光裝置(9)包括兩塊遮光板(91)，兩塊所述遮光板(91)通過調節(jié)螺桿(92)連接，所述調節(jié)螺桿(92)用于微調兩塊所述遮光板(91)之間狹縫的間距； 所述色散機構包括第二殼體(16)，所述第二殼體(16)內設有平面鏡(10)、第一凹面鏡(11)、光柵(12)和第二凹面鏡(13)，所述平面鏡(10)將射入所述色散機構的光線反射至所述第一凹面鏡(11)，所述第一凹面鏡(11)將所述光線反射至用于色散的全息高密度光柵(12)上，所述全息高密度光柵(12)將色散后的單色光反射至第二凹面鏡(13)上，所述第二凹面鏡(13)將所述單色光反射至用于將光信號轉換為電信號的CCD光電傳感器(14)上，所述C⑶光電傳感器(14)通過通訊線連接至顯示器(15)。
2.根據權利要求1所述一種帶全息高密度光柵的攝譜儀，其特征在于，所述CCD光電傳感器(14)通過通訊線連接至電腦(17)，所述電腦(17)通過通訊線連接至顯示器(15)。
【專利摘要】本實用新型涉及一種帶全息高密度光柵的攝譜儀，它包括順次連接的激發(fā)機構、聚光機構和色散機構；激發(fā)機構包括第一殼體，第一殼體內設有兩個電極，兩個電極之間設置有物料臺，兩個電極分別通過導線連接至電源；聚光機構包括底座，底座上依次設有相互平行且高度相等的第一聚光鏡、第二聚光鏡和第三聚光鏡，第一聚光鏡和第二聚光鏡之間設有用于限制入射光光通量的遮光裝置；遮光裝置包括兩塊遮光板，兩塊遮光板通過調節(jié)螺桿連接，調節(jié)螺桿用于微調兩塊遮光板之間狹縫的間距；色散機構包括第二殼體，第二殼體內設有平面鏡、第一凹面鏡、光柵和第二凹面鏡。本實用新型具有結構簡單、光譜易識別的特點。
【IPC分類】G01J3-40
【公開號】CN204495467
【申請?zhí)枴緾N201520235385
【發(fā)明人】熊采華, 王鶴齡, 董學林, 李光一, 郁漢利
【申請人】湖北省地質實驗測試中心
【公開日】2015年7月22日
【申請日】2015年4月17日