儲層評價模型建立方法及裝置、儲層評價方法及裝置的制造方法
【專利摘要】本申請實施例公開了一種儲層評價模型建立方法及裝置、儲層評價方法及裝置。所述儲層評價方法包括：獲取目標儲層；基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算所述目標儲層所對應的孔洞尺寸；基于所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層。本申請實施例的儲層評價模型建立方法及裝置、儲層評價方法及裝置，可以提高得到的儲層評價結果的準確性。
【專利說明】
儲層評價模型建立方法及裝置、儲層評價方法及裝置
技術領域
[0001]本申請涉及石油天然氣勘探技術領域，特別涉及一種儲層評價模型建立方法及裝置、儲層評價方法及裝置。
【背景技術】
[0002]儲層評價通常是指對儲層中油氣藏的儲量進行預測或估算。在石油天然氣勘探領域，通常需要對儲層進行評價，以為后期油氣藏的勘探開發(fā)提供依據(jù)。
[0003]孔洞通常為儲層中油氣藏的主要儲集空間。現(xiàn)有技術中，通常使用地震資料，預測目標儲層中孔洞的分布情況，并根據(jù)所述孔洞的分布情況，對所述目標儲層進行評價。
[0004]在實現(xiàn)本申請過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術中至少存在如下問題:
[0005]基于地震資料，對于目標儲層中尺寸小于地震波波長、并且分布情況較為分散的孔洞，往往無法準確地進行預測。但是，儲層的沉積時代通常較久遠，往往經(jīng)歷了多次、多種類型的后期成巖作用，致使其非均質性較強，其孔洞的分布大多較為分散。在一些情況下，所述尺寸小于地震波波長、并且分布情況較為分散的孔洞也可能形成油氣藏。因此，上述現(xiàn)有技術中的方法，對目標儲層的評價往往不夠準確。

【發(fā)明內容】

[0006]本申請實施例的目的是提供一種儲層評價模型建立方法及裝置、儲層評價方法及裝置，以提高儲層評價的準確性。
[0007]為解決上述技術問題，本申請實施例提供一種儲層評價模型建立方法及裝置、儲層評價方法及裝置是這樣實現(xiàn)的:
[0008]—種儲層評價模型建立方法，包括:
[0009]分別將預設數(shù)量個孔洞的尺寸代入預設圍巖力學模型，得到每個孔洞所對應的儲層深度計算模型；
[0010]使用每個孔洞所對應的儲層深度計算模型，計算該孔洞所對應的儲層極限深度；
[0011]基于所述預設數(shù)量個孔洞、以及所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度，建立孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型。
[0012]一種儲層評價方法，包括:
[0013]獲取目標儲層；
[0014]基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算所述目標儲層所對應的孔洞尺寸；
[0015]基于所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層。
[0016]一種儲層評價模型建立裝置，包括:
[0017]儲層深度計算模型獲取單元，用于分別將預設數(shù)量個孔洞的尺寸代入預設圍巖力學模型，得到每個孔洞所對應的儲層深度計算模型；
[0018]儲層極限深度計算單元，用于使用每個孔洞所對應的儲層深度計算模型，計算該孔洞所對應的儲層極限深度；
[0019]函數(shù)模型建立單元，用于基于所述預設數(shù)量個孔洞、以及所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度，建立孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型。
[0020]一種儲層評價裝置，包括:
[0021 ]目標儲層獲取單元，用于獲取目標儲層；
[0022]孔洞尺寸計算單元，用于基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算所述目標儲層所對應的孔洞尺寸；
[0023]目標儲層評價單元，用于基于所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層。
[0024]由以上本申請實施例提供的技術方案可見，本申請實施例避免了使用地震資料，預測目標儲層中孔洞的分布情況，而是可以基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算目標儲層所對應的孔洞尺寸。這樣，與現(xiàn)有技術相比，本申請實施例對于目標儲層中尺寸小于地震波波長的孔洞，以及尺寸大于或等于地震波長的孔洞，均可以準確地進行預測，從而可以提高目標儲層評價的準確性。
【附圖說明】
[0025]為了更清楚地說明本申請實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0026]圖1為本申請儲層評價模型建立方法一個實施例的流程圖；
[0027]圖2為本申請實施例圍巖力學模型的示意圖；
[0028]圖3為本申請實施例計算孔洞所對應儲層極限深度的流程圖；
[0029]圖4為本申請實施例網(wǎng)格儲層深度計算模型示意圖；
[0030]圖5a為本申請實施例網(wǎng)格儲層深度計算模型y-z截面塑性區(qū)的示意圖；
[0031]圖5b為本申請實施例網(wǎng)格儲層深度計算模型x-z截面塑性區(qū)的示意圖；
[0032]圖5c為本申請實施例網(wǎng)格儲層深度計算模型x-y截面塑性區(qū)的示意圖；
[0033]圖6為本申請實施例孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型示意圖；
[0034]圖7為本申請儲層評價方法一個實施例的流程圖；
[0035]圖8為本申請儲層評價模型建立裝置一個實施例的功能結構示意圖；
[0036]圖9為本申請儲層評價裝置一個實施例的功能結構示意圖。
【具體實施方式】
[0037]為了使本技術領域的人員更好地理解本申請中的技術方案，下面將結合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒旧暾堉械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應當屬于本申請保護的范圍。
[0038]隨著勘探程度的提高，向深層古老地層進行勘探已成為一種發(fā)展趨勢。深層古老地層通常為碳酸鹽巖地層。通常情況下，隨埋深增大，由于上覆巖層壓力增大而導致孔洞被壓塌，碳酸鹽巖儲層的儲集空間逐漸消亡?；谏鲜霈F(xiàn)有技術中的方法，通常評價深度較深的碳酸鹽巖儲層為劣質儲層，無法形成優(yōu)質油氣藏。然而，近年來發(fā)現(xiàn)7000-8000m深度的碳酸鹽巖儲層中仍保存有大型孔洞，發(fā)育有優(yōu)質的油氣藏，從而表明上述現(xiàn)有技術中的方法難以準確地對儲層進行評價。
[0039]本申請實施例的儲層評價方法，可以準確地對儲層進行評價。為了更好地理解本申請實施例的技術方案，下面首先介紹儲層評價模型建立方法的一個實施例。如圖1所示，該實施例可以包括以下步驟。
[0040]步驟Sll:分別將預設數(shù)量個孔洞的尺寸代入預設圍巖力學模型，對應得到預設數(shù)量個儲層深度計算模型。
[0041]所述孔洞通常為儲層中油氣藏的主要儲集空間。所述孔洞的形狀通常近似為球形。那么，所述孔洞的尺寸可以包括孔洞的直徑。
[0042]所述孔洞可以包括孔隙和洞穴。其中，孔隙的尺寸通常小于或等于2m，所述洞穴的尺寸通常大于2m。
[0043]所述孔隙還可以包括微孔隙、小孔隙、中孔隙、以及大孔隙。所述微孔隙的尺寸通常小于或等于0.01m，所述小孔隙的尺寸通常大于0.01m、并小于或等于0.25m，所述中孔隙的尺寸通常大于0.25m、并小于或等于0.5m，所述大孔隙的尺寸通常大于0.5m、并小于或等于2m ο
[0044]所述洞穴還可以包括小洞穴、中洞穴、以及大洞穴。所述小洞穴的尺寸通常大于2m、并小于或等于5m，所述中洞穴的尺寸通常大于5m、并小于或等于10m，所述大洞穴的尺寸通常大于10m。
[0045]所述預設數(shù)量個可以為一個或多個。所述預設數(shù)量個孔洞的尺寸通常各不相同。例如，所述預設數(shù)量個孔洞可以包括尺寸分別為15m、10m、7m、5m、4.0m、3.0m、2.0m、1.0m、
0.5m、0.4m、0.2m、以及0.1m的孔洞。
[0046]所述圍巖力學模型通常為一種用于計算孔洞圍巖受力情況的數(shù)學模型。通常地，儲層孔洞的邊界形態(tài)較為復雜。為了考察孔洞圍巖的受力情況，可以抽象并建立圍巖力學模型。
[0047]如圖2所示。所述圍巖力學模型為立方體形圍巖力學模型。所述立方體形圍巖力學模型的底表面固定，上表面通常受到上覆巖層壓力σν的作用，前后表面通常收到水平最大主應力Oh max的作用，左右表面通常受到水平最小主應力Oh min的作用。
[0048]在所述立方體形圍巖力學模型內部可以有一孔洞。所述孔洞的中心可以與所述立方體形圍巖力學模型的中心相重合。所述孔洞內可以充滿流體，例如充滿石油等?？梢允褂肞1表示所述孔洞的內壓。所述立方體形圍巖力學模型的邊長通常大于或等于所述孔洞直徑r的3倍。
[0049]所述儲層深度計算模型通常為一種用于計算孔洞圍巖破壞程度的數(shù)學模型。為了考察孔洞圍巖破壞程度隨地層深度的變化情況，可以將孔洞的尺寸代入所述圍巖力學模型，得到該孔洞所對應的儲層深度計算模型。
[0050]所述分別將預設數(shù)量個孔洞的尺寸代入預設圍巖力學模型，得到每個孔洞所對應的儲層深度計算模型，可以包括:對于所述預設數(shù)量個孔洞中的每個孔洞，基于該孔洞的尺寸設置所述立方體形圍巖力學模型的邊長，將設置后的所述立方體形圍巖力學模型作為該孔洞所對應的儲層深度計算模型。
[0051]例如，某一孔洞的尺寸為5m。所述圍巖力學模型為正方體形圍巖力學模型，所述正方體形圍巖力學模型的邊長為孔洞尺寸的3倍。那么，可以根據(jù)該孔洞的尺寸，設置所述正方體形圍巖力學模型的邊長為15m，并可以將所述邊長為15m的正方體形圍巖力學模型作為該孔洞所對應的儲層深度計算模型。
[0052]步驟S12:使用每個所述孔洞所對應的儲層深度計算模型，計算該孔洞所對應的儲層極限深度。
[0053]通常情況下，隨地層深度的增加，由于上覆地層壓力增大而導致孔洞圍巖被壓塌的區(qū)域增大，儲層的儲集空間逐漸消亡。那么，可以使用所述孔洞所對應的儲層深度計算模型，計算該孔洞所對應的儲層極限深度。
[0054]所述計算該孔洞所對應的儲層極限深度，可以包括:按照地層深度從淺到深的順序，依次計算該孔洞所對應的儲層深度計算模型中塑性區(qū)的尺寸，直至塑性區(qū)的尺寸大于或等于該孔洞的尺寸為止，將此時的地層深度作為該孔洞所對應的儲層極限深度。
[0055]所述塑性區(qū)通常為發(fā)生剪切破壞或拉張破壞的區(qū)域。
[0056]如圖3所示，可以通過如下的子步驟計算該孔洞所對應的儲層極限深度。
[0057]步驟S121:依據(jù)預設網(wǎng)格尺寸，將該孔洞所對應的儲層深度計算模型進行網(wǎng)格劃分，得到該孔洞所對應的網(wǎng)格儲層深度計算模型。
[0058]步驟S122:獲取預設地層深度，將所述預設地層深度作為當前地層深度。
[0059]步驟S123:計算當前地層深度下，該網(wǎng)格儲層深度計算模型所受到的上覆巖層壓力、水平最大主應力和水平最小主應力，以及該孔洞的內壓。
[0060]所述上覆巖層壓力Ov、所述水平最大主應力Oh max、以及所述水平最小主應力Oh min,可以通過對當前地層深度下的地應力場進行反演得到。
[0061 ]所述上覆巖層壓力?可以由上覆巖層密度積分求得。
[0062]所述孔洞的內壓Pi= QPfgh。其中，Pf為孔洞內流體的平均密度;g為重力加速度;h為當前地層深度下，該孔洞中心的深度;a為壓力偏差系數(shù)。
[0063]步驟S124:對于該網(wǎng)格儲層深度計算模型內的每個網(wǎng)格，基于所述上覆巖層壓力、所述水平最大主應力、所述水平最小主應力和所述孔洞內壓，計算該網(wǎng)格的剪切應力和拉張應力，并基于所述剪切應力和拉張應力，判斷該網(wǎng)格是否屬于塑性區(qū)內的網(wǎng)格。
[0064]具體地，當所述剪切應力大于或等于該網(wǎng)格的抗剪強度時，或者，當所述拉張應力大于或等于該網(wǎng)格的抗拉強度時，將該網(wǎng)格作為塑性區(qū)內的網(wǎng)格；當所述剪切應力小于該網(wǎng)格的抗剪強度、并且所述拉張應力小于該網(wǎng)格的抗拉強度時，不將該網(wǎng)格作為塑性區(qū)內的網(wǎng)格。
[0065]步驟S125:判斷塑性區(qū)的尺寸是否大于該孔洞的尺寸，當塑性區(qū)的尺寸小于該孔洞的尺寸時，執(zhí)行步驟S126，當塑性區(qū)的尺寸大于或等于該孔洞的尺寸時，執(zhí)行步驟S127。
[0066]步驟S126:將當前地層深度與預設步長相加，得到新的地層深度，并使用所述新的地層深度更新所述當前地層深度，重復步驟S123至步驟S125。
[0067]步驟S127:將當前地層深度作為該孔洞的儲層極限深度。
[0068]圖4為某一網(wǎng)格儲層深度計算模型示意圖。圖4所示的網(wǎng)格儲層深度計算模型中，可以以孔洞的中心為坐標原點，以水平向右的方向為X軸的正方向，以水平向后的方向為Y軸正方向，以豎直向上的方向為Z軸正方向，建立三維直角坐標系。
[0069]圖5a為網(wǎng)格儲層深度計算模型y-z截面塑性區(qū)的示意圖；圖5b為網(wǎng)格儲層深度計算模型x-z截面塑性區(qū)的示意圖；圖5c為網(wǎng)格儲層深度計算模型x-y截面塑性區(qū)的示意圖。
[0070]在圖5a、圖5b、圖5c所示的示意圖中，黑色區(qū)域為未發(fā)生破壞區(qū)域，灰色區(qū)域為塑性區(qū)。
[0071]步驟S13:基于所述預設數(shù)量個孔洞、以及所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度，建立孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型。
[0072]具體地，針對所述預設數(shù)量個孔洞與所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度之間的關系，可以進行曲線擬合，得到孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型。
[0073]所述孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型可以為H = -599.61nD+9446.1。其中，H為儲層極限深度;D為孔洞尺寸。上式的擬合優(yōu)度R2可以為0.943。
[0074]圖6為孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型示意圖。在圖6中，橫坐標為InD，縱坐標為儲層極限深度H。線條I為所述預設數(shù)量個孔洞與所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度之間的關系曲線。線條2為孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型曲線。
[0075]在一個具體的應用場景中，可以使用圖6所示的函數(shù)模型曲線，對儲層進行分級評價。例如，可以將深度在8500m以上的儲層評價為優(yōu)勢儲層;可以將深度在8500m-9200m之間的儲層評價為有效儲層;可以將深度在9200m-9500m之間的儲層評價為普通儲層;可以將深度在IlOOOm以下的儲層評價為孔洞消亡儲層。
[0076]所述優(yōu)勢儲層通常具有較大的孔隙度和滲透率。所述有效儲層的孔隙度和滲透率小于所述優(yōu)勢儲層，但大于所述普通儲層。所述普通儲層通常具有較小的孔隙度和滲透率。
[0077]所述優(yōu)勢儲層、所述有效儲層、所述普通儲層形成油氣藏的概率依次減小。所述孔洞消亡儲層通常不易形成油氣藏。
[0078]在一個實施方式中，在步驟S13之后，所述方法還可以包括:獲取鉆井資料，基于所述鉆井資料對所述孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型進行修正，從而形成逼近地質實際情況的儲層定量評價模型。例如，所述鉆井資料可以包括深度為6000米至8000米的地層中，已鉆井發(fā)現(xiàn)的孔洞。
[0079]圖1所對應的實施例，避免了使用地震資料，預測目標儲層中孔洞的分布情況，而是可以基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算目標儲層所對應的孔洞尺寸。這樣，與現(xiàn)有技術相比，圖1所對應的實施例對于目標儲層中尺寸小于地震波波長的孔洞，以及尺寸大于或等于地震波長的孔洞，均可以準確地進行預測，從而可以提高目標儲層評價的準確性。
[0080]基于圖1所對應的實施例，本申請實施例還提供儲層評價方法的一個實施例。如圖7所示，該實施例可以包括以下步驟。
[0081 ]步驟S71:獲取目標儲層。
[0082]所述目標儲層通常為待評價的儲層。
[0083]所述獲取目標儲層可以包括:根據(jù)地質的預測，對工區(qū)進行沉積相相帶劃分，并可以從中選取目標沉積相所對應的地層，將選取的地層作為目標地層;從所述目標地層中選取目標儲層。
[0084]在一個具體的應用場景中，可以根據(jù)地質的預測以及碳酸鹽巖的沉積原理，對工區(qū)進行沉積相相帶劃分;并可以從盆地相至臺地相的過渡區(qū)域中，選取疊瓦狀沉積結構反射明顯的地層，可以將選取的地層作為目標地層，即，高能沉積環(huán)境下碳酸鹽巖發(fā)育地層。對所述目標地層進行古生物、測井或區(qū)域不整合研究，可以從所述目標地層中選取后期巖溶作用層段，并將選取的層段作為目標儲層，即，孔洞發(fā)育儲層。其中，后期巖溶作用層段，通常位于所述目標地層中局部不整合面以下100-70米范圍內。
[0085]步驟S72:基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算所述目標儲層所對應的孔洞尺寸。
[0086]具體地，可以基于所述目標儲層的深度，以及所述孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，獲取所述目標儲層所對應的孔洞尺寸。
[0087]步驟S73:基于所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層。
[0088]具體地，當所述目標儲層所對應的孔洞尺寸大于或等于第一預設閾值時，評價所述目標儲層為優(yōu)勢儲層；當所述目標儲層所對應的孔洞尺寸小于第一預設閾值、并大于或等于第二預設閾值時，評價所述目標儲層為有效儲層；當所述目標儲層所對應的孔洞尺寸小于第二預設閾值、并大于或等于第三預設閾值時，評價所述目標儲層為普通儲層。
[0089]所述第一預設閾值、所述第二預設閾值、以及所述第三預設閾值可以根據(jù)實際需要靈活設定。例如，所述第一預設閾值可以為5m，所述第二預設閾值為2m，所述第三預設閾值為0.5m。
[0090]圖7所對應的實施例，可以基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算目標儲層所對應的孔洞尺寸;并可以所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層。與現(xiàn)有技術相比，圖7所對應的實施例避免了基于地震資料，預測目標儲層中孔洞的分布情況，從而可以提高目標儲層評價結果的準確性。
[0091]下面介紹本申請儲層評價模型建立裝置的一個實施例。如圖8所示，該實施例可以包括:
[0092]儲層深度計算模型獲取單元81，用于分別將預設數(shù)量個孔洞的尺寸代入預設圍巖力學模型，得到每個孔洞所對應的儲層深度計算模型；
[0093]儲層極限深度計算單元82，用于使用每個孔洞所對應的儲層深度計算模型，計算該孔洞所對應的儲層極限深度；
[0094]函數(shù)模型建立單元83，用于基于所述預設數(shù)量個孔洞、以及所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度，建立孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型。
[0095]下面介紹本申請儲層評價裝置的一個實施例。如圖9所示，該實施例可以包括:
[0096]目標儲層獲取單元91，用于獲取目標儲層；
[0097]孔洞尺寸計算單元92，用于基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算所述目標儲層所對應的孔洞尺寸；
[0098]目標儲層評價單元93，用于基于所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層。
[0099]在20世紀90年代，對于一個技術的改進可以很明顯地區(qū)分是硬件上的改進(例如，對二極管、晶體管、開關等電路結構的改進)還是軟件上的改進(對于方法流程的改進)。然而，隨著技術的發(fā)展，當今的很多方法流程的改進已經(jīng)可以視為硬件電路結構的直接改進。設計人員幾乎都通過將改進的方法流程編程到硬件電路中來得到相應的硬件電路結構。因此，不能說一個方法流程的改進就不能用硬件實體模塊來實現(xiàn)。例如，可編程邏輯器件(Programmable Logic Device，PLD)(例如現(xiàn)場可編程門陣列(Field Programmable GateArray，F(xiàn)PGA))就是這樣一種集成電路，其邏輯功能由用戶對器件編程來確定。由設計人員自行編程來把一個數(shù)字系統(tǒng)“集成”在一片PLD上，而不需要請芯片制造廠商來設計和制作專用的集成電路芯片2。而且，如今，取代手工地制作集成電路芯片，這種編程也多半改用“邏輯編譯器(logic compiler)”軟件來實現(xiàn)，它與程序開發(fā)撰寫時所用的軟件編譯器相類似，而要編譯之前的原始代碼也得用特定的編程語言來撰寫，此稱之為硬件描述語言(Hardware Descript1n Language，HDL)，而HDL也并非僅有一種，而是有許多種，如ABEL(Advanced Boolean Express1n Language)、AHDL(Altera Hardware Descript1nLanguage)、Confluence、CUPL(CornelI University Programming Language)、HDCa1、JHDL(Java Hardware Descript1n Language)、Lava、Lola、MyHDL、PALASM、RHDL(RubyHardware Descript1n Language)等，目前最普遍使用的是VHDL(Very-High_SpeedIntegrated Circuit Hardware Descript1n Language)與Verilog2。本令頁域技術人員也應該清楚，只需要將方法流程用上述幾種硬件描述語言稍作邏輯編程并編程到集成電路中，就可以很容易得到實現(xiàn)該邏輯方法流程的硬件電路。
[0100]控制器可以按任何適當?shù)姆绞綄崿F(xiàn)，例如，控制器可以采取例如微處理器或處理器以及存儲可由該(微)處理器執(zhí)行的計算機可讀程序代碼(例如軟件或固件)的計算機可讀介質、邏輯門、開關、專用集成電路(Applicat1n Specific Integrated Circuit，ASIC)、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器的形式，控制器的例子包括但不限于以下微控制器:ARC 625D、Atmel AT91SAM、Microchip PIC18F26K20以及Silicone Labs C8051F320，存儲器控制器還可以被實現(xiàn)為存儲器的控制邏輯的一部分。
[0101]本領域技術人員也知道，除了以純計算機可讀程序代碼方式實現(xiàn)控制器以外，完全可以通過將方法步驟進行邏輯編程來使得控制器以邏輯門、開關、專用集成電路、可編程邏輯控制器和嵌入微控制器等的形式來實現(xiàn)相同功能。因此這種控制器可以被認為是一種硬件部件，而對其內包括的用于實現(xiàn)各種功能的裝置也可以視為硬件部件內的結構?；蛘呱踔粒梢詫⒂糜趯崿F(xiàn)各種功能的裝置視為既可以是實現(xiàn)方法的軟件模塊又可以是硬件部件內的結構。
[0102]上述實施例闡明的系統(tǒng)、裝置、模塊或單元，具體可以由計算機芯片或實體實現(xiàn)，或者由具有某種功能的產品來實現(xiàn)。
[0103]為了描述的方便，描述以上裝置時以功能分為各種單元分別描述。當然，在實施本申請時可以把各單元的功能在同一個或多個軟件和/或硬件中實現(xiàn)。
[0104]通過以上的實施方式的描述可知，本領域的技術人員可以清楚地了解到本申請可借助軟件加必需的通用硬件平臺的方式來實現(xiàn)。基于這樣的理解，本申請的技術方案本質上或者說對現(xiàn)有技術做出貢獻的部分可以以軟件產品的形式體現(xiàn)出來，該計算機軟件產品可以存儲在存儲介質中，如R0M/RAM、磁碟、光盤等，包括若干指令用以使得一臺計算機設備(可以是個人計算機，服務器，或者網(wǎng)絡設備等)執(zhí)行本申請各個實施例或者實施例的某些部分所述的方法。
[0105]本說明書中的各個實施例均采用遞進的方式描述，各個實施例之間相同相似的部分互相參見即可，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處。尤其，對于系統(tǒng)實施例而言，由于其基本相似于方法實施例，所以描述的比較簡單，相關之處參見方法實施例的部分說明即可。
[0106]本申請可用于眾多通用或專用的計算機系統(tǒng)環(huán)境或配置中。例如:個人計算機、月艮務器計算機、手持設備或便攜式設備、平板型設備、多處理器系統(tǒng)、基于微處理器的系統(tǒng)、置頂盒、可編程的消費電子設備、網(wǎng)絡PC、小型計算機、大型計算機、包括以上任何系統(tǒng)或設備的分布式計算環(huán)境等等。
[0107]本申請可以在由計算機執(zhí)行的計算機可執(zhí)行指令的一般上下文中描述，例如程序模塊。一般地，程序模塊包括執(zhí)行特定任務或實現(xiàn)特定抽象數(shù)據(jù)類型的例程、程序、對象、組件、數(shù)據(jù)結構等等。也可以在分布式計算環(huán)境中實踐本申請，在這些分布式計算環(huán)境中，由通過通信網(wǎng)絡而被連接的遠程處理設備來執(zhí)行任務。在分布式計算環(huán)境中，程序模塊可以位于包括存儲設備在內的本地和遠程計算機存儲介質中。
[0108]雖然通過實施例描繪了本申請，本領域普通技術人員知道，本申請有許多變形和變化而不脫離本申請的精神，希望所附的權利要求包括這些變形和變化而不脫離本申請的精神。
【主權項】
1.一種儲層評價模型建立方法，其特征在于，包括: 分別將預設數(shù)量個孔洞的尺寸代入預設圍巖力學模型，得到每個孔洞所對應的儲層深度計算模型； 使用每個孔洞所對應的儲層深度計算模型，計算該孔洞所對應的儲層極限深度； 基于所述預設數(shù)量個孔洞、以及所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度，建立孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型。2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述圍巖力學模型為立方體形圍巖力學模型； 所述分別將預設數(shù)量個孔洞的尺寸代入預設圍巖力學模型，得到每個孔洞所對應的儲層深度計算模型，包括: 對于所述預設數(shù)量個孔洞中的每個孔洞，基于該孔洞的尺寸設置所述立方體形圍巖力學模型的邊長，將設置后的所述立方體形圍巖力學模型作為該孔洞所對應的儲層深度計算模型。3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述計算該孔洞所對應的儲層極限深度，包括: 按照地層深度從淺到深的順序，依次計算該孔洞所對應的儲層深度計算模型中塑性區(qū)的尺寸，直至塑性區(qū)的尺寸大于或等于該孔洞的尺寸為止，將此時的地層深度作為該孔洞所對應的儲層極限深度。4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述預設數(shù)量個孔洞、以及所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度，建立孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，包括: 針對所述預設數(shù)量個孔洞與所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度之間的關系，進行曲線擬合，得到孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型。5.如權利要求1或4所述的方法，其特征在于，所述孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型為: H=-599.61nD+9446.1； 其中， H為儲層極限深度； D為孔洞尺寸。6.一種儲層評價方法，其特征在于，包括: 獲取目標儲層； 基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算所述目標儲層所對應的孔洞尺寸； 基于所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層。7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述獲取目標儲層，包括: 將工區(qū)中目標沉積相所對應的地層作為目標地層； 從所述目標地層中選取目標儲層。8.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述基于所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層，包括: 當所述目標儲層所對應的孔洞尺寸大于或等于第一預設閾值時，評價所述目標儲層為優(yōu)勢儲層； 當所述目標儲層所對應的孔洞尺寸小于第一預設閾值、并大于或等于第二預設閾值時，評價所述目標儲層為有效儲層； 當所述目標儲層所對應的孔洞尺寸小于第二預設閾值、并大于或等于第三預設閾值時，評價所述目標儲層為普通儲層。9.一種儲層評價模型建立裝置，其特征在于，包括: 儲層深度計算模型獲取單元，用于分別將預設數(shù)量個孔洞的尺寸代入預設圍巖力學模型，得到每個孔洞所對應的儲層深度計算模型； 儲層極限深度計算單元，用于使用每個孔洞所對應的儲層深度計算模型，計算該孔洞所對應的儲層極限深度； 函數(shù)模型建立單元，用于基于所述預設數(shù)量個孔洞、以及所述預設數(shù)量個孔洞所對應的儲層極限深度，建立孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型。10.一種儲層評價裝置，其特征在于，包括: 目標儲層獲取單元，用于獲取目標儲層； 孔洞尺寸計算單元，用于基于孔洞尺寸與儲層極限深度的函數(shù)模型，計算所述目標儲層所對應的孔洞尺寸； 目標儲層評價單元，用于基于所述目標儲層所對應的孔洞尺寸，評價所述目標儲層。
【文檔編號】G01V1/30GK106054249SQ201610649753
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年8月10日 公開號201610649753.4, CN 106054249 A, CN 106054249A, CN 201610649753, CN-A-106054249, CN106054249 A, CN106054249A, CN201610649753, CN201610649753.4
【發(fā)明人】朱光有, 趙斌
【申請人】中國石油天然氣股份有限公司