X射線檢查裝置以及x射線檢查方法
【專利摘要】能夠以更高的分辨率、更高的可靠性對存在于對象物中的異物等進行檢測。根據(jù)檢測出的幀數(shù)據(jù)，制作在X射線管(31)與X射線檢測裝置(22)之間的空間中設定的、與掃描方向平行的多個斷層面的幀數(shù)據(jù)。根據(jù)X射線束的扇形的擴散程度和多個斷層像在從檢測面起始的高度方向上的位置差異進行該制作?；诙鄠€斷層面的幀數(shù)據(jù)，根據(jù)X射線分層攝影法分別制作斷層像。對每個像素計算與該各個斷層像中的像素值的變化相對應的邊緣信息，并制作該邊緣信息的三維分布。在貫穿多個斷層面的方向上搜索該邊緣信息。作為該搜索結(jié)果，檢測出表示邊緣信息的最大值的像素，并且僅將在位置上與該檢測出的像素相對應的多個斷層像的像素合成為一張合成圖像。
【專利說明】
X射線檢查裝置以及X射線檢查方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及使用X射線對對象物的內(nèi)部進行檢查的X射線檢查裝置以及X射線檢查方法，特別是涉及適用于進行查找是否存在異物或者感興趣的對象物的檢查等的X射線檢查裝置以及X射線檢查方法，其中，所述異物是有可能存在于食品、工業(yè)制品、乳房等人體的一部分等對象物的內(nèi)部或者外表面、且與對象物的組成不同的物質(zhì)。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，從公共衛(wèi)生和食品安全的觀點來看，對有可能包含在食品內(nèi)部的異物進行檢查的必要性不斷增高。
[0003]該X射線檢查的方法有很多，但是備受關(guān)注的檢查方法是使用X射線來收集食品內(nèi)部的物質(zhì)信息的方法。作為達成此目的的一例，已知一種所謂的在線(inline)型X射線檢查裝置，該在線型X射線檢查裝置隔著搬送用的傳送帶在上下配置X射線管和檢測器，并通過X射線檢查載放在傳送帶上的檢查對象食品。在該裝置的情況下，檢查對象食品被載放在傳送帶(運輸線)上進行搬送，并經(jīng)過X射線管的X射線照射視野。通過傳送帶下側(cè)的檢測器檢測從經(jīng)過的食品中透過的X射線，并根據(jù)該檢測數(shù)據(jù)制作圖像。例如通過軟件對該圖像進行圖像處理，由此能夠發(fā)現(xiàn)是否存在有可能混入該食品內(nèi)部的異物和異物的種類。另外，檢查對象不僅限于異物，還可以是在X射線上產(chǎn)生對比度差且需要更準確地求出大小、形狀或重量的對象物。
[0004]因此，該在線型X射線檢查裝置面向于作為流水線作業(yè)而對大量食品進行檢查的場所。舉出該X射線裝置的具體例子，在I分鐘內(nèi)例如前進60m的搬送傳送帶上載放檢查對象食品(例如，青椒等蔬菜、制造出來的面包等食物、切塊肉)。在傳送帶的上方設置X射線發(fā)生器，另外，在放置有食品的傳送帶的下側(cè)、即循環(huán)的傳送帶的中間設置豎長的X射線檢測器，該X射線檢測器具有覆蓋運輸線的整個寬度的檢測面。例如與搬送傳送帶的移動速度同步地對從檢測器以固定幀率輸出的幀數(shù)據(jù)進行加法運算。
[0005]目前，大多使用組合了閃爍器和光電轉(zhuǎn)換元件的檢測器。這是為了相對于20keV?150keV程度的X射線能量提高X射線檢測靈敏度。閃爍器一般使用CsI或GOS等閃爍器。因此，閃爍器的響應速度較慢，存在余輝特性，動態(tài)范圍較窄。因此，檢查對象物僅限于X射線吸收比較少、厚度較薄的食品，抑制了向運輸線投入食品的食品投入量等，限制了使用者側(cè)的裝置使用。
[0006]為了多少緩解該限制，還已知一種使用雙能檢測器的食品檢查裝置(異物檢測裝置)，該食品檢查裝置使用于吸收低能量的X射線的檢測器和用于吸收高能量的X射線的檢測器重疊配置。在該裝置的情況下，形成如下的體系，即根據(jù)從兩個檢測器輸出的幀數(shù)據(jù)分別重建兩種圖像，并計算兩個圖像的差分，從而描繪出異物。但是，即使是該裝置，分辨率也不足，例如對于想要檢測出小到例如0.3mm左右的小異物的需求來說，設置了如下的限制，即放慢速度，或者將檢查對象物限定于較薄的對象物，或者更加分散地配置檢查對象物等。難以穩(wěn)定地對這種小異物的X射線吸收差進行檢查。
[0007]在現(xiàn)實中，對傳送帶上的高度方向的單一斷層面(或者斷面)的圖像進行目視觀察時，能夠檢測出存在于該斷層面或者存在于該斷層面附近位置的異物。但是，難以檢測出遠離該斷層面或者三維存在的異物。
[0008]考慮到這樣的觀點，已知記載于專利文獻I的日本特表2012-509735號的用于制作多斷層面的圖像的方法以及裝置。該公報中記載的技術(shù)示例出了如下的方案，即組合了光子計數(shù)型X射線檢測器和斷層合成攝影法(tomosynthesis)，根據(jù)希望的X射線能量組(energy bin)的幀數(shù)據(jù)，在用于乳房X射線檢查時獲得受檢體的多個切面的圖像。此外，在非破壞性檢查領(lǐng)域中，該斷層合成攝影法也被稱作X射線分層攝影(Iaminography)法。
[0009]同樣的多斷層面的圖像化的方法還記載于專利文獻2的日本特開2005-13736號中。
[0010]在先技術(shù)文獻
[0011]專利文獻
[0012]專利文獻1:日本特表2012-509735號
[0013]專利文獻2:日本特開2005-13736號

【發(fā)明內(nèi)容】

[0014]發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0015]但是，雖然上述專利文獻I以及專利文獻2中記載的圖像化方法考慮了X射線的能量組以及光子計數(shù)，但是，僅僅是使用斷層合成攝影法單純地制作對象空間的多個斷層面或者切面的圖像。即，盡管X射線從點狀的X射線焦點擴散放射，但是并未提及因該X射線以扇形擴散而引起的多個斷層面相互之間的濃度差，以及因從檢測器的檢測面至多個斷層像的高度差異而引起的放大倍率的差異。因此，由于每個斷層面的分辨率不同，所以無法分辨在這樣的多個斷層像中拍攝到的對象物和存在于該對象物內(nèi)部的非常細小的異物(例如0.3mm左右的細小的異物)。另外，即使利用由計算機進行的自動診斷，也極難通過目視觀察多個斷層像來對是否檢測出異物進行判斷。
[0016]因此，本發(fā)明是鑒于上述以往的X射線檢查中存在的問題而做成的，其目的在于提供一種X射線檢查裝置以及X射線檢查方法，能夠以更高的分辨率描繪出存在于處在對象空間內(nèi)的對象物中的異物(與對象物的組成不同的物質(zhì))，能夠更容易且可靠性更高地檢測出存在該異物。
[0017]用于解決技術(shù)問題的方案
[0018]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的一個實施方式提供一種X射線檢查裝置，其具備:X射線發(fā)生器，該X射線發(fā)生器具備用于產(chǎn)生X射線束的X射線管，所述X射線束在掃描方向上具有規(guī)定的錐角并且在沿著與該掃描方向垂直的斷面的方向上具有規(guī)定的扇形角；以及X射線檢測器，該X射線檢測器具備二維排列的多個像素，用于每隔固定時間輸出表示入射到該各像素上的所述X射線束的強度的幀數(shù)據(jù);使檢查對象位于將所述X射線管和所述X射線檢測器相互對置且相互分離配置時形成的該X射線管與該X射線檢測器之間的空間中，一邊使配對的該X射線管以及該X射線檢測器或者該檢查對象中的任意一方相對于另一方沿所述掃描方向相對移動，一邊收集從該X射線檢測器輸出的所述幀數(shù)據(jù)，并使用該幀數(shù)據(jù)對所述檢查對象的內(nèi)部狀態(tài)進行檢查。該X射線檢查裝置的特征在于，具備:幀數(shù)據(jù)制作單元52?56，基于所述幀數(shù)據(jù)，根據(jù)所述X射線的扇形的擴散程度和多個斷層面在垂直方向上的位置差異，制作該多個斷層面各自的幀數(shù)據(jù)，其中，所述多個斷層面是在所述X射線管與所述X射線檢測器之間的所述空間中設定的，且與所述掃描方向平行;斷層像制作單元57，對通過該幀數(shù)據(jù)制作單元制作的所述多個斷層面的幀數(shù)據(jù)應用X射線分層攝影法，以制作該多個斷層面的斷層像;邊緣信息制作單元58?62，對該多個斷層像各自的每個像素計算邊緣信息，并制作該邊緣信息的三維分布，其中，所述邊緣信息與通過該斷層像制作單元制作的所述多個斷層像各自之中的像素值的變化相對應；以及合成圖像制作單元62?63，對每個所述像素以貫穿該多個斷層面的方式在所述垂直方向上搜索通過該邊緣信息計算單元計算出的所述三維分布的邊緣信息，并檢測出表示該邊緣信息的最大值(或者極大值)的像素、邊緣信息的強度及其波動情況，并且僅選擇在位置上與該檢測出的像素相對應的所述多個斷層像或者根據(jù)該多個斷層像制作的斷層像的像素并進行合成，從而制作一張合成圖像。
[0019]優(yōu)選為，由LSI電路例如FPGA(Field Programmable Gate Array:現(xiàn)場可編程門陣列)等硬件電路在X射線檢測器的輸出側(cè)構(gòu)成幀數(shù)據(jù)制作單元、斷層像制作單元、邊緣信息制作單元以及合成圖像制作單元。
[0020]優(yōu)選為，具備合成圖像提示單元23，該合成圖像提示單元23用于以可視化的方式提示所述合成圖像制作單元制作的所述一張合成圖像。進一步優(yōu)選為，具備邊緣信息輸出單元64、69、68，該邊緣信息輸出單元64、69、68用于輸出所述邊緣信息的三維分布數(shù)據(jù)。
[0021]進一步可以具備邊緣信息指標化單元70，該邊緣信息指標化單元70根據(jù)所述邊緣信息的三維分布，使構(gòu)成該三維分布的該邊緣信息的特性曲線(prof ile)指標化。
[0022]發(fā)明的有益效果
[0023]根據(jù)本發(fā)明，基于通過X射線檢測器檢測出的X射線透過數(shù)據(jù)、即幀數(shù)據(jù)，根據(jù)從X射線管照射的X射線在對象空間中的擴散程度和從X射線檢測器的檢測面起始的高度差異，制作在對象空間、即放置對象物的檢查空間中作成的多個斷層面各自的幀數(shù)據(jù)。對該多個斷層像各自的幀數(shù)據(jù)應用X射線分層攝影法，以制作該多個斷層面各自的斷層像。進一步，對該多個斷層像各自的每個像素計算邊緣信息，并制作該邊緣信息的三維分布，其中，所述邊緣信息與該多個斷層像各自之中的像素值的變化相對應。對每個像素在貫穿該多個斷層面的方向(例如，從各像素觀察X射線管的焦點的方向，或者從各個像素貫穿該多個斷層面的方向)上搜索該三維分布的邊緣信息，并檢測出表示該邊緣信息的最大值(或者極大值)的像素，并且僅合成位置上與該檢測出的像素相對應的斷層像的像素，從而制作一張合成圖像。
[0024]S卩，合成圖像是，在多個斷層像中僅對呈現(xiàn)出邊緣信息的最大值(或者極大值)的像素進行編輯而得到的圖像。因此，當在對象物的內(nèi)部存在異物等其他物質(zhì)(X射線透過率與對象物不同的物質(zhì))時，強調(diào)該物質(zhì)的邊緣即輪廓。并且，在各斷層面使該物質(zhì)最佳焦點化，其模糊度較少，信號強度較高。
[0025]因此，在合成圖像中，以高分辨率描繪出異物和檢查對象物等。即，能夠?qū)⒑铣蓤D像視為從一個方向透視對象物且僅使存在于該對象物中的異物等其他物質(zhì)最佳焦點化的透視圖像。這樣，當對象物中存在異物等時，通過合成圖像能夠更容易且可靠性更高地檢測出存在異物等。進一步，通過LSI電路(硬件電路)進行數(shù)據(jù)處理，由此能夠減少向CPU發(fā)送的數(shù)據(jù)量，能夠提高X射線檢測器的幀率。
【附圖說明】
[0026]圖1是通過更加上位的概念說明本發(fā)明的第一實施例所涉及的X射線檢查裝置的框圖。
[0027]圖2是概念性地表示本發(fā)明的第二實施例所涉及的更加具體的X射線檢查裝置的說明圖。
[0028]圖3是示例出在第二實施例所涉及的X射線檢查裝置中帶式輸送機和檢測器的配置的圖。
[0029]圖4是說明X射線的能量區(qū)域(能量組)的圖。
[0030]圖5是對經(jīng)過檢查空間(對象空間)的檢查對象的大小與斷層取得范圍以及斷層面張數(shù)之間的關(guān)系進行說明的圖。
[0031]圖6是說明X射線檢查裝置中與檢測器一體制造的數(shù)據(jù)處理電路的結(jié)構(gòu)的框圖。
[0032]圖7是說明與朝掃描方向傾斜放置檢測器相伴的、將像素重置于直角坐標系中的圖。
[0033]圖8是說明根據(jù)斷層面的高度縮小收集到的幀數(shù)據(jù)的處理的圖。
[0034]圖9是說明將縮小的幀數(shù)據(jù)重置為檢測器的像素即所謂的原圖像像素的尺寸的處理的圖。
[0035]圖10是說明重建圖像的合成和編輯的圖。
[0036]圖11是說明圖像重建的圖。
[0037]圖12是說明虛擬地配置在檢查空間中的多個斷層像的數(shù)據(jù)的圖。
[0038]圖13是說明作為邊緣檢測的索貝爾過濾處理的圖。
[0039]圖14是說明基于多個斷層像和對該多個斷層像進行索貝爾過濾后得到的圖像來制作一張最佳焦點的合成圖像的處理的圖。
[0040]圖15是說明索貝爾值的三維分布以及表示索貝爾值的搜索方向的視線的圖。
[0041]圖16是示例出每個像素的與索貝爾值的斷層面位置相對應的特性曲線及其模式分類的圖。
[0042]圖17是說明異物在多個斷層像形成的重建空間和一張最佳焦點的合成圖像中的位置關(guān)系的圖。
[0043]圖18是說明本發(fā)明的第三實施方式所涉及的X射線檢查裝置的結(jié)構(gòu)的概念的結(jié)構(gòu)圖。
[0044]圖19是說明第三實施方式中傾斜配置多個檢測器的例子的圖。
[0045]圖20是說明第三實施方式中圖像加法運算的圖。
[0046]圖21是說明第三實施方式中圖像加法運算的局部概略框圖。
[0047]圖22是說明各實施方式中掃描軌跡的變形例的圖。
【具體實施方式】
[0048]下面，參照附圖，說明本發(fā)明所涉及的X射線檢查裝置的實施方式。
[0049][第一實施方式]
[0050]該第一實施方式所涉及的X射線檢查裝置是表示本發(fā)明所涉及的X射線檢查裝置的基本結(jié)構(gòu)的實施方式。
[0051]該X射線檢查裝置根據(jù)向被檢查的對象物照射X射線而獲得的X射線透過數(shù)據(jù)，對是否存在位于對象物的內(nèi)部或者外表面的異物等進行檢查。
[0052]該X射線檢查裝置具備X射線檢測單元，該X射線檢測單元具備用于照射X射線的X射線管以及用于檢測X射線的檢測器。檢查對象物經(jīng)過該X射線檢查單元提供的空間、即X射線束穿過的攝影空間。當然，也可以使對象物以固定狀態(tài)存在于攝影空間內(nèi)，而使X射線檢測單元以固定速度移動。例如如上所述，在該X射線檢測裝置中，向移動過程中的對象物照射X射線，并檢測透過該對象的X射線，進而使用斷層合成攝影法(或者X射線分層攝影法)和像素單位的焦點位置搜索方法，根據(jù)該檢測出的X射線的數(shù)據(jù)重建三維地表示該對象物的內(nèi)部的圖像。
[0053]作為該X射線檢查裝置能夠檢查的對象物，涉及食品、工業(yè)制品、人體的乳房等多方面。在后述的具體例中，將對用于調(diào)查食品(青椒等的蔬菜等)的內(nèi)部是否混入有異物的在線型食品檢查裝置進行說明，但是未必限定于此。作為食品，除此之外還能夠檢查鮮魚內(nèi)的釣鉤等異物。另外，如果對異物的含義進行變更解釋，則還能夠適用于檢查食用肉內(nèi)部的油脂成分含有情況、是否混入有異物或骨頭、木材的疏松程度和水分含量等。作為工業(yè)制品，還能夠適用于檢查電子基板零件的安裝狀態(tài)、焊錫塊內(nèi)的接觸狀態(tài)等。進一步，在檢查人體乳房的乳房X射線檢查中，目的在于發(fā)現(xiàn)乳房內(nèi)產(chǎn)生的鈣化和腫瘤等病變部位。
[0054]圖1中示出了本第一實施方式所涉及的X射線檢查裝置的基本結(jié)構(gòu)。如圖1所示，該X射線檢查裝置10具備:X射線發(fā)生器12，該X射線發(fā)生器12具備用于產(chǎn)生X射線束的X射線管11，所述X射線束在掃描方向上具有規(guī)定的錐角并且在沿著與該掃描方向垂直的斷面的垂直方向上具有規(guī)定的扇形角；以及X射線檢測器13，該X射線檢測器13具備二維排列的多個像素，用于每隔固定時間輸出幀數(shù)據(jù)，所述幀數(shù)據(jù)表示入射到該各像素上的所述X射線束的強度。在該X射線檢查裝置10中，使檢查對象OB位于將所述X射線管11和所述X射線檢測器13相互對置且相互分離配置時形成的該X射線管11與該X射線檢測器13之間的空間中。一邊使配對的該X射線管11以及該X射線檢測器13(8卩X射線檢測單元)或者該檢查對象OB中的任意一方相對于另一方沿所述掃描方向相對移動，一邊收集從該X射線檢測器13輸出的幀數(shù)據(jù)，并使用該幀數(shù)據(jù)提供用于表示所述檢查對象OB的內(nèi)部狀態(tài)的信息。
[0055]為了提供該信息，該X射線檢查裝置10進一步具備作為斷層像制作單元的幀數(shù)據(jù)制作部14、作為斷層像制作單元的斷層像制作部15、作為邊緣信息制作單元的邊緣信息制作部16以及作為合成圖像制作單元的合成圖像制作部17。
[0056]其中，幀數(shù)據(jù)制作部14基于幀數(shù)據(jù)，根據(jù)X射線的扇形的擴散程度和多個斷層面在垂直方向上的位置差異，制作在X射線管11與X射線檢測器13之間的空間中指定的、與掃描方向平行的多個斷層面各自的幀數(shù)據(jù)。斷層像制作部15對多個斷層面的幀數(shù)據(jù)應用X射線分層攝影法，以制作該多個斷層面的斷層像。另外，邊緣信息制作部16對該多個斷層像各自的每個像素計算與多個斷層像各自之中的像素值的變化相對應的邊緣信息(例如空間一次微分值)，并制作該邊緣信息的三維分布。由此，合成圖像制作部17對每個像素在貫穿該多個斷層面的方向(例如，從各像素觀察X射線管的焦點的方向或者從各像素貫穿該多個斷層面的方向)上搜索該三維分布的邊緣信息，并檢測出表示該邊緣信息的最大值(或者極大值)的像素，并且僅合成位置上與該檢測出的像素相對應的斷層像的像素，從而制作一張合成圖像。
[0057]作為一例，這些幀數(shù)據(jù)制作部14、斷層像制作部15、邊緣信息制作部16以及合成圖像制作部17與檢測器13—并搭載在形成X射線檢測裝置18的處理部19中。
[0058]在該基本結(jié)構(gòu)中，尤其優(yōu)選具備合成圖像提示部17A，該合成圖像提示部17A用于以可視化的方式提示上述一張合成圖像。另外，優(yōu)選具備邊緣信息輸出部16A，該邊緣信息輸出部16A用于輸出邊緣信息的三維分布數(shù)據(jù)。進一步，還可以具備邊緣信息指標化部16B，該邊緣信息指標化部16B根據(jù)邊緣信息的三維分布，使構(gòu)成該三維分布的該邊緣信息的特性曲線指標化。也可以采用具備這些合成圖像提示部17A、邊緣信息輸出部16A以及邊緣信息指標化部16B中至少任意一個的結(jié)構(gòu)。
[0059]通過以該基本結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ)的后述的實施方式，明確說明基于該第一實施方式所涉及的基本結(jié)構(gòu)的作用效果。
[0060][第二實施方式]
[0061]接下來，參照圖2?圖14，說明第二實施方式所涉及的X射線檢查裝置，該第二實施方式更加具體地表示了上述第一實施方式所涉及的X射線檢查裝置20。
[0062]圖2中示出了第二實施方式所涉及的X射線檢查裝置20的結(jié)構(gòu)的概要。如圖2所示，作為一例，該X射線檢查裝置20構(gòu)成為用于對食品的異物進行檢查。該X射線檢查裝置20是在線型X射線檢查裝置，其使用X射線分層攝影法(也稱作斷層合成攝影法)制作檢查對象即食品OB的內(nèi)部的多斷面的圖像，并根據(jù)該多斷面的圖像的數(shù)據(jù)提供用于表示各種內(nèi)部結(jié)構(gòu)的圖像信息，進而根據(jù)該圖像信息判定有無異物、確定該異物的三維位置和/或確定(推定、特定)該異物的種類或者性狀。
[0063]該X射線檢查裝置20具備:X射線發(fā)生裝置21，用于產(chǎn)生X射線;作為X射線接收側(cè)裝置的X射線檢測裝置22;以及計算機23，連接在該X射線檢測裝置22上，用于接收該裝置22的輸出信息并對該信息進行處理。計算機23具備設置有CPU(Central Processing unit:中央處理器)的運算裝置23A、顯示器23B以及輸入器23C。運算裝置23A具備R0M(Read_0nlyMemory:只讀存儲器)以及RAM(Random Access Memory:隨機存取存儲器)等的存儲器23M。
[0064]X射線發(fā)生裝置21具備:X射線管31，該X射線管31具有點狀的X射線管焦點(焦點直徑例如為1.ΟπιπιΦ);以及高電壓發(fā)生器32，用于產(chǎn)生驅(qū)動該X射線管31所需的高電壓，并供給給該X射線管31。進一步，X射線發(fā)生裝置21包括準直器33。
[0065]X射線檢測裝置22對入射的X射線進行檢測，并始終承擔對該X射線的數(shù)據(jù)進行的必要處理，直到生成表示所述對象OB的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的圖像信息為止。該X射線檢測裝置22具備:Χ射線檢測器(在以下的說明中僅稱作檢測器)41，用于檢測X射線，并將該X射線轉(zhuǎn)換成電信號并且輸出該電信號；以及數(shù)據(jù)處理電路42，電連接在該檢測器41的輸出端，根據(jù)輸入的電信號制作所述圖像信息。該數(shù)據(jù)處理電路42所進行的處理構(gòu)成本發(fā)明的一部分特征，將在后面對此進行詳細說明。
[0066]X射線管31以及檢測器41在高度方向Y上相互隔開固定距離配置，這兩者構(gòu)成了用于對透過食品OB的X射線進行檢測的X射線檢測單元。在該X射線管31與檢測器41(物理上是后述的搬送傳送帶)之間，形成有使對象OB通過的檢查空間(攝影空間或者對象空間)SPtJi量或大或小、高度或高或低的各種大小以及形狀的對象OB將經(jīng)過該檢查空間SP。
[0067]通過配置在檢查空間SP的規(guī)定位置的準直器33，使從X射線管31產(chǎn)生的X射線形成為X射線束XB，該X射線束XB在掃描方向Z上具有規(guī)定的錐角Θ，并且在沿著與該掃描方向Z垂直的斷面的垂直方向X上具有規(guī)定的扇形角β(參照后述的圖12)。
[0068]搬送傳送帶48經(jīng)過該檢查空間SP。將該經(jīng)過方向稱作對象OB的搬送方向時，該方向相當于對象OB的掃描方向Ζ。設搬送傳送帶48的傳送帶寬度方向為X時，X軸、Y軸以及Z軸的直角坐標設定為如圖2所示那樣。
[0069]該搬送傳送帶48構(gòu)成為，通過多個棍49以固定速度S(mm/ sec)在掃描方向Z(對象OB的搬送方向)上循環(huán)。輥49上設置有編碼器50，該編碼器50用于檢測表示該輥的旋轉(zhuǎn)速度、即搬送傳送帶48的移動速度的信號。這樣，隨著搬送傳送帶48的移動，待檢查的食品OB以橫穿X射線束XB的方式經(jīng)過X射線束XB。
[0070]X射線檢測裝置22配置(在線配置)在搬送傳送帶48的上側(cè)帶部分與下側(cè)帶部分之間，檢測器41的X射線入射窗位于上側(cè)帶的下方。此時，如圖2所示，在高度方向Y上，將從X射線管31的焦點F至檢測器41的X射線入射窗的高度設定為Hd，并將從同一焦點F至搬送傳送帶48上側(cè)帶部分的高度設定為Hb。
[0071]如圖3所示，檢測器41以線狀地連接多個模塊M的方式構(gòu)成，由此具有細長矩形的輪廓。另外，作為檢測器41的整體，具有細長矩形狀的X射線入射窗MD(其寬度(檢測寬度)=
ff)o
[0072]各模塊M是所謂的直接變換型X射線檢測要素，是將由CdTe、CZT等半導體材料構(gòu)成的檢測層成型為例如20 X 80個像素(各像素具有0.2mm X 0.2mm的尺寸)P而形成的，用于從X射線直接轉(zhuǎn)換成電信號。雖未圖示，但實際上在形成該多個像素P的檢測層的兩面貼附有電荷電極和收集電極。在這兩個電極之間施加偏電壓。
[0073]通過縱列地排列共計29個該模塊M，能夠形成縱向約47cmX橫向0.4cm的所述X射線入射窗MD(以像素數(shù)計例如為20 X 2348個像素)。因此，雖然多個模塊M本身排列為線狀，但是，在像素排列方面構(gòu)成為在橫向上也具有多個像素P的二維的細長的直接變換型檢測器。
[0074]進一步，該檢測器41是光子計數(shù)型(photon counting type)的檢測器，所述光子計數(shù)型檢測器將X射線視為具有各種能量的光子的集合，并能夠按照能量區(qū)域分別對這些光子的個數(shù)進行計數(shù)。例如如圖4所示，作為該能量區(qū)域，設定有四個能量區(qū)域Bim?Birn。當然，只要該能量區(qū)域Bin的數(shù)量是多個即可。
[0075]在該檢測器41中，對每個像素P以能量區(qū)域Bin為單位，每隔固定時間檢測X射線強度，以作為光子數(shù)的數(shù)字量的計數(shù)值(累計值)。當I個光子入射到某個像素P上時，就會在該像素P產(chǎn)生與其能量值相應的峰值的電脈沖信號。按照規(guī)定的各能量區(qū)域Bin，對該電脈沖信號的峰值即能量值進行分類，并使其計數(shù)值增加I。對每個像素P以能量區(qū)域Bin為單位收集該計數(shù)值，以作為每個固定時間的累積值(數(shù)字值)。該數(shù)據(jù)收集電路作為ASIC層以疊層狀態(tài)制造在所述檢測層的下表面。
[0076]通過將該數(shù)據(jù)收集電路的抽樣頻率設定為較高的值，以例如6600fps的幀率，分別從例如20X2348個像素中按照各能量區(qū)域Bin進行收集，以作為數(shù)字量的計數(shù)值。
[0077]這樣的直接變換型檢測器還包括該數(shù)據(jù)收集電路，作為公知的技術(shù)例如記載在歐洲專利公開2674787號公報中。
[0078]此外，作為檢測器41，并非必須是上述的直接變換型檢測器，也可以是如CeLaCl3檢測器那樣在直徑為數(shù)十μπι程度的微柱(Micro Column)狀閃爍器上構(gòu)成SiPM(也稱作MPPC)的光子計數(shù)檢測器。
[0079]如圖3所示，該檢測器41相對于搬送傳送帶48的移動方向、即掃描方向Z(以及傳送帶寬度方向X)傾斜配置。具體而言，將搬送傳送帶48的寬度(X軸方向的寬度)設為大約45cm時，相對于與其移動方向、即掃描方向Z垂直的傳送帶寬度方向X傾斜α° (例如大約14.036土0.5°)。以使排列為I行且縱橫長度比為1:1的4個像素整體的對角線與掃描方向Z—致的方式設定該傾斜角度α時，檢測數(shù)據(jù)的校正會變得更加簡便。這樣，各像素P的正方形輪廓也相對于傳送帶寬度方向Χ(以及掃描方向Ζ)傾斜地斜向排列。
[0080]在不采用該傾斜配置的情況下，即在將檢測器41配置成其長邊方向與傳送帶寬度方向X平行的情況下，像素P之間的間隙(通常為200μπι)將朝向掃描方向Z，會在對象OB中產(chǎn)生無法收集數(shù)據(jù)的部分。但是，通過如上所述那樣傾斜地配置檢測器41，不存在無法收集相關(guān)數(shù)據(jù)的部分。除此之外，如后面所述那樣，對與掃描時的重建空間即對象空間相匹配的像素所構(gòu)成的軸進行變換(仿射變換)時，根據(jù)附近的多個像素按照亞像素(sub-pixel)法決定像素值。因此，將產(chǎn)生抑制像素之間的各種波動要素(像素的制造精度的差別以及光子噪聲等)的效果。由此，能夠制作出噪聲更少的圖像。
[0081]雖未圖示，但是準直器33的開口的尺寸以及形狀被設計成使X射線剛好照射在檢測器41的檢測面的有效面積內(nèi)。當然，X射線管與檢測器之間的距離為可變的結(jié)構(gòu)時，通過計算機23的指示對準直器33的開口的尺寸以及形狀進行控制。由此，準直器33向X射線束XB賦予上述的錐角Θ以及扇形角β。另一方面，如上所述，本實施方式所涉及的檢測器41相對于對應掃描方向Z設定的直角坐標系傾斜配置，因此，在準直器33的開口設定中考慮了該傾斜配置。即，檢測器41的X射線入射窗MD也相對于直角坐標系傾斜，因此，向檢測器41進行照射的照射視野被設定成與該X射線入射窗MD上的輪廓一致。
[0082]圖5模式化地示出了在掃描方向Z上X射線束XB與作為檢查對象物的食品OB之間的位置關(guān)系。食品OB被載放在搬送傳送帶48上并沿掃描方向Z被搬送，以橫穿該X射線束XB的方式經(jīng)過該X射線束ΧΒ。當然，無論大小，食品OB在高度方向Y上均具有長度。X射線束XB在掃描方向Z上具有規(guī)定的錐角Θ。因此，如圖5中模式化地示出的那樣，從對著YZ面的方向觀察時，越靠近X射線管31，X射線束XB在掃描方向Z上的照射寬度越小。
[0083]本實施方式所涉及的X射線檢查裝置20形成為，操作員能夠配合檢查空間SP中的對象OB的高度，選擇性地指定表示該高度方向Y上的檢查范圍的斷層取得范圍和斷層面的張數(shù)。也可以簡單地將斷層取得范圍說成是高度方向Y上的攝影范圍。
[0084]此外，這里所提到的斷層面是指某一高度的面。將斷層面之間的間隔設定得越窄，后述的異物檢測的分辨率越高，但是，承擔檢測處理的電路規(guī)模也會相應地變大。
[0085]通過圖5的例子說明，能夠?qū)Ω叨容^低的對象OBl指定斷層取得范圍Hl和斷層面張數(shù)Ml。另外，對于高度較高的對象0Β2(0Β2的高度>0Β1的高度)，當對所有對象0Β(0Β1、0Β2)將各斷層厚度設為相同厚度時，能夠指定斷層取得范圍Η2(>Η1)和斷層面張數(shù)Μ2(>Μ1)。可以由操作者借助計算機23隨時選擇性地將該斷層取得范圍以及斷層面張數(shù)指示為任意的值，也可以將該斷層取得范圍以及斷層面張數(shù)設定為默認值。在裝置20的入口處自動地檢測或者推定對象OB的高度范圍，可以根據(jù)該值自動地設定斷層取得范圍以及斷層面張數(shù)。
[0086]這樣，在高度方向Y上虛擬地設定多斷層面，因此，在檢查空間SP中，X射線束XB分別穿過多斷層面，該X射線束XB在掃描方向Z上的寬度(即照射視野)對于每個斷面是不同的。該X射線檢查裝置20以進行多斷層面各自的圖像重建為基礎(chǔ)，因此，忽視該X射線束XB的寬度在各斷層面上是不同的這一因素，就無法進行數(shù)據(jù)處理。
[0087]使用上述圖2對此進行說明，在任意的斷層面(目前忽視厚度)Ho中進行后述的圖像重建時，該斷層面的每個單位長度的X射線吸收為Hd/Hq，是較大的值。這是由于X射線束XB從X射線管31的點狀X射線管焦點F(焦點直徑:1mm)向著檢測器41的X射線入射窗MD的寬度W(例如4mm)連續(xù)擴大的緣故。任意斷層面Ho的實際檢測器投影寬度Wo為Wo=W.(H0/Hd)o
[0088]因此，需要對高度方向Y校正由檢測器41檢測出的X射線透過數(shù)據(jù)(即幀數(shù)據(jù))。即，對于高度方向Y，因X射線束XB擴散(即在掃描方向Z上具有錐角Θ)而引起的放大投影的影響會直接作為被檢測出的透過數(shù)據(jù)的像素濃度值的大小而殘留下來。因此，針對該影響，需要在收集后進行濃度值的校正，具體而言是進行對各斷層面的各像素值乘以系數(shù)HQ/HD的校正。
[0089]另一方面，在掃描方向Z上，只要進行處理，將檢測出的X射線透過數(shù)據(jù)的像素尺寸重置為相同的值，就沒必要根據(jù)斷層面的高度校正各像素的濃度值。其原因在于，掃描方向Z上的移動速度S(搬送傳送帶48的速度)是與高度無關(guān)的固定值。在各斷層面中，通過檢測器41檢測出的透過數(shù)據(jù)的有效寬度被同樣地壓縮，該壓縮的程度為Ho/Hd。因此，對于掃描方向Z來說，即使高度方向Y不同，也無需對檢測出的透過數(shù)據(jù)的像素濃度進行校正。
[0090]進一步，對于與該掃描方向垂直的方向(即圖3的傳送帶寬度的方向X)，以如下方式對像素進行重置處理:使像素尺寸越接近X射線管31(8卩，斷層面的位置在作為高度方向的Y軸方向上越高)像素尺寸越小。因此，對于與掃描方向垂直的方向，也無需對像素的值(濃度值)進行校正。這樣，在本實施方式中，對于掃描方向Z以及與掃描方向Z垂直的方向X，無需通過調(diào)整像素尺寸來進行像素的濃度校正。因此，只要對高度方向Y執(zhí)行濃度校正即可。
[0091 ]進一步，由于該X射線檢查裝置20使用了搬送傳送帶48，因此，需要考慮進行針對該傳送帶的校正的必要性。當通過厚度固定的搬送傳送帶48搬送某對象OB時，X射線束會穿過對象OB和搬送傳送帶48的一部分，但是，在高度方向Y上兩者的厚度(高度)關(guān)系對于任何斷層位置來說都不變的。因此，對于高度方向Y上的任意斷層面位置來說，因存在搬送傳送帶48而導致的影響也是固定的。因此，對于因存在該搬送傳送帶48而導致的影響，在高度方向上其影響度沒有差別。即，雖然需要對因搬送傳送帶48而引起的X射線吸收進行校正，但是，不會隨高度變化而不同。
[0092]〈關(guān)于數(shù)據(jù)處理電路〉
[0093]接下來，參照圖6，說明與檢測器41 一體形成的數(shù)據(jù)處理電路42。
[0094]該數(shù)據(jù)處理電路42是作為X射線檢測裝置側(cè)的一個要素而配置的，也是本實施例的特征之一。該數(shù)據(jù)處理電路42通過LSI電路、例如FPGA(Field Programmable GateArray:現(xiàn)場可編程門陣列)一體制造于所述檢測器41的數(shù)據(jù)收集電路41A(參照圖6)的輸出段。即，具有如下特征:能夠以壓倒性的高速進行高即時性的運算，而不會如以往常見的那樣依賴于CHJ執(zhí)行的軟件處理。當然，如果處在允許CPU的運算負荷增大的環(huán)境中，也可以通過設定(PU的程序，從而以軟件的方式來實現(xiàn)在后述的電路群中執(zhí)行的處理。
[0095]如圖6所示，在檢測器41與作為控制臺的計算機(PC)23之間配設有由FPGA構(gòu)成的數(shù)據(jù)處理電路42。該數(shù)據(jù)處理電路42具備連接在檢測器41的輸出端的信號編輯電路51，在該信號編輯電路51的輸出側(cè)順次具備幀數(shù)據(jù)制作電路52、校正電路53、仿射變換電路54、數(shù)據(jù)選擇器55、圖像縮小電路56、重建電路(移位加法(shift&add)電路)57以及對數(shù)變換電路58 ο
[0096]進一步，在該對數(shù)變換電路58的輸出端并行設置有顯示用緩沖器59以及物質(zhì)確定用緩沖器60。其中，顯示用緩沖器59連接到用于檢測異物的邊緣檢測電路61、合成編輯電路62、第一圖像制作電路63以及第一去噪電路64。
[0097]進一步，合成編輯電路62的輸出還一并設置有經(jīng)過第二圖像制作電路65到達第二去噪電路66的路徑。
[0098]第一以及第二去噪回路64、66各自的輸出(去噪后的圖像數(shù)據(jù)以及斷層面信息)經(jīng)由數(shù)據(jù)選擇器67連接到圖像輸出端口 68，并通過該輸出端口 68連接在上述計算機23上。進一步，在合成編輯電路62與數(shù)據(jù)選擇器67之間還設置有三維(3D)數(shù)據(jù)輸出電路69以及邊緣信息指標化電路70。
[0099 ][本實施方式中獨特的數(shù)據(jù)處理]
[0100]下面，對上述數(shù)據(jù)處理電路42進行詳細說明。
[0101]如圖6所示，在檢測器41的數(shù)據(jù)收集電路41Α的輸出上連接有信號編輯電路51。從數(shù)據(jù)收集電路41A的輸出端高速(例如6600FPS)串行輸出數(shù)字數(shù)據(jù)，該數(shù)字數(shù)據(jù)表示對每個像素P以能量區(qū)域Bin為單位(參照圖4)收集到的X射線光子的每個固定時間的計數(shù)值(累計值)。信號編輯電路51接收該串行的數(shù)字數(shù)據(jù)，編輯并輸出檢測器41的所有像素P的每個能量區(qū)域Bin的數(shù)據(jù)。即，作為未加工的幀數(shù)據(jù)，依次輸出與所有像素P分別相對的在能量區(qū)域Bim、Bin2、Bin3以及Biru各自中計數(shù)到的X射線光子的計數(shù)值。該未加工的幀數(shù)據(jù)例如由20X2348個像素數(shù)據(jù)構(gòu)成，按照各能量區(qū)域Bin，以固定時間為周期依次輸出該未加工的幀數(shù)據(jù)。
[0102]該未加工的幀數(shù)據(jù)被輸出到下一段的幀數(shù)據(jù)制作電路52中。該幀數(shù)據(jù)制作電路5 2依次使用接收到的未加工的幀數(shù)據(jù)，分別計算合成幀數(shù)據(jù)roALL、第一能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)^^以及第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD3,其中，
[0?03]合成幀數(shù)據(jù)FDall是將能量區(qū)域Bim至Biru的四個能量區(qū)域各自所對應的像素P的像素值以像素為單位相加而得到的；
[0104]第一能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)Hh是從下側(cè)的第一個能量區(qū)域Bim的未加工的幀數(shù)據(jù)的像素值中差分出下側(cè)的第二個能量區(qū)域Bin2的未加工的幀數(shù)據(jù)的像素值而得到的；
[0105]第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)Π)3是從下側(cè)的第三個能量區(qū)域Bin3的未加工的幀數(shù)據(jù)的像素值中差分出下側(cè)的第四個能量區(qū)域、即最上側(cè)的能量區(qū)域Bin4的未加工的幀數(shù)據(jù)的像素值而得到的。
[0106]這些幀數(shù)據(jù)之中，合成幀數(shù)據(jù)FDall被用于X射線檢查。第一、第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD1以及FD3是用于確認(推定或特定)異物的種類和/或性狀的數(shù)據(jù)，即進行所謂的物質(zhì)確定時使用的數(shù)據(jù)，通過采用差分，能夠抑制因入射到各像素P上的X射線光子間的重疊現(xiàn)象(堆積(Pi Ie up))而引起的在較高能量區(qū)域中錯誤計數(shù)的誤差分。
[0107]如圖7(A)所示，該合成幀數(shù)據(jù)FDall以及第一、第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD1以及Π)3相對于XZ面的二維直角坐標的X軸傾斜α° (在此例子中約為14.036±0.5° )。
[0108]從該幀數(shù)據(jù)制作電路52輸出的三種幀數(shù)據(jù)ro/iFDi以及ro3分別被發(fā)送到下一段的校正電路53。該校正電路53獨立地具備合成幀用校正電路53A、第一差分用校正電路53B以及第二差分用校正電路53C。從系統(tǒng)側(cè)向這些校正電路53A?53C供給由系統(tǒng)側(cè)預判出的對于不佳像素(dead pixel)的校正、與濃度(intensity)相關(guān)的校正、以及與像素值的均一性相關(guān)的校正等的校正數(shù)據(jù)。由此，各校正電路53A?53C使用加權(quán)計算等公知的方法，執(zhí)行賦給每個幀數(shù)據(jù)的每個像素的校正處理。此外，與濃度相關(guān)的校正還包括如下的處理:對X射線的每個能量區(qū)域賦予不同的權(quán)重，從而在幀數(shù)據(jù)中強調(diào)特定的X射線能量區(qū)域等。[0?09]這些幀數(shù)據(jù)FDall、FDi以及FD3分別被發(fā)送到下一段的仿射變換電路54。作為硬件電路，該仿射變換電路54也與該三種幀數(shù)據(jù)相對應地具備合成幀數(shù)據(jù)用、第一、第二差分幀數(shù)據(jù)用的三個仿射變換電路54A?54C。各仿射變換電路54A(?54C)基于亞像素法，將如圖7(A)所示的傾斜的幀數(shù)據(jù)FDALL(FDhFD3)變換至IjX-Z軸直角坐標中。
[0110]圖7(B)中模式化地示出了該仿射變換后的幀數(shù)據(jù)FDall’(FD1^FD3I根據(jù)亞像素法，直角坐標上的各像素P’的像素值通過以下合計值表示，即、占有該像素P’且與傾斜的幀數(shù)據(jù)roALUro^FDs)關(guān)聯(lián)的多個像素的像素值與其面積占有率的乘積值之合計。即，在圖7(C)的例子的情況下，P’ =口1\1'1+口2\^。在此41、口2是像素？1、？2的像素值，1'1、^是面積值。在如圖7(c)所示的像素P’的情況下，由于是傾斜的幀數(shù)據(jù)的端部，因此，ri+r2 = ri2(〈l)，但是以此作為替代值。
[0111]對于每個變換系，依次以固定間隔將這些幀數(shù)據(jù)roALL’JD1’以及HV發(fā)送到數(shù)據(jù)選擇器55。該數(shù)據(jù)選擇器55將這些幀數(shù)據(jù)臨時存儲在其內(nèi)部存儲器中，并制作幀數(shù)據(jù)組合。由此，獨立于合成幀數(shù)據(jù)FDall’、第一能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD1’以及第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD3’，另外組合成用于重建圖像的幀數(shù)據(jù)。
[0112]該數(shù)據(jù)選擇器55能夠接收表示是否使用幀數(shù)據(jù)(還包括使用哪個能量區(qū)域的幀數(shù)據(jù))或者是否使用圖像數(shù)據(jù)的指令信息，并且，還能夠根據(jù)該指令信息選擇性地輸出合成幀數(shù)據(jù)FDall’的組合、或者第一能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)TO1’的組合以及第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD3’的組合。例如，該指令信息表示異物檢測時，能夠只將合成幀數(shù)據(jù)FDall’的組合輸出至后一段的圖像縮小電路56。另一方面，該指令信息表示對象OB的物質(zhì)確定時，能夠選擇性地只輸出第一能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)TO1 ’的組合以及第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)Π)3 ’的組合。當然，該指令信息表示異物檢測以及物質(zhì)確認兩者時，能夠一并輸出三種幀數(shù)據(jù)的組合。
[0113]圖像縮小電路56承擔兩個處理。其中的第一處理是如下處理:根據(jù)由預先指定的斷層取得范圍H和斷層面張數(shù)M決定的、高度方向Y上的各斷層面的高度，分別縮小從數(shù)據(jù)選擇器55輸出的合成幀數(shù)據(jù)FDall’的組合和/或第一能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD1,的組合、第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)HV的組合。具體而言，如圖8(A)至圖8(B)所示，根據(jù)各斷層面的高度，對各幀數(shù)據(jù)FDbf (FDall’ JD1 ’、FD3’)的各像素的尺寸進行Z軸方向以及X軸方向的等倍壓縮，從而制作出幀數(shù)據(jù)roaf。雖未圖示，但是在圖像縮小電路56中并行裝備有未圖示的用于進行該縮小處理的電路要素，該電路要素的數(shù)量為三種幀數(shù)據(jù)的組合的所有斷層面的數(shù)量。各斷層面的X軸方向的寬度構(gòu)成為，與照射的X射線的扇形角β所呈現(xiàn)出的寬度相匹配。
[0114]圖像縮小電路56的第二處理是上述縮小后的幀數(shù)據(jù)H)af的像素尺寸的重置以及映射(mapping)。即，通過圖像縮小電路56，將該幀數(shù)據(jù)!7Daf的像素尺寸重置為原幀數(shù)據(jù)、SP通過檢測器41的檢測面(X射線入射窗MD)檢測出的幀數(shù)據(jù)的像素尺寸(即檢測器41的像素P本身的尺寸，也稱作原像素尺寸)。該重置以如下方式進行:在XZ面上，使位于該重置后的幀數(shù)據(jù)的中心的像素、即位于Z軸方向以及X軸方向各自的中心的像素與位于檢測面的原幀數(shù)據(jù)的中心的像素在位置上一致。
[0115]S卩，在重置前后的幀數(shù)據(jù)之間，使Z軸方向以及X軸方向的中心像素的位置對齊，在以這種方式進行定位的基礎(chǔ)上，計算重置后的幀數(shù)據(jù)的各像素的像素值。
[0116]這些第一、第二處理通過圖像縮小電路56的各電路要素(未圖示)執(zhí)行。如果綜合性地表示這些處理，就是對幀數(shù)據(jù)的各像素執(zhí)行由以下數(shù)學式表達的處理。
[0117]^fGi(Zj,Xj)
[0118]其中，i = i?N(N:斷層面數(shù))，
[0?19] j =ALL、I或3( j =ALL是對合成幀數(shù)據(jù)的組合進行的處理，j = I是對第一能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)的組合進行的處理，j = 3是對第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)的組合進行的處理)。
[0120]該數(shù)學式的含義為，至少通過斷層面的高度函數(shù)61使位于“ZpX/’位置的像素縮小，并通過函數(shù)f僅在掃描方向上再次將各像素重置為原幀數(shù)據(jù)的像素尺寸。該函數(shù)61反映了指定的斷層范圍、斷層張數(shù)、高度方向Y上的濃度校正、以及相對于所使用的搬送傳送帶48的X射線吸收校正部分的因子。
[0121]此外，對幀數(shù)據(jù)roaf的像素尺寸進行的重置并非限定于重置成原幀數(shù)據(jù)的像素尺寸(原像素尺寸)的情況。例如，也可以小于原幀數(shù)據(jù)的像素尺寸，還可以是具有希望的分辨率的像素尺寸。將重置尺寸設為與原像素尺寸相同的值僅是一例。
[0122]圖9模式化地示出了該像素的重置處理。在該圖9中，用實線robf表示原幀數(shù)據(jù)，用虛線roaf表示等倍縮小后的幀數(shù)據(jù)。該像素尺寸的重置為，與兩個幀數(shù)據(jù)的重疊相應地，在亞像素法下變更像素尺寸并計算像素值。該像素尺寸的重置通過使位于兩個幀數(shù)據(jù)的X軸方向以及Z軸方向的中心的像素Pc-bf、Pc-af相互對齊的方式進行。
[0123]這樣，圖像縮小電路56根據(jù)指定的多個斷層面的高度，分別縮小通過檢測器41的檢測面(X射線入射窗MD)檢測出的各幀數(shù)據(jù)roaf，并且在XZ面上使縮小前后的幀數(shù)據(jù)的中心像素的位置對齊，并在縮小前后只在掃描方向上變換成與原像素尺寸相同的像素尺寸的幀數(shù)據(jù)。
[0124]由此，各幀數(shù)據(jù)的多個像素分別在最下側(cè)的斷層面上形成與原像素尺寸相同的正方形，而隨著斷層面的位置增高，在與掃描方向垂直的方向上形成長度變短的長方形。隨著斷層面的位置增高，該長方形變得更加細長。但是，構(gòu)成多個斷層面的像素數(shù)在斷層面之間變成相同的。
[0125]在圖10(A)中模式化地示出了該狀態(tài)。在高度方向(Y軸方向)上，位于最下側(cè)的斷層面的幀數(shù)據(jù)FDalli的像素為正方形的原像素尺寸(縱X橫=Xl XZl且Xl=Zl)。與此相對地，位于正中間附近的高度的斷層面的幀數(shù)據(jù)FDm的像素為長方形的像素尺寸(縱X橫=X2XZ1且X2〈X1)。進一步，位于更高位置的斷層面的幀數(shù)據(jù)FDa^n的像素為長方形的像素尺寸(縱 X 橫=X3 X ZI 且X3〈X2)。
[0126]這樣，雖然幀數(shù)據(jù)在掃描方向上的像素尺寸彼此相同，但是，在與掃描方向垂直的方向(X軸方向)上，斷層面的位置越高(Y軸方向)像素尺寸逐漸變小，這樣的幀數(shù)據(jù)roALL2、或者ro12以及ro32被發(fā)送到后段的重建電路57。例如，該重建電路57以與來自編碼器50的搬送速度同步的移位量，對指定的多個幀數(shù)據(jù)rom實施公知的X射線分層攝影法(也稱作斷層合成攝影法)、即移位加法(shift and add)處理。由此，根據(jù)該指定張數(shù)的幀數(shù)據(jù)FDall2重建一張斷層像數(shù)據(jù)頂all ( IMalli?Malln)(參照圖1O (B) (C))。該處理對象的幀數(shù)據(jù)依次切換，因此，與對象OB的搬送相伴地，每隔固定時間生成重建的斷層像的數(shù)據(jù)。如前所述，該斷層像頂all越朝圖10的下段、中段、上段和上側(cè)前進，在高度方向Y上的斷層面的位置越靠上。因此，在該圖10中，越朝上側(cè)前進，通過縮小處理使重建的斷層像的尺寸變得越小。
[0127]同樣地，如后所述，對于第一、第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD12以及ro32，根據(jù)特定的X射線能量區(qū)域的幀數(shù)據(jù)，分別重建出重建的平面像頂1(頂11，…IMin)、IM3(IM3I，…IMsn)。
[0128]這些斷層像數(shù)據(jù)頂通過對數(shù)變換電路58被變換成自然對數(shù)的斷層像數(shù)據(jù)。該斷層像頂?shù)臄?shù)據(jù)進一步被發(fā)送到異物檢測的顯示用緩沖器59以及物質(zhì)確認用緩沖器60。
[0129]其中，顯示用緩沖器59以及物質(zhì)確認用緩沖器60均具有雙緩沖器的結(jié)構(gòu)，通過對該雙緩沖器進行數(shù)據(jù)寫入以及讀出控制來合成編輯重建的斷層像IM。如圖1l(A)所示，在時序上依次向該顯示用緩沖器59以及物質(zhì)確認用緩沖器60分別供給重建的斷層像IMALL1?頂ALLNaMii?Min; IM31?頂3N)，其中，與斷層面的高度相應地，所述重建的斷層像IMalli?IMaixn的圖像尺寸不同。
[0130]此時，對于第一個斷層像頂ALU，顯示用緩沖器59將多張第一個斷層像頂ALL1以二維并列配置的方式寫入顯示用緩沖器59的存儲區(qū)域。即，將多張斷層像Malli合成為呈平行四邊形的合成斷層像頂gl。接下來，如圖U(B)所示，從該平行四邊形的合成斷層像頂81中，例如沿橫軸方向以2ν(Ν=1、2、.._)單位讀取出一張或者多張矩形區(qū)域圖像IMgl’的數(shù)據(jù)。該數(shù)據(jù)讀取的單位并非限定于2n(N= 1、2、…)，而可以選擇希望尺寸的單位。
[0131 ] 對于第二個至第N個斷層像頂ALL2...IMalln，也可以同樣地并行執(zhí)行該合成處理。由此，同樣地根據(jù)各個合成斷層像IMg2?頂gN分別制作矩形區(qū)域圖像頂g2’?頂gN’的數(shù)據(jù)。
[0132]這些矩形區(qū)域圖像IMgl’、Mg2’?IMgN’的數(shù)據(jù)被三維地配置在由緩沖器虛擬提供的對象空間(即檢查空間SP)中。由此，如圖12中模式化地示出的那樣，形成由二維的矩形區(qū)域圖像Mg1 ’、頂g2 ’?頂gN ’構(gòu)成的三維圖像頂3D-ALL。此外，在圖12中，分別以無厚度的片狀示出了圖像頂gl’、Mg2’?頂gN’。
[0133]另外，物質(zhì)確定用緩沖器60對重建斷層像頂η?頂1N、頂31?nfeN進行與上述同樣的處理。即，對于這些斷層像，形成與圖12的示意圖同樣的由二維矩形區(qū)域圖像頂η’、頂12’?頂IN’以及頂31’、頂32’?頂3Ν’構(gòu)成的三維圖像頂3D-l、nfeD-3，其中，二維矩形區(qū)域圖像Mn’、IM12 ’?IM1N’以及頂31 ’、頂32 ’?nfeN’分別對應第一以及第三能量區(qū)域Binl、Bin3。
[0134]在如圖12所示的三維圖像頂SDaMn、頂3D—3)的數(shù)據(jù)中，多個斷層像Mgl’、Mg2’、mg3’…頂#’的大小越朝高度方向Y的上側(cè)前進，其面積(即傳送帶寬度方向X的尺寸)越小。即，基于X射線束XB在傳送帶寬度方向X上的縮放效果，呈金字塔狀(確切地說是臺階狀)地變小。其中，最下側(cè)的斷層像頂gl’的像素尺寸為原像素尺寸且為正方形，但是，對于位于上側(cè)的斷層像頂g2’、Mg3’?mgN’，其斷層面的位置越朝上側(cè)(Y軸方向)前進，越呈現(xiàn)為更狹窄的長方形。由此，所有的斷層像頂81’、頂82’、邋3’"_頂#’各自的像素數(shù)相同。并且，在斷層像mgl’、Mg2’、Mg3’"_mgN’的數(shù)據(jù)之間，位于這些像數(shù)據(jù)中心的各像素在Xz面上的位置是一致的。
[0135]接下來，邊緣檢測電路61從顯示用緩沖器59中讀取出三維圖像HfeD的數(shù)據(jù)，并對各斷層像的每個像素執(zhí)行索貝爾過濾。如圖13模式化地示出的那樣，該索貝爾過濾為:在掃描方向上對以各像素值Pi為中心的一維排列的多個像素Pout(斜線部)的值計算空間一次微分，并對每個像素計算該空間一次微分值(索貝爾值)，以作為邊緣信息。由此，能夠檢測出在各斷層像頂砂’中像素值發(fā)生變化的部位、即映入該斷層像頂砂’中的對象OB的區(qū)域邊緣(輪廓)。
[0136]此外，該索貝爾過濾可以是二維的過濾或索貝爾過濾與其他過濾的組合。進一步，在該邊緣檢測中，也可以使用索貝爾過濾以外的邊緣檢測電路，例如一維的MAX-MIN過濾以及普里威特(Prewitt)過濾，或者這些過濾與其他過濾的組合。
[0137]該邊緣檢測電路61的輸出、即索貝爾值(空間一次微分值:邊緣信息)依次被發(fā)送到合成編輯電路62。
[0138]該合成編輯電路62構(gòu)成為，將輸入的索貝爾值映射到上述斷層像頂81’、頂82’、IMg3’-_IMgN’各自的像素位置，從而合成出堆積有多個二維數(shù)據(jù)群的索貝爾值的三維分布數(shù)據(jù)。具體而言，該合成編輯電路62的第一電路62A構(gòu)成為，根據(jù)如圖14(A)所示的斷層像IMgi MMg2 \ IMg3 ’…MgN ’制作出如圖14(B)所示的以索貝爾值為像素值的二維的圖像SB1、SB2、"_SBn。
[0139]進一步，該合成編輯電路62的第二電路62B構(gòu)成為，虛擬地堆積這些二維的圖像SB1、SB2、…SBn，從而制作出如圖15 (A)模式化地示出的那樣的以索貝爾值為像素值的三維分布SB3D。與模擬出對象空間的地址相對應地將該三維分布SB3d的數(shù)據(jù)三維地存儲在合成編輯電路62的存儲空間中。以固定周期將該索貝爾值的三維分布SB3d輸出至三維(3D)數(shù)據(jù)輸出電路69。
[0140]與通過圖12所說明的內(nèi)容相同的方式，在如該圖15模式化地示出的那樣的以索貝爾值作為像素值的三維分布SB3d中，即使斷層面的位置(Y軸方向的位置)發(fā)生變化，各像素在掃描方向(Z軸方向)上的尺寸也是相同的。但是，在與掃描方向垂直的方向(X軸方向)上，斷層面的位置越往上越小。由此，對每個斷層面固定地設定縱向和橫向的像素數(shù)。
[0141]接下來，參照圖15(B)、圖15(C)說明本實施方式中特有的校正處理。如圖3所示，本實施方式中，將檢測器41相對于掃描方向傾斜α° (例如14.036±0.5° )配置，并且從可大致視為點的管焦點F以扇形角β照射X射線。
[0142]依據(jù)圖15(B)的模型來說明該幾何學配置關(guān)系。在圖15(B)中，設
[0143]D為X射線管-檢測器之間的高度，
[0144]Di為檢測器-斷層面i之間的高度，
[0145]L為檢測器的掃描方向的中心Od與重建圖像的中心的偏離距離
[0146]S為在斷層面位于檢測器面的位置時的偏離距離L中，因檢測器傾斜配置而引起的從直角坐標系偏離的偏離距離，
[0147]Si為在高度Di的斷層面上的偏離距離L中，因檢測器傾斜配置而引起的從直角坐標系偏離的偏離距離，
[0148]S = LXtanl4.036°，
[0149]Si = SX (D-Di)/D。
[0150]由此可知，在檢測器41的面上的中心0d，不存在X射線照射的“歪扭(或扭曲)，但是，在除此以外的位置，X射線照射發(fā)生歪扭。該歪扭量( = S-Si)隨著斷層面的高度Di升高而增大。這是因為，上述的各種處理是在相當于檢測器面的斷層面中以使歪扭=0的方式進行了校準處理。
[0151]因此，對于高度為Di的斷層面的距離為L的位置的像素，合成編輯電路62的第三電路62C進行如下的“歪扭校正”:對每個斷層面，沿掃描方向移位歪扭量S-Si ο即，合成編輯電路62使如圖15(A)所示那樣制成的以索貝爾值為像素值的三維分布SB3d的像素，對于每個斷層面且對于每個像素，向歪扭校正方向(與掃描方向相同)移位上述的歪扭校正量(Ssk = S-Si)。
[0152]由此，如圖15(C)所示，制成進行了歪扭校正的、以索貝爾值為像素值的三維分布SB3D。沿Y軸方向觀察圖15(C)時，相當于檢測器面的位置的最下層的斷層像頂gl’呈沿著XZ面直角系的長方形(Z軸=長方形的中心軸)。但是，由第二層、第三層、…第N層的斷層像頂82’、頂83’、‘"頂砂’的示意圖可知，在￥軸方向上，隨著從該斷層面頂81’升高，歪扭校正量Ssk從Ssk = O開始逐漸增大(參照圖10(C)中的Ssk = S1JwSn-^Sn)。因此，從Y軸方向觀察第二層以后的斷層像時，呈現(xiàn)出隨著增高而向掃描方向傾斜的平行四邊形，并且越向上層前進該平行四邊形的扭曲程度越大。
[0153]此外，在合成編輯電路62中，可以在制作圖15(A)所示的三維分布SB3d的數(shù)據(jù)時一起執(zhí)行該歪扭校正。另外，在與掃描方向垂直的方向的掃描區(qū)域?qū)挾容^狹窄的情況下或者檢查對象物比較薄的情況下，可以省略該歪扭校正，但是，從確保模糊校正精度的觀點來看，優(yōu)選為執(zhí)行該歪扭校正。
[0154]進一步，該合成編輯電路62的第四電路62D構(gòu)成為，如圖15(C)所示，如視線Ea所示那樣地從相當于檢測器41的面的最下層斷層像Blgl’的各像素的中心位置沿著朝向X射線管31的管焦點F的傾斜方向搜索歪扭校正后的三維分布SB3d的數(shù)據(jù)，并搜索出位于該視線Ea上的索貝爾值的最大值(或者極大值)。此時，視線Ea越朝管焦點F方向前進，像素尺寸越小(與掃描方向垂直的方向的尺寸越小)。因此，有必要通過相同的像素尺寸來搜索索貝爾值，所以，對于檢測器面(即最下層的斷層面)上側(cè)的斷層面的像素，通過亞像素法等確保相同的像素尺寸，并進行像素值、即索貝爾值的端搜索。在該搜索中，由于視線Ea是傾斜延伸的，因此，在各斷層面的位置，只要通過模糊度的差異對相同的對象物進行判斷并確定出最大值(或者極大值)即可。沿著該傾斜視線Ea進行的索貝爾值的搜索，與X射線的具有扇形角β的傾斜照射視野一致。因此，索貝爾值的搜索精度變得更高。
[0155]此外，該索貝爾值的搜索也可以是，從最下層的斷層像頂gl’的各像素的中心位置沿著朝高度方向Y(即垂直地)延伸的視線Eb(參照圖15(C))搜索位于該視線Eb上的索貝爾值的最大值(或者極大值)。
[0156]例如如圖16所示，作為該搜索的結(jié)果，對每個視線Ea(Eb)即對象空間中的檢測器41的每個像素求出索貝爾值的各種特性曲線。在圖16的特性曲線中，橫軸表示索貝爾值，縱軸表示高度方向的位置即斷層面的位置。以固定周期將該特性曲線數(shù)據(jù)輸出至邊緣信息指標化電路70。
[0157]進一步，該合成編輯電路62的第五電路62E在上述索貝爾值的搜索結(jié)果中，以像素為單位確定出呈現(xiàn)索貝爾值的最大值(或者極大值)的斷層像在高度方向上的位置、即斷層面的位置。在該確定處理中，優(yōu)選為不僅考慮索貝爾值的最大值(或者極大值)，還考慮各像素的索貝爾值本身及其波動，由此確定出斷層面的位置。該確定信息也以固定周期被輸出至第一圖像制作電路63、第二圖像制作電路65以及邊緣信息指標化電路70。
[0158]上述邊緣信息指標化電路70將輸入的特性曲線數(shù)據(jù)以像素為單位分類成預定的多種模式。在該例子中，第一模式為在某個像素的位置上索貝爾值的峰值為一個的模式。第二模式為在某個像素的位置上索貝爾值的峰值為多個的模式。第三模式為在某個像素的位置上對于索貝爾值的變化無法識別出特定的峰值的模式。例如，當設想存在有可能位于對象OB中的異物時，第一模式例如表示該像素是存在異物的像素的可能性，第二模式表示該像素是在高度方向Y上異物和檢查對象重疊投影的像素的可能性或者是在高度方向Y上異物之間重疊投影的像素的可能性，第三模式表示既沒有異物混入也不是檢查對象物的邊緣的可能性較大、即不感興趣的區(qū)域。
[0159]此外，特性曲線的這些模式是在傾斜方向(或者垂直方向)上搜索索貝爾值，并使作為該搜索結(jié)果而獲得的曲線平滑化，再進行閾值處理等，從而分類出來的。
[0160]該邊緣信息指標化電路70通過2比特的指標來表示分類后的特性曲線數(shù)據(jù)。例如，特性曲線數(shù)據(jù)屬于第一模式時，分配比特“00”，屬于第二模式時分配“01”，屬于第三模式時分配“10”，從而對每個像素使索貝爾值的特性曲線指標化。以固定周期將該指標化的每個像素的2比特的分配數(shù)據(jù)發(fā)送到數(shù)據(jù)選擇器67。
[0161]本實施方式的一個目的在于減少從檢測裝置向計算機23發(fā)送的信息量，即進行高速檢測。因此，發(fā)送該指標化數(shù)據(jù)的處理方式的速度遠高于直接輸出索貝爾值的特性曲線數(shù)據(jù)的處理方式。
[0162]另一方面，對于每個像素，將用于指定應當從哪個斷層像中取得構(gòu)成該像素的像素值的信息輸入到第一圖像制作電路63中。因此，該第一圖像制作電路63根據(jù)該指定信息和上述斷層像Mgi’、Mg2’、Mg3’、…頂#’的像素數(shù)據(jù)制作出一張合成平面像Mall。該第一圖像制作電路63也與其他電路一樣，通過FPGA制成。
[0163]具體而言，對于通過指定信息指定的像素，該第一圖像制作電路63分別從上述多個斷層像IMgi，、IMg2，、IMg3’、…IMgN’之中的被指定的斷層像中選擇出位置上與該指定像素對應的像素，并取得其像素值。對全部的像素分別執(zhí)行該處理。將這樣取得的全部像素合成為一張合成平面像IMaix。
[0164]利用圖14(B)的例子對此進行如下說明。在索貝爾值SB1、SB2、…SBn之中，在上側(cè)幀的索貝爾值SBn中，圓形符號的像素部分在高度方向Y上具有極大值，即具有亮度從其周邊部開始驟變的邊緣信息，在正中間的幀的索貝爾值SB2中，箭頭符號的像素部分在高度方向Y上具有極大值。進一步，在下側(cè)幀的索貝爾值SBi中不存在極大值。此外，可以替代極大值而使用最大值。
[0165]因此，第一圖像制作電路63僅選擇滿足如下條件的所述多個斷層像中的像素來制作如圖14(C)所示的一張合成平面像(二維圖像HMall，即所述條件為:正方形且具有呈現(xiàn)出最大像素尺寸的下側(cè)幀的索貝爾值SB1，并且其每個像素在位置上與沿著視線Eb(或者Ea)呈現(xiàn)出索貝爾值的極大值的像素相對應。即，在該平面像頂all中映入合成圖像頂?shù)?、頂砂的圖像部分(圓形符號和箭頭符號兩者)，該合成圖像IMg2、IMgN的圖像部分(圓形符號和箭頭符號兩者)與在兩個幀的索貝爾值SBn、SB2 二者中表示極大值(邊緣)的像素相對應。換言之，該合成平面像頂all為如下的二維圖像:從高度方向Y的上側(cè)向下側(cè)傾斜(或者垂直)透視對象OB時，將與存在于對象OB(食品)內(nèi)的對象整體的介質(zhì)相比X射線透過率相對不同的物質(zhì)AR(即異物可能性較大的物質(zhì))以最佳焦點化的方式投影在XZ面上而形成的二維圖像。
[0166]該平面像作為透視像發(fā)揮其功能，因此，即使在一個或多個異物AR三維地位于對象OB內(nèi)時，也能夠作為投影有該異物AR的平面像而觀測到該異物AR。在圖17中表示出了該狀態(tài)。在圖17(A)的例子的情況下，三維對象OB中存在兩個異物AR，這兩個異物AR被表示為圓形符號以及箭頭符號。雖然這兩個異物AR在傳送帶寬度方向X上的位置不同，在掃描方向Z上的位置也不同，但是，所有的部位均被最佳焦點化地描繪在一張平面像中。即，該合成平面像IMa^是其所有的像素均被最佳焦點化的圖像，換言之，是可稱作全像素聚焦圖像的圖像。
[0167]如此制作出來的合成平面像Mall的數(shù)據(jù)在下一段的第一去噪電路64中接受去噪處理，并通過數(shù)據(jù)選擇器67以及圖像輸出端口 68以固定周期發(fā)送給計算機23。
[0168]另一方面，發(fā)送到三維數(shù)據(jù)輸出電路69的三維索貝爾值IM3d也通過數(shù)據(jù)選擇器67以及圖像輸出端口 68被發(fā)送給計算機23。
[0169]根據(jù)數(shù)據(jù)選擇器67的設定狀況，能夠通過圖像輸出端口68將合成平面像IMall的數(shù)據(jù)、索貝爾值的指標化數(shù)據(jù)以及三維索貝爾值BfeD中的任意一個或者兩個或者全部發(fā)送給計算機23。
[0170]計算機23在其顯示器23B上以適當?shù)姆绞斤@示出這些合成平面像頂all以及三維圖像IM3D，并向操作者以可視化的方式提供用于判定異物的圖像信息。例如，通過適當?shù)奶幚戆l(fā)現(xiàn)存在異物時，計算機23可以執(zhí)行在顯示器23B上告知存在異物的處理(相當于告知單元)。
[0171]另外，這些合成平面像頂ALL以及三維圖像IM3D的數(shù)據(jù)被存儲保管在計算機23的存儲器23M(存儲單元)中。因此，操作者能夠隨時讀取出這些圖像數(shù)據(jù)，并執(zhí)行適當?shù)暮罄m(xù)處理，以仔細觀察感興趣區(qū)域。例如，可進行如下處理:在三維索貝爾值頂3D中設定ROI，從而僅放大特定區(qū)域以詳細表示該特定區(qū)域，或者指定高度方向的特定斷層面(索貝爾值)，從而觀察異物之間或異物與檢查對象物邊緣的重疊狀況。
[0172]另一方面，為了進行對象OB的物質(zhì)確定，如前所述，物質(zhì)確認用緩沖器60從對數(shù)變換電路58接收與上述第一、第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)ro12以及ro32有關(guān)的斷層像數(shù)據(jù)IM。因此，該緩沖器60在將這些斷層像數(shù)據(jù)頂變換成適當格式后，傳遞給第二圖像制作電路65。
[0173]因此，該第二圖像制作電路65與上述第一圖像制作電路63同樣地分別制作作為一張聚焦平面像的第一、第三能量區(qū)域合成平面像IM1JM3t3即，由合成編輯電路62向該第二圖像制作電路65賦予了每個像素的聚焦斷面的位置信息，因此，根據(jù)該位置信息，從由物質(zhì)確定用緩沖器60供給的、根據(jù)第一以及第三能量區(qū)域幀數(shù)據(jù)FD12以及FD32重建的三維圖像中，對每個像素選擇聚焦像素，并分別制作第一、第三能量區(qū)域合成平面像、M3。制作這些第一、第三能量區(qū)域合成平面像IM1JM3的原始幀數(shù)據(jù)nh、FD3是從第一、第三能量區(qū)域Bim、Bin3中收集到的，從這一點上來說，這些第一、第三能量區(qū)域合成平面像IM1、頂3與根據(jù)整個能量區(qū)域制作的合成平面像IMall不同。因此，可與上述圖14(C)同樣地模式化地表示出第一、第三能量區(qū)域合成平面像頂1、IM2。
[0174]這樣，在本實施方式中，第一、第三能量區(qū)域合成平面像IM1JM3也是由與合成平面像IMall相同的三維位置的像素構(gòu)成的平面像，而該合成平面像IMall是根據(jù)整個能量區(qū)域制作的。可將第一、第三能量區(qū)域合成平面像M1JM3視為是用于物質(zhì)確認的、代表檢查對象OB的代表像。
[0175]另外，從計算機23向該第二圖像制作電路65賦予表示“是否檢測異物、是否確認物質(zhì)或者是否進行這兩者”的攝影模式信息。因此，第二圖像制作電路65可以根據(jù)其中的任意一者或兩者制作(或者準備)選擇性的圖像。
[0176]由該第二圖像制作電路65制作(或者準備)的第一、第三能量區(qū)域合成平面像Bt、頂3在第二去噪電路中接受指定的去噪處理后，與上述處理方式同樣地，通過數(shù)據(jù)選擇器67、圖像輸出端口 68發(fā)送給計算機23。
[0177]因此，計算機23能夠通過顯示器23B與上述處理方式同樣地以可視化的方式提供用于判定異物的第一、第三能量區(qū)域合成平面像頂!、頂3。另外，計算機23還能夠執(zhí)行如下處理:根據(jù)規(guī)定的算法，與提供有關(guān)異物判定的圖像信息同時或者單獨地確認形成對象OB的一個或多個物質(zhì)的種類和/或性狀。該物質(zhì)確認的機制，可通過例如日本特開2013-119000獲知。
[0178]此外，在上述圖6的電路結(jié)構(gòu)中，電路要素51?56構(gòu)成幀數(shù)據(jù)制作單元，重建電路57相當于斷層像制作單元。其中，圖像縮小電路56作為斷層面數(shù)據(jù)制作單元以及位置對齊單元發(fā)揮其功能。
[0179]另外，電路要素58?61以及電路要素62的一部分構(gòu)成邊緣信息制作單元。進一步，電路要素62的一部分以及電路要素63構(gòu)成合成圖像制作單元。進一步，電路要素64、67以及68構(gòu)成邊緣信息輸出單元。
[0180]另外，顯示用緩沖器59作為編輯單元以及截取單元發(fā)揮其功能。進一步，邊緣信息指標化電路70作為邊緣信息指標化單元發(fā)揮其功能，并作為模式化單元、指標計算單元以及指標輸出單元發(fā)揮其功能。另外，計算機23在功能上發(fā)揮合成圖像提示單元、指定單元以及告知單元的功能。
[0181]這樣，根據(jù)本實施方式所涉及的X射線檢查裝置20，根據(jù)X射線檢測器42檢測出的X射線透過數(shù)據(jù)，在對象空間、即放置對象物的檢查空間SP中，在高度方向上指定的范圍內(nèi)制作多個斷層像。在考慮了從X射線管31照射的X射線在檢查空間中的擴散程度和從X射線檢測器42的檢測面起始的高度差異的基礎(chǔ)上制作該多個斷層像。分別從該多個斷層像、即從對象空間中三維地提取出因存在異物等物質(zhì)而呈現(xiàn)出的邊緣信息，并根據(jù)該提取信息有取舍地選擇斷層像的像素并進行合成，從而制作出一張合成平面像ΙΜα^，而不拘泥于該斷層位置。該合成平面像IMa^表示出了各斷層像的最佳焦點部分的集合，因此也良好地描繪出了對象物中的異物。因此，能夠以更高的分辨率描繪出存在于對象物中的異物(與對象物的組成不同的物質(zhì))，能夠更容易且可靠性更高地檢測出存在該異物。
[0182]進一步，根據(jù)本實施方式，從X射線檢查裝置22，具體而言是從作為檢測側(cè)的一個要素的數(shù)據(jù)處理電路42還輸出三維索貝爾值nfeD。因此，能夠通過后續(xù)處理將該三維索貝爾值IM3d作為檢測異物的輔助顯示數(shù)據(jù)、或者根據(jù)情況作為主要的處理數(shù)據(jù)加以利用。例如，可如下地利用:在上述合成平面像Mall中，使用三維索貝爾值HfeD來確認感興趣的部分等。
[0183]另外，根據(jù)本實施方式，當從X射線檢查裝置22向計算機23傳遞檢測數(shù)據(jù)時，已經(jīng)在檢測裝置側(cè)制作出了異物檢查所需的圖像、即合成平面像頂ALL、三維索貝爾值IM3D和/或索貝爾值的指標化數(shù)據(jù)(表示模式種類的數(shù)據(jù))。即，僅將已經(jīng)預加工的數(shù)據(jù)以固定間隔發(fā)送給計算機23。因此，雖然會發(fā)生延遲，但是可從檢測器41以固定周期高速地輸出已進行上述各種加工的數(shù)據(jù)，其中，延遲的時間是通過數(shù)據(jù)處理(例如由FPGA(Field ProgrammabIeGate Array)構(gòu)成的硬件電路)電路進行管道(pipeline)處理所需的時間。因此，即使在檢測器41以高幀率檢測出幀數(shù)據(jù)的情況下，也能夠減少從X射線檢測裝置22向計算機23發(fā)送的數(shù)據(jù)傳送量，檢測器41能夠進行高速的檢測動作。
[0184][第三實施方式]
[0185]接下來，參照圖18至圖21，說明第三實施方式所涉及的X射線檢查裝置，該第三實施方式所涉及的X射線檢查裝置對上述第二實施方式所涉及的X射線檢查裝置20進行了進一步擴展。此外，在該實施方式中，對與第二實施方式中記載的構(gòu)成要素相同或等同的構(gòu)成要素賦予相同的附圖標記，并對其省略或簡化說明。
[0186]該X射線檢查裝置80具備上述一個X射線管31以及三個X射線檢測裝置22A、22B、22C，該三個X射線檢測裝置22A、22B、22C沿著搬送傳送帶48、即在掃描方向Z上分散配置。如前所述，這三個X射線檢測裝置22A、22B、22C分別一體地具備X射線檢測器41和數(shù)據(jù)處理電路42，并且，如圖18以及圖19所示，相對于傳送帶寬度方向X大致傾斜14.036±0.5°的角度且相互平行地配置。
[0187]從X射線管31照射的X射線通過具有三個開口的準直器33A(構(gòu)為線束分割單元)生成三個X射線束XB1、XB2、XB3。這三個X射線束XB1、XB2、XB3的輪廓與沿著掃描方向Z被分散照射的三個X射線檢測器41的X射線入射窗的邊緣準確地吻合。
[0188]現(xiàn)在，如圖所示，將三個X射線檢測裝置22A、22B、22C(即X射線檢測器41)的掃描方向Z的中心位置之間的間隔設為D12、D23，將斷層面A高度的線束中心位置之間的間隔設為LA12、LA23，將斷層面B(低于斷層面A)高度的線束中心位置之間的間隔設為LB12、LB23。進一步，將X射線管焦點F與搬送傳送帶48之間的高度設為Hd，將斷層面A、B與X射線管焦點F之間的高度設為Ha、Hb。進一步，將斷層面B高度上的重建圖像相加時的移位量LB12、LB23表達為
[0189]Lbi2 = Di2XHb/Hd
[0190]Lb23 = D23 XHb/Hd。
[0191]同樣地，將斷層面A高度上的重建圖像相加時的移位量LA12、LA23表達為
[0192]Lai2 = Di2XHa/Hd
[0193]La23 = D23XHa/Hd。
[0194]因此，對于以與第二實施方式同樣的方式分別通過三個X射線檢測裝置22A、22B、22C檢測出的幀數(shù)據(jù)，以檢測系統(tǒng)為單位進行重建后，按照由上述移位量LA12、LA23、LB12、LB23例示出的移位量彼此相加。圖20(A)、圖20(B)中模式化地示出了該相加的狀態(tài)。在該例子中，斷層面A位于斷層面B的上側(cè)，因此相應地用于相加的移位量較小。
[0195]這樣，在分散配置多個例如三個乂射線檢測裝置224、228、22(:、即三個乂射線檢測器41的結(jié)構(gòu)中，圖6中示出的數(shù)據(jù)處理電路42需要用于加法運算的電路。在圖6的結(jié)構(gòu)中，從信號收集電路51至重建電路57的電路系統(tǒng)需要與該三個檢測器41對應并分別獨立設置。因此，只要在三個電路系統(tǒng)90A?90C的三個重建電路57與一個對數(shù)變換電路58之間設置加法電路91即可，對于每個斷層面的高度，該加法電路91按照上述的移位量對三個重建圖像的每個像素進行加法運算。該結(jié)構(gòu)表示在圖21中。除此以外的電路結(jié)構(gòu)與圖6中示出結(jié)構(gòu)的相同。
[0196]這樣，根據(jù)本實施方式，通過在掃描方向上分散地配置多個X射線檢測器，與不分散配置而簡單地拓寬照射視野的情況相比，既能夠減少向?qū)ο驩B照射的X射線量，又能夠進行廣角的X射線攝影。因此，在對象具有厚度、即搬送傳送帶上的高度較大時，也能覆蓋其整個區(qū)域，并可獲得發(fā)揮出斷層效果的斷層像，能夠獲得分辨率較高的索貝爾值。除此之外，還能夠發(fā)揮通過第二實施方式獲得的各種作用效果。
[0197]此外，本發(fā)明并非限定于上述實施方式的結(jié)構(gòu)，能夠進一步擴展為各種實施方式加以實施。
[0198]在上述實施方式中，說明了對象物OB移動的方向(軌跡)、即掃描方向Z為直線的例子。但是，在使配對的檢測器和X射線管運動時，該方向(軌跡)未必一定要為直線，也可以是曲線。當掃描方向為曲線時，被掃描的面將變?yōu)榍?。圖22中示出了描繪出這樣的曲線的掃描方向(軌跡)的例子。在圖22(A)的例子中，用于搬送檢查對象OB的傳送帶等的搬送單元95沿著某個平面彎曲，在X射線管31與X射線檢測裝置22之間，該掃描方向Zl描繪出曲線。另夕卜，在圖22(B)的例子中，其搬送單元95在三維空間中彎曲，同樣地描繪出三維曲線Z2。即使在這樣的情況下，只要沿著與該彎曲的傳送帶面平行的彎曲面制作出待制作的斷層像即可。由此，例如還能夠?qū)⒈景l(fā)明作為用于醫(yī)療的牙科用全景攝影裝置來加以實施，或者在用于搬送物品的帶式輸送機中，作為位于彎曲的曲面路徑中的非破壞性X射線檢查裝置來加以實施。
[0199]另外，在上述實施方式中，通過第一圖像制作電路63合成如圖14(C)所示的一個平面上的合成圖像時，是從之前重建的多個斷層像頂gi’ JMg2’、Hlg3’、…頂gN’中選擇像素并進行合成。但是，作為該像素的選擇合成對象的斷層像并非限定于這種預先指定的斷層面、即已有斷層面的圖像。例如，可以是預先指定的斷層面之中的位于彼此相鄰的兩個斷層面之間的斷層面。對于位于該彼此相鄰的兩個斷層面之間的斷層面，根據(jù)其位置，能夠基于其兩側(cè)的兩張或兩張以上的斷層像通過插值處理進行制作。因此，只要在圖6的電路結(jié)構(gòu)中追加安裝如下電路即可:用于判斷與根據(jù)對象空間的高度方向(縱向)上的索貝爾值特性曲線指定的最大值(或者極大值)相當?shù)臄鄬用嫖恢檬欠窈鸵延袛鄬用娴奈恢孟喾碾娐?，以及上述校正電路。由此，即使預先指定的斷層面的數(shù)量較少，也能保持較高的空間分辨率。因此，能夠減少通過移位加法進行重建處理所需的運算量。
[0200]此外，在上述實施方式中，當只想獲得如圖14(C)所示的一個平面上的合成圖像時，能夠簡單地取代邊緣檢測電路61、合成編輯電路62以及第一圖像制作電路63，而采用MIP(最大值投影法)處理電路。
[0201]附圖標記說明
[0202]10、20、80:X射線檢查裝置
[0203]12、21:X射線發(fā)生器
[0204]11、31:X 射線管
[0205]18、22:X射線檢測裝置
[0206]13、41:X射線檢測器
[0207]14:幀數(shù)據(jù)制作部
[0208]15:斷層像制作部
[0209]16:邊緣信息制作部
[0210]16A:邊緣信息輸出部
[0211]16B:邊緣信息指標化部
[0212]17:合成圖像制作部
[0213]17A:合成圖像提示部
[0214]22:數(shù)據(jù)處理電路(LSI電路)
[0215]23:計算機
[0216]33、33A:準直器
[0217]42:數(shù)據(jù)處理電路
[0218]51?70:數(shù)據(jù)處理電路中包含的電路要素
[0219]0B:檢查對象
【主權(quán)項】
1.一種X射線檢查裝置，具備: X射線發(fā)生器，該X射線發(fā)生器具備X射線管，該X射線管具有點狀的管焦點并用于從該管焦點產(chǎn)生X射線束，所述X射線束在掃描方向上具有規(guī)定的錐角并且在沿著與該掃描方向垂直的斷面的方向上具有規(guī)定的扇形角；以及 X射線檢測器，該X射線檢測器具備二維排列的多個像素，用于每隔固定時間輸出表示入射到該各像素上的所述X射線束的強度的幀數(shù)據(jù)； 使檢查對象位于將所述X射線管和所述X射線檢測器相互對置且相互分離配置時形成的該X射線管與該X射線檢測器之間的空間中， 一邊使配對的該X射線管以及該X射線檢測器或者該檢查對象中的任意一方相對于另一方沿所述掃描方向相對移動，一邊收集從該X射線檢測器輸出的所述幀數(shù)據(jù)，并使用該幀數(shù)據(jù)對所述檢查對象的內(nèi)部狀態(tài)進行檢查， 其特征在于，具備: 幀數(shù)據(jù)制作單元(52?56)，基于所述幀數(shù)據(jù)，根據(jù)所述X射線的扇形的擴散程度和多個斷層面在垂直方向上的位置差異，制作該多個斷層面各自的幀數(shù)據(jù)，其中，所述多個斷層面是在所述X射線管與所述X射線檢測器之間的所述空間中設定的，且與所述掃描方向平行； 斷層像制作單元(57)，對通過該幀數(shù)據(jù)制作單元制作的所述多個斷層面的幀數(shù)據(jù)應用X射線分層攝影法，以制作該多個斷層面的斷層像； 邊緣信息制作單元(58?62)，對該多個斷層像各自的每個像素計算邊緣信息，并制作該邊緣信息的三維分布，其中，所述邊緣信息與通過該斷層像制作單元制作的所述多個斷層像各自之中的像素值的變化相對應;以及 合成圖像制作單元(62?63)，對每個所述像素在貫穿該多個斷層面的方向上搜索通過該邊緣信息計算單元計算出的所述三維分布的邊緣信息，并檢測出表示該邊緣信息的最大值的像素，并且僅選擇在位置上與該檢測出的像素相對應的所述多個斷層像或者根據(jù)該多個斷層像制作的斷層像的像素并進行合成，從而制作一張合成圖像。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述貫穿多個斷層面的方向是從所述檢測器的多個像素分別觀察所述X射線管的管焦點的方向，或者是從所述檢測器的多個像素分別與該各像素的面垂直地朝向上側(cè)的方向。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 具備合成圖像提示單元(23)，用于以可視化的方式提示所述合成圖像制作單元制作的所述一張合成圖像。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 具備邊緣信息輸出單元(64、67、68)，用于輸出所述邊緣信息的三維分布數(shù)據(jù)。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 具備指定單元(23)，該指定單元能夠指定所述多個斷層像在所述垂直方向上占據(jù)的范圍。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 作為所述范圍，所述指定單元指定所述多個斷層面的厚度和張數(shù)。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述幀數(shù)據(jù)制作單元(52?56)具備斷層面數(shù)據(jù)制作單元(56)，該斷層面數(shù)據(jù)制作單元對所述幀數(shù)據(jù)的所述各像素乘以反映所述垂直方向上的所述多個斷層面的位置差異的因子，從而縮小該各像素的尺寸，并以僅在掃描方向上維持具有該縮小后的尺寸的像素的、所述幀數(shù)據(jù)的尺寸的狀態(tài)下，對每個該斷層面制作將該幀數(shù)據(jù)的各像素置換為具有與希望分辨率相對應的尺寸的像素的幀數(shù)據(jù)。8.權(quán)利要求7所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述與希望分辨率相對應的像素尺寸是形成所述檢測器的檢測面的像素的尺寸或者縮小像素尺寸，其中，所述縮小像素尺寸是對所述幀數(shù)據(jù)的所述各像素乘以反映所述多個斷層面的高度方向上的位置差異的因子從而使該各像素的尺寸縮小后得到的像素的尺寸。9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述斷層像制作單元(57)對通過該斷層面數(shù)據(jù)制作單元制作的所述多個斷層面各自的所述幀數(shù)據(jù)實施基于所述X射線分層攝影法的重建處理，從而分別重建該幀數(shù)據(jù)尺寸的多個斷層像。10.根據(jù)權(quán)利要求7至9中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述幀數(shù)據(jù)制作單元(52?56)中包括位置對齊單元(56)，該位置對齊單元以與所述檢測器的檢測面的多個像素群的中心像素一致的方式，將所述多個斷層像各自的所述多個像素的尺寸分別置換為所述希望尺寸。11.根據(jù)權(quán)利要求7至10中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 將所述原像素在所述掃描方向上的寬度設為W，將從所述X射線檢測器至所述X射線管的焦點的距離設為Hd，將所述多個斷層面各自的位置設為Ho，并將該多個斷層面各自的所述斷層像的所述各像素在所述掃描方向上的寬度設為Wo時，所述因子通過Wo = WX (Ho/Hd)表達。12.根據(jù)權(quán)利要求9至11中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述重建處理是對所述幀數(shù)據(jù)進行的基于移位量的移位加法處理，其中，所述移位量與所述掃描方向上的所述相對移動的速度相對應。13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述邊緣信息制作單元(58?62)構(gòu)成為，對所述多個斷層像實施邊緣強調(diào)處理，從而計算所述邊緣信息。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述邊緣強調(diào)處理為，對所述多個斷層像各自的所述像素的值實施一維或者二維的索貝爾過濾處理，并將其索貝爾值提取出來以作為所述邊緣信息。15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 具備告知單元(23)，該告知單元將所述邊緣信息作為存在于所述檢查對象中的異物進行捕捉，并告知存在該異物。16.根據(jù)權(quán)利要求1至15中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述X射線檢測器的至少所述二維排列的多個像素相對于所述掃描方向傾斜配置， 所述幀數(shù)據(jù)制作單元(52?56)具備垂直軸變換單元，該垂直軸變換單元將從所述X射線檢測器輸出的所述幀數(shù)據(jù)的各像素的朝向，在維持所述傾斜狀態(tài)的狀態(tài)下變換為以所述掃描方向作為一個軸的直角坐標系的像素群。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述傾斜配置的角度為大約14.036 ± 2.5度。18.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述邊緣信息制作單元(58?62)具備編輯單元(59)，該編輯單元分別與所述多個斷層面相對應地，以在所述垂直方向上具有同一高度位置的斷層面為單位，將多個通過所述斷層像制作單元制作的所述斷層像相互結(jié)合，并編輯成規(guī)定尺寸的平行四邊形的斷層像。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述邊緣信息制作單元(58?62)進一步具備截取單元(59)，用于從通過所述編輯單元編輯的所述平行四邊形的斷層像中，截取分別由具有希望尺寸的多個矩形的圖像群構(gòu)成的圖像，以分別作為所述多個斷層像。20.根據(jù)權(quán)利要求1至19中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 具備線束分割單元(33A)，用于將從所述X射線發(fā)生器產(chǎn)生的所述X射線束分割成所述掃描方向上的多個所述X射線束， 所述X射線檢測器由在所述掃描方向上分散配置的多個X射線檢測器構(gòu)成， 分別對應所述多個X射線檢測器而并列地具備多個配對的所述幀數(shù)據(jù)制作單元和所述斷層像制作單元， 具備合成斷層像制作單元(91)，將分別通過所述多個斷層像制作單元制作的所述多個斷層像相互結(jié)合，從而對所述垂直方向上的每個所述斷層面的位置制作一個合成的斷層像， 將通過該合成斷層像制作單元制作的所述合成斷層像分別作為所述多個斷層像傳遞給所述邊緣信息制作單元。21.根據(jù)權(quán)利要求1至20中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述X射線檢測器是對所述X射線的光子進行計數(shù)的光子計數(shù)型檢測器。22.根據(jù)權(quán)利要求1至21中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 具備邊緣信息指標化單元(70)，用于根據(jù)所述邊緣信息的三維分布，使構(gòu)成該三維分布的該邊緣信息的特性曲線指標化。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述邊緣信息指標化單元具備: 模式化單元，對每個所述像素，沿著與所述多個斷層面垂直的方向，以貫穿該多個斷層面的方式搜索所述三維分布的邊緣信息，并將該邊緣信息的該垂直方向上的所述特性曲線分類成預定的多種模式； 指標計算單元，對每個所述像素計算數(shù)字量的指標，所述數(shù)字量的指標用于表示通過該模式化單元分類的所述模式；以及 指標輸出單元，用于輸出通過該指標計算單元計算的每個所述像素的指標。24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述多種模式包括:所述特性曲線中存在一個峰值的第一模式;所述特性曲線中存在多個峰值的第二模式；以及所述特性曲線中不存在可稱為峰值的變化的第三模式。25.根據(jù)權(quán)利要求22至24中任意一項所述的X射線檢查裝置，其特征在于， 所述幀數(shù)據(jù)制作單元、所述斷層像制作單元、所述邊緣信息制作單元、所述合成圖像制作單元以及所述邊緣信息指標化單元通過LSI電路一體地制造于所述檢測器的輸出段。26.一種X射線檢查方法，該X射線檢查方法通過X射線檢查裝置實施，所述X射線檢查裝置具備: X射線發(fā)生器，該X射線發(fā)生器具備X射線管，該X射線管具有點狀的管焦點并用于從該管焦點產(chǎn)生X射線束，所述X射線束在掃描方向上具有規(guī)定的錐角并且在沿著與該掃描方向垂直的斷面的方向上具有規(guī)定的扇形角；以及 X射線檢測器，該X射線檢測器具備二維排列的多個像素，用于每隔固定時間輸出表示入射到該各像素上的所述X射線束的強度的幀數(shù)據(jù)； 所述X射線檢查裝置使檢查對象位于將所述X射線管和所述X射線檢測器相互對置且相互分離配置時形成的該X射線管與該X射線檢測器之間的空間中， 一邊使配對的該X射線管以及該X射線檢測器或者該檢查對象中的任意一方相對于另一方沿所述掃描方向相對移動，一邊收集從該X射線檢測器輸出的所述幀數(shù)據(jù)，并使用該幀數(shù)據(jù)對所述檢查對象的內(nèi)部狀態(tài)進行檢查， 其特征在于， 基于所述幀數(shù)據(jù)，根據(jù)所述X射線的扇形的擴散程度和多個斷層面在垂直方向上的位置差異，制作該多個斷層面各自的斷層像的幀數(shù)據(jù)，其中，所述多個斷層面是在所述X射線管與所述X射線檢測器之間的所述空間中設定的，且與所述掃描方向平行(52?56); 對該制作的所述多個斷層面的幀數(shù)據(jù)應用X射線分層攝影法，以制作該多個斷層面的斷層像(57); 對該多個斷層像各自的每個像素計算邊緣信息，并制作該邊緣信息的三維分布，其中，所述邊緣信息與該制作的所述多個斷層像各自之中的像素值的變化相對應(58?62); 對每個所述像素在貫穿該多個斷層面的方向上搜索該計算出的所述三維分布的邊緣信息，并檢測出表示該邊緣信息的最大值的像素，并且僅選擇在位置上與該檢測出的像素相對應的所述多個斷層像或者根據(jù)該多個斷層像制作的斷層像的像素并進行合成，從而制作一張合成圖像(63)。
【文檔編號】G01N23/04GK106030293SQ201580001030
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2015年1月23日
【發(fā)明人】山河勉, 山本修郎, 山本修一郎, 山崎雅志
【申請人】株式會社蛟簿