圖像獲取裝置及圖像獲取方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種圖像獲取裝置及圖像獲取方法。
【背景技術(shù)】
[0002]以前，對(duì)形成于基材上的各種圖案進(jìn)行檢查。例如，在對(duì)形成于基材上的透明電極圖案進(jìn)行檢查時(shí)，利用經(jīng)由透明配線而連接于透明電極的金屬電極進(jìn)行導(dǎo)通檢查。然而，在圖案中產(chǎn)生了缺陷的情形時(shí)，僅利用導(dǎo)通檢查無(wú)法確認(rèn)其位置或種類(lèi)，從而難以改善因該缺陷引起的良率的降低。因此，專(zhuān)利文獻(xiàn)1中提出有獲取形成于基材上的透明電極圖案的檢查圖像的裝置。專(zhuān)利文獻(xiàn)1的裝置中，求出從光照射部到拍攝區(qū)域的光軸與基材的法線形成的照射角的設(shè)定角度，將照射角設(shè)定為設(shè)定角度，且將從拍攝區(qū)域到線傳感器的光軸與法線形成的檢測(cè)角也設(shè)定為該設(shè)定角度，由此獲取對(duì)比度高的檢查圖像。此外，專(zhuān)利文獻(xiàn)2中揭示有如下方法:對(duì)基板上的抗蝕劑層進(jìn)行曝光后，使用波長(zhǎng)522nm?645nm的光對(duì)抗蝕劑層的感光部分進(jìn)行光學(xué)檢查。
[0003][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0004][專(zhuān)利文獻(xiàn)]
[0005][專(zhuān)利文獻(xiàn)1]日本專(zhuān)利特開(kāi)2012-251808號(hào)公報(bào)
[0006][專(zhuān)利文獻(xiàn)2]日本專(zhuān)利特開(kāi)2004-347913號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007][發(fā)明所要解決的問(wèn)題]
[0008]在將圖案形成于基材時(shí)，對(duì)形成有抗蝕劑層的基材進(jìn)行曝光工藝及顯影工藝，從而形成抗蝕劑層的圖案。此時(shí)，在進(jìn)行顯影工藝前，如專(zhuān)利文獻(xiàn)2所述獲取表示抗蝕劑層的感光部分的圖像，由此能夠提前判斷曝光工藝中有無(wú)異常。然而，當(dāng)專(zhuān)利文獻(xiàn)2的方法中所用的光的波長(zhǎng)522nm?645nm包含于抗蝕劑層的感光波長(zhǎng)范圍時(shí)，無(wú)法不對(duì)抗蝕劑層的非感光部分造成影響地獲取圖像。另外，存在如下有益的情況:除了表示抗蝕劑層的感光部分的圖像以外，也獲取如下圖像，所述圖像表示一部分因規(guī)定的處理而變質(zhì)的層中的變質(zhì)的部分。
[0009]本發(fā)明是鑒于所述問(wèn)題而成，其目的在于恰當(dāng)?shù)孬@取如下圖像，所述圖像表示一部分因規(guī)定的處理而變質(zhì)的層中的變質(zhì)的部分。
[0010][解決問(wèn)題的技術(shù)手段]
[0011]技術(shù)方案1所述的發(fā)明是圖像獲取裝置，其包括:支撐部，對(duì)基材進(jìn)行支撐，所述基材是以由其它材料形成于基材上的層、或包含基材自身的表面的層作為對(duì)象層，且所述對(duì)象層的一部分因規(guī)定的處理而變質(zhì)；光照射部，出射對(duì)所述對(duì)象層具有透射性的波長(zhǎng)的光；線傳感器，接收來(lái)自照射有所述光的線狀的拍攝區(qū)域的光；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使所述基材相對(duì)于所述拍攝區(qū)域沿與所述拍攝區(qū)域交叉的方向相對(duì)地移動(dòng)；以及角度變更機(jī)構(gòu)，一邊將從所述光照射部到所述拍攝區(qū)域的光軸與所述對(duì)象層的法線形成的照射角、及從所述拍攝區(qū)域到所述線傳感器的光軸與所述法線形成的檢測(cè)角維持為相等，一邊變更所述照射角及所述檢測(cè)角。
[0012]技術(shù)方案2所述的發(fā)明是根據(jù)技術(shù)方案1所述的圖像獲取裝置，其中所述對(duì)象層是利用感光性材料形成的層，且所述對(duì)象層的所述一部分因光的照射而變質(zhì)，并且從所述光照射部出射的光的波長(zhǎng)不包含于所述感光性材料的感光波長(zhǎng)范圍。
[0013]技術(shù)方案3所述的發(fā)明是根據(jù)技術(shù)方案2所述的圖像獲取裝置，其中所述對(duì)象層是利用光致抗蝕劑而形成于所述基材上的層。
[0014]技術(shù)方案4所述的發(fā)明是根據(jù)技術(shù)方案1所述的圖像獲取裝置，其中所述對(duì)象層是設(shè)于所述基材自身的光波導(dǎo)的層，且所述對(duì)象層的所述一部分因摻雜所致的其他材料的添加而變質(zhì)。
[0015]技術(shù)方案5所述的發(fā)明是圖像獲取方法，其包括如下工序:將在基材上以其他材料形成的層或是包含基材自身的表面的層作為對(duì)象層，且準(zhǔn)備使所述對(duì)象層的一部分因規(guī)定的處理而變質(zhì)所的基材時(shí)，求出從光照射部到線狀的拍攝區(qū)域的光軸與對(duì)象層的法線形成的照射角的設(shè)定角度，所述光照射部出射對(duì)所述對(duì)象層具有透射性的波長(zhǎng)的光；將所述照射角設(shè)定為所述設(shè)定角度，且將從所述拍攝區(qū)域到線傳感器的光軸與所述法線形成的檢測(cè)角也設(shè)定為所述設(shè)定角度；以及使所述基材相對(duì)于所述拍攝區(qū)域沿與所述拍攝區(qū)域交叉的方向相對(duì)地移動(dòng)而獲取圖像。
[0016]技術(shù)方案6所述的發(fā)明是根據(jù)技術(shù)方案5所述的圖像獲取方法，其中所述對(duì)象層是利用感光性材料形成的層，且所述對(duì)象層的所述一部分因光的照射而變質(zhì)，并且從所述光照射部出射的光的波長(zhǎng)不包含于所述感光性材料的感光波長(zhǎng)范圍。
[0017]技術(shù)方案7所述的發(fā)明是根據(jù)技術(shù)方案6所述的圖像獲取方法，其中所述對(duì)象層是利用光致抗蝕劑而形成于所述基材上的層。
[0018]技術(shù)方案8所述的發(fā)明是根據(jù)技術(shù)方案5所述的圖像獲取方法，其中所述對(duì)象層是設(shè)于所述基材自身的光波導(dǎo)的層，且所述對(duì)象層的所述一部分因摻雜所致的其他材料的添加而變質(zhì)。
[0019][發(fā)明的效果]
[0020]根據(jù)本發(fā)明，能夠恰當(dāng)?shù)孬@取表示對(duì)象層的變質(zhì)的部分的圖像。
【附圖說(shuō)明】
[0021]圖1是表示圖案形成系統(tǒng)的構(gòu)成的圖。
[0022]圖2是表示圖像獲取部的正視圖。
[0023]圖3是表示工藝監(jiān)視裝置的功能構(gòu)成的方塊圖。
[0024]圖4是表不形成圖案的處理的流程的圖。
[0025]圖5是表示形成圖案的處理的流程的圖。
[0026]圖6是表示基材的剖面圖。
[0027]圖7是表不獲取圖像的處理的流程的圖。
[0028]圖8是表示各波長(zhǎng)的感光圖案的對(duì)比度與照射角的關(guān)系的圖。
[0029]圖9是表不感光圖案圖像的照片。
[0030]圖10是表示圖像獲取裝置的構(gòu)成的圖。
[0031]圖11是表示基材的剖面圖。
[0032][符號(hào)的說(shuō)明]
[0033]1:圖案形成系統(tǒng)
[0034]3、3a?3d:圖像獲取部
[0035]4:工藝監(jiān)視裝置
[0036]9、9a:基材
[0037]10:計(jì)算機(jī)
[0038]11:搬送機(jī)構(gòu)
[0039]11a:移動(dòng)機(jī)構(gòu)
[0040]12:緩沖裝置
[0041]21:曝光裝置
[0042]22:顯影裝置
[0043]23:蝕刻裝置
[0044]24:抗蝕劑剝離裝置
[0045]30:圖像獲取裝置
[0046]31:光照射部
[0047]32:線傳感器
[0048]33:角度變更機(jī)構(gòu)
[0049]34:底壁
[0050]35、36:電動(dòng)機(jī)
[0051]41:缺陷檢測(cè)部
[0052]42:顯示部
[0053]90:拍攝區(qū)域
[0054]91:樹(shù)脂膜
[0055]92:透明導(dǎo)電膜
[0056]93:抗蝕劑層
[0057]94:光波導(dǎo)的層
[0058]110:搬送輥
[0059]110a:平臺(tái)
[0060]111:供給部
[0061]112:回收部
[0062]211:掩模部
[0063]341:第一開(kāi)口
[0064]342:第二開(kāi)口
[0065]921:透明電極圖案
[0066]930:感光圖案
[0067]931:抗蝕劑圖案
[0068]941:核心
[0069]θ 1:照射角
[0070]θ 2:檢測(cè)角
[0071 ]J1:(光照射部的)光軸
[0072]J2:(線傳感器的)光軸
[0073]N:(基材的)法線
[0074]S11 ?S26、S121 ?S123:步驟
【具體實(shí)施方式】
[0075]圖1是表示本發(fā)明的一實(shí)施形態(tài)的圖案形成系統(tǒng)1的構(gòu)成的圖。圖案形成系統(tǒng)1利用蝕刻將圖案形成于膜狀的基材9。基材9的本體是由對(duì)可見(jiàn)光透明的樹(shù)脂形成的、帶狀的連續(xù)片材?；?例如具有由氧化銦錫(Indium Tin Oxide, ΙΤ0)形成的透明導(dǎo)電膜，且基材9的一主表面是透明導(dǎo)電膜的表面。在基材9的主表面上、即透明導(dǎo)電膜上預(yù)先形成有作為感光性材料的光致抗蝕劑的層(以下稱(chēng)為“抗蝕劑層”)。
[0076]圖案形成系統(tǒng)1包括搬送機(jī)構(gòu)11、曝光裝置21、緩沖裝置12、顯影裝置22、蝕刻裝置23、以及抗蝕劑剝離裝置24。搬送機(jī)構(gòu)11包括供給部111、回收部112、以及多個(gè)搬送輥110。供給部111以卷的形式保持圖案形成前的基材9，并且從卷依次抽出基材9的各部位(即連續(xù)地存在于帶狀的基材9的多個(gè)部位)?；厥詹?12以卷的形式依次回收?qǐng)D案形成后的基材9的部位。如此，在圖案形成系統(tǒng)1中采用所謂的卷對(duì)卷(roll to roll)方式，即:由供給部111從卷抽出的基材9的各部位移動(dòng)至回收部112，并被卷繞成卷狀。多個(gè)搬送輥110沿著基材9的移動(dòng)路徑配置，并且從下方對(duì)移動(dòng)中途的基材9進(jìn)行支撐。S卩，多個(gè)搬送輥110是對(duì)基材9進(jìn)行支撐的支撐部。圖1中，將基材9的移動(dòng)路徑分為上下兩段來(lái)加以圖示。
[0077]從供給部111朝向回收部112依序配置有曝光裝置21、緩沖裝置