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一種直接入射式光臂放大型三維掃描測(cè)頭的制作方法

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一種直接入射式光臂放大型三維掃描測(cè)頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種精密測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種直接入射式光臂放大型三維掃 描測(cè)頭。
【背景技術(shù)】
[0002] 測(cè)頭是精密量?jī)x的關(guān)鍵部件之一,作為傳感器提供被測(cè)工件的幾何位置信息,測(cè) 頭的發(fā)展水平直接影響著精密量?jī)x的測(cè)量精度與測(cè)量效率。精密測(cè)頭通常分為接觸式測(cè)頭 與非接觸式測(cè)頭兩種,其中接觸式測(cè)頭又分為機(jī)械式測(cè)頭、觸發(fā)式測(cè)頭和掃描式測(cè)頭;非接 觸式測(cè)頭分為激光測(cè)頭和光學(xué)視頻測(cè)頭。
[0003] 機(jī)械式測(cè)頭是精密量?jī)x使用較早的一種測(cè)頭。該測(cè)頭通過(guò)測(cè)頭測(cè)端與被測(cè)工件直 接接觸進(jìn)行位置測(cè)量,主要用于手動(dòng)測(cè)量。該類測(cè)頭結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便,其缺點(diǎn)在于精度 不高,測(cè)量效率低,目前很少用于工業(yè)測(cè)量領(lǐng)域。當(dāng)前工業(yè)領(lǐng)域廣泛使用的精密測(cè)頭是觸發(fā) 式測(cè)頭。觸發(fā)式測(cè)頭的測(cè)量原理是當(dāng)測(cè)頭測(cè)端與被測(cè)工件接觸時(shí)精密量?jī)x發(fā)出采樣脈沖信 號(hào),并通過(guò)儀器的處理系統(tǒng)鎖存此時(shí)測(cè)端球心的坐標(biāo)值,以此來(lái)確定測(cè)端與被測(cè)工件接觸 點(diǎn)的坐標(biāo)。該類測(cè)頭具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便、及較高觸發(fā)精度等優(yōu)點(diǎn),是三維測(cè)頭中應(yīng)用 最廣泛的測(cè)頭。但該類測(cè)頭的缺點(diǎn)在于:存在各向異性(三角效應(yīng)),或者接觸式測(cè)頭在接 觸被測(cè)工件時(shí)因?yàn)樽枇Χa(chǎn)生微小位移從而導(dǎo)致測(cè)頭的位移偏差,限制了其測(cè)量精度的進(jìn) 一步提高,最高精度只能達(dá)零點(diǎn)幾微米。另一方面,由于觸發(fā)式測(cè)頭測(cè)量原理決定了其測(cè)量 過(guò)程為單點(diǎn)測(cè)量,測(cè)量效率低,限制了其推廣使用。
[0004] 當(dāng)前應(yīng)用最廣的測(cè)頭類型為掃描式測(cè)頭,該類測(cè)頭輸出量與測(cè)頭偏移量成正比, 作為一種精度高、功能強(qiáng)、適應(yīng)性廣的測(cè)頭,同時(shí)具備工件單點(diǎn)測(cè)量和連續(xù)掃描測(cè)量的功 能。該類測(cè)頭的測(cè)量原理是測(cè)頭測(cè)端在接觸被測(cè)工件后,測(cè)頭由于接觸力的作用發(fā)生位移, 測(cè)頭的轉(zhuǎn)換裝置輸出與測(cè)桿的微小偏移成正比的信號(hào),該信號(hào)和精密量?jī)x的相應(yīng)坐標(biāo)值疊 加便可得到被測(cè)工件上點(diǎn)的精確坐標(biāo)。若不考慮測(cè)桿的變形,掃描式測(cè)頭是各向同性的,故 其精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于觸發(fā)式測(cè)頭。但是該類測(cè)頭的缺點(diǎn)是結(jié)構(gòu)復(fù)雜,制造成本高,目前世界上只 有少數(shù)公司可以生產(chǎn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中所存在的機(jī)械式測(cè)頭和觸發(fā)式測(cè)頭精度不高, 以及掃描式測(cè)頭結(jié)構(gòu)復(fù)雜、成本較高的上述不足,提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、測(cè)量精度較高的新型 三維掃描測(cè)頭,該三維掃描測(cè)頭能夠測(cè)得測(cè)頭在三個(gè)方向的位移,通過(guò)位移疊加,能夠補(bǔ)償 測(cè)球接觸被測(cè)工件時(shí)位移導(dǎo)致的被測(cè)工件位置測(cè)量偏差,獲得被測(cè)工件更為準(zhǔn)確的測(cè)量坐 標(biāo)。
[0006] 為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明提供了以下技術(shù)方案:
[0007] 技術(shù)方案一:
[0008] -種直接入射式光臂放大型三維掃描測(cè)頭,包括:
[0009] 三個(gè)激光源,用于發(fā)射三條激光束,即激光源一發(fā)射激光束一,激光源二發(fā)射激光 束二,激光源三發(fā)射激光束三;
[0010] 測(cè)頭基座,設(shè)有所述激光源一、激光源二與激光源三,以及用于檢測(cè)的測(cè)桿和測(cè) 球;
[0011] 三個(gè)光電探測(cè)器,即光電探測(cè)器一、光電探測(cè)器二和光電探測(cè)器三,分別用于接收 激光束一、激光束二和激光束三;
[0012] 平移部件,用于使所述測(cè)頭基座做直線運(yùn)動(dòng);
[0013] 回復(fù)部件,用于將所述測(cè)頭基座回復(fù)至初始位置;
[0014] 處理系統(tǒng),根據(jù)所述光電探測(cè)器一、光電探測(cè)器二和光電探測(cè)器三上分別獲得的 激光束一,激光束二和激光束三入射位置變化值,計(jì)算得到所述測(cè)球的三維位移變化值。
[0015] 技術(shù)方案二:
[0016] -種直接入射式光臂放大型三維掃描測(cè)頭,包括:
[0017] 三個(gè)激光源,用于發(fā)射三條激光束,即激光源一發(fā)射激光束一,激光源二發(fā)射激光 束二,激光源三發(fā)射激光束三;
[0018] 三個(gè)光電探測(cè)器,即光電探測(cè)器一、光電探測(cè)器二和光電探測(cè)器三,分別用于接收 激光束一、激光束二和激光束三;
[0019] 測(cè)頭基座,所述測(cè)頭基座上設(shè)有光電探測(cè)器一、光電探測(cè)器二與光電探測(cè)器三,以 及用于檢測(cè)的測(cè)桿和測(cè)球;
[0020] 平移部件,用于使所述測(cè)頭基座做直線運(yùn)動(dòng);
[0021] 回復(fù)部件,用于將所述測(cè)頭基座回復(fù)至初始位置;
[0022] 處理系統(tǒng),根據(jù)所述光電探測(cè)器一、光電探測(cè)器二和光電探測(cè)器三上分別獲得的 激光束一,激光束二和激光束三入射位置變化值,計(jì)算得到所述測(cè)球的三維位移變化值。
[0023] 該新型光臂放大式三維掃描測(cè)頭,利用三個(gè)激光源分別發(fā)射三條激光束,每束激 光束均為平行激光束,入射到三個(gè)光電探測(cè)器上,每個(gè)光電探測(cè)器能夠感應(yīng)對(duì)應(yīng)激光束的 入射位置。當(dāng)平移部件帶動(dòng)測(cè)頭基座做直線運(yùn)動(dòng),即平移部件能夠沿不同方向平移測(cè)頭基 座,則激光源與對(duì)應(yīng)光電探測(cè)器距離發(fā)生變化,即三束激光束分別入射到對(duì)應(yīng)光電探測(cè)器 上的位置也相應(yīng)發(fā)生改變,根據(jù)幾何關(guān)系,處理系統(tǒng)分別對(duì)每個(gè)激光束入射到對(duì)應(yīng)光電探 測(cè)器上的入射位置變化值進(jìn)行計(jì)算并分析,能夠得到測(cè)頭基座在位于其直線位移方向的位 移變化值,進(jìn)而能夠?qū)崿F(xiàn)該測(cè)頭基座在三個(gè)方向合成的三維位移測(cè)量,測(cè)頭基座發(fā)生位移 后通過(guò)回復(fù)部件能夠回復(fù)至初始位置,便于下一次的測(cè)量。
[0024] 使用時(shí),將該三維掃描測(cè)頭安裝在精密量?jī)x上,由于測(cè)頭基座上連接測(cè)桿和測(cè)球, 測(cè)球用于與被測(cè)工件直接接觸進(jìn)行位置測(cè)量,當(dāng)測(cè)球與被測(cè)工件直接接觸時(shí),受到阻力而 產(chǎn)生位移,測(cè)球帶動(dòng)測(cè)頭基座在平移部件上產(chǎn)生位移,通過(guò)三個(gè)激光源、三個(gè)光電探測(cè)器、 處理系統(tǒng)配合,能夠計(jì)算得到測(cè)球的位移量,以補(bǔ)償測(cè)球接觸被測(cè)工件時(shí)測(cè)球位移導(dǎo)致的 被測(cè)工件位置測(cè)量偏差,由于每個(gè)光電探測(cè)器能夠得到一個(gè)直線方向的位移量,通過(guò)三個(gè) 光電探測(cè)器即能夠得到在三個(gè)不同直線方向的位移偏移量,以獲得被測(cè)工件更為準(zhǔn)確的位 置坐標(biāo),最高精度能夠達(dá)到納米級(jí)別,提高了三維掃描測(cè)頭的測(cè)量精度。該測(cè)頭簡(jiǎn)化了結(jié) 構(gòu),降低了生產(chǎn)成本,易于批量加工制造。
[0025] 優(yōu)選地,所述技術(shù)方案一或技術(shù)方案二中三個(gè)所述光電探測(cè)器的入射面相互垂直 設(shè)置,所述平移部件用于將所述測(cè)頭基座分別沿相對(duì)所述光電探測(cè)器一、光電探測(cè)器二、光 電探測(cè)器三的三個(gè)相互垂直的方向移動(dòng),實(shí)現(xiàn)激光束入射到對(duì)應(yīng)光電探測(cè)器上的位置發(fā)生 變化,以實(shí)現(xiàn)測(cè)量。
[0026] 進(jìn)一步優(yōu)選地,所述平移部件包括位于水平方向的至少一個(gè)導(dǎo)向槽一,所有所述 導(dǎo)向槽一之間沿垂直方向水平滑動(dòng)設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)向槽二,所有所述導(dǎo)向槽二上沿垂直方 向設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)向槽三,所有所述導(dǎo)向槽三上沿豎直平面上下滑動(dòng)連接所述測(cè)頭基座。
[0027] 該平移部件分別包括導(dǎo)向槽一、導(dǎo)向槽二和導(dǎo)向槽三,其中導(dǎo)向槽二可相對(duì)導(dǎo)向 槽一滑動(dòng),導(dǎo)向槽三可相對(duì)導(dǎo)向槽二滑動(dòng),導(dǎo)向槽一的滑動(dòng)方向與導(dǎo)向槽二的滑動(dòng)方向相 互垂直,導(dǎo)向槽二的滑動(dòng)方向與導(dǎo)向槽三的滑動(dòng)方向相互垂直,導(dǎo)向槽三通過(guò)滑塊84連接 測(cè)頭基座,測(cè)頭基座可在導(dǎo)向槽三上進(jìn)行滑動(dòng),因此能夠分別實(shí)現(xiàn)測(cè)頭基座在三維方向即 三個(gè)相互垂直的方向進(jìn)行位移。
[0028] 優(yōu)選地,所述技術(shù)方案一或技術(shù)方案二中的回復(fù)部件包括彈簧片一、彈簧片二、彈 簧片三,其中所述簧片一設(shè)于至少一個(gè)所述導(dǎo)向槽一上并用于將所述導(dǎo)向槽二回復(fù)至初始 位置,所述簧片二設(shè)于至少一個(gè)所述導(dǎo)向槽二上并用于將所述導(dǎo)向槽三回復(fù)至初始位置, 所述簧片三設(shè)于所述導(dǎo)向槽三上并用于將所述測(cè)頭基座回復(fù)至初始位置。
[0029] 該回復(fù)部件包括分別設(shè)于導(dǎo)向槽一、導(dǎo)向槽二、導(dǎo)向槽三上的彈簧片一、彈簧片 二、彈簧片三,能夠分別將導(dǎo)向槽二、導(dǎo)向槽三和測(cè)頭基座回復(fù)至初始位置,即將三個(gè)激光 束入射至三個(gè)光電探測(cè)器上位置回復(fù)至最初位置,便于測(cè)頭系統(tǒng)的下一次測(cè)量。
[0030] 進(jìn)一步優(yōu)選地,所述技術(shù)方案一中所述測(cè)頭基座為長(zhǎng)方體,將三個(gè)激光源設(shè)于這 三個(gè)側(cè)面,所述光電探測(cè)器一、光電探測(cè)器二和光電探測(cè)器三兩兩相互垂直設(shè)置。
[0031] 進(jìn)一步優(yōu)選地,所述技術(shù)方案一中光電探測(cè)器可旋轉(zhuǎn)安裝在所述殼體上,激光源 安裝在所述測(cè)頭基座上,可旋轉(zhuǎn)的光電探測(cè)器能夠改變光電探測(cè)器與對(duì)應(yīng)激光源的相對(duì)位 置和夾角,從而改變了光電探測(cè)器測(cè)量測(cè)頭位移的放大倍數(shù),三個(gè)光電探測(cè)器能夠改變測(cè) 量基座在位于不同方向的位移測(cè)量放大倍數(shù),以滿足實(shí)際需要。
[0032] 優(yōu)選地,所述技術(shù)方案二中所述測(cè)頭基座為長(zhǎng)方體,將三個(gè)光電探測(cè)器設(shè)于這三 個(gè)側(cè)面,所述光電探測(cè)器一、光電探測(cè)器二和光電探測(cè)器三兩兩相互垂直設(shè)置。
[0033] 進(jìn)一步優(yōu)選地,所述技術(shù)方案二中激光
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