3]本申請(qǐng)其他實(shí)施方案的有益效果:
[0044]本申請(qǐng)的激光干涉儀，不僅能夠確定最強(qiáng)相長(zhǎng)干涉的位置，而且還能夠確定最弱相消干涉的位置及I/η波長(zhǎng)干涉位置，所以，使得本申請(qǐng)的激光干涉儀不僅能夠抗環(huán)境干擾，而且還提高了測(cè)量精度；并且，本申請(qǐng)的測(cè)量方法、標(biāo)定方法、多光束激光源、微動(dòng)階梯平面反射鏡之間相互配合，進(jìn)一步的提高了本申請(qǐng)激光干涉儀的測(cè)量精度。
【附圖說(shuō)明】
:
[0045]圖1為本發(fā)明激光干涉儀結(jié)構(gòu)的光路示意圖；
[0046]圖2為微動(dòng)階梯平面反射鏡移動(dòng)后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0047]圖3為磁性微位移平臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖，
[0048]圖中標(biāo)記:
[0049]1-激光源，2-微動(dòng)階梯平面反射鏡，3-移動(dòng)平面反射鏡，4-干涉測(cè)量光電探測(cè)器組，5-分光鏡組，6-反射測(cè)量光電探測(cè)器組，7-第一激光束組，8-第二激光束組，9-反射激光束組，10-磁性微位移平臺(tái)，21-反射平面，41-干涉測(cè)量光電探測(cè)器，41a-標(biāo)定干涉測(cè)量光電探測(cè)器，51-第一分光鏡，52-第二分光鏡，61-反射測(cè)量光電探測(cè)器，61a-標(biāo)定反射測(cè)量光電探測(cè)器，101-支撐平臺(tái)，102-位移裝置，103-第一位移件，104-斜面，105-第二位移件，106-約束裝置，107-磁性件，11-處理系統(tǒng)。
【具體實(shí)施方式】
[0050]下面結(jié)合試驗(yàn)例及【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。但不應(yīng)將此理解為本發(fā)明上述主題的范圍僅限于以下的實(shí)施例，凡基于本
【發(fā)明內(nèi)容】
所實(shí)現(xiàn)的技術(shù)均屬于本發(fā)明的范圍。
[0051]實(shí)施例1，如圖所示，一種磁性微位移平臺(tái)式階梯平面反射鏡激光干涉儀，包括有激光源1、微動(dòng)階梯平面反射鏡2、干涉測(cè)量光電探測(cè)器組4、移動(dòng)平面反射鏡3、分光鏡組5和磁性微位移平臺(tái)10，所述微動(dòng)階梯平面反射鏡設(shè)置在所述磁性微位移平臺(tái)10上，所述激光源I向所述分光鏡組5射出ζ束激光束，其中ζ為大于或者等于2的正整數(shù)，所述干涉測(cè)量光電探測(cè)器組4包括有ζ個(gè)干涉測(cè)量光電探測(cè)器，每一個(gè)干涉測(cè)量光電探測(cè)器41與一束激光束相對(duì)應(yīng)，所述微動(dòng)階梯平面反射鏡2的反射面包括有ζ個(gè)反射平面21，ζ個(gè)所述反射平面21呈階梯型布置，每一個(gè)反射平面21與一束激光束相對(duì)應(yīng)，各激光束經(jīng)所述分光鏡組5后分為第一激光束組7和第二激光束組8，所述第一激光束組7射向所述微動(dòng)階梯平面反射鏡2，經(jīng)所述微動(dòng)階梯平面反射鏡2反射后再次射向所述分光鏡組5，再經(jīng)所述分光鏡組5后射向所述干涉測(cè)量光電探測(cè)器組4，所述第二激光束組8射向所述移動(dòng)平面反射鏡3，經(jīng)所述移動(dòng)平面反射鏡3反射后再次射向所述分光鏡組5，經(jīng)所述分光鏡組5后相對(duì)應(yīng)的與射向所述干涉測(cè)量光電探測(cè)器組4的第一激光束組7發(fā)生干涉，形成干涉激光束組，干涉激光束組的各干涉光束分別射向各自對(duì)應(yīng)的所述干涉測(cè)量光電探測(cè)器41，所述磁性微位移平臺(tái)式階梯平面反射鏡激光干涉儀還包括有反射測(cè)量光電探測(cè)器組6，所述反射測(cè)量光電探測(cè)器組6包括有ζ個(gè)反射測(cè)量光電探測(cè)器61，所述第二激光束組8在由所述移動(dòng)平面反射鏡3射向所述分光鏡組5后還形成有反射激光束組9，所述反射激光束組9的各激光束分別對(duì)應(yīng)的射向一個(gè)所述反射測(cè)量光電探測(cè)器61 ;
[0052]所述磁性微位移平臺(tái)10，包括有支撐平臺(tái)101和設(shè)置在所述支撐平臺(tái)101上的位移裝置102，所述支撐平臺(tái)101上設(shè)置有第一位移件103，所述第一位移件103與所述位移裝置102連接，所述位移裝置102帶動(dòng)所述第一位移件103沿所述支撐平臺(tái)101運(yùn)動(dòng)，所述第一位移件103具有一相對(duì)于其位移方向傾斜的斜面104，所述第一位移件103的斜面104上滑動(dòng)設(shè)置有第二位移件105，所述第一位移件103與第二位移件105之間貼緊配合，所述支撐平臺(tái)101上還設(shè)置有約束裝置106，所述約束裝置106限制所述第二位移件105沿所述第一位移件103位移方向上的運(yùn)動(dòng)，使得當(dāng)?shù)谝晃灰萍?03被所述位移裝置102帶動(dòng)而產(chǎn)生位移時(shí)，所述第二位移件105被所述第一位移件103帶動(dòng)而產(chǎn)生位移，所述第二位移件105的位移方向與所述第一位移件103的位移方向相垂直，所述第一位移件103的斜面104與其位移方向的夾角為A度，O > A > 45，所述第一位移件103與所述支撐平臺(tái)101之間還設(shè)置有具有磁性的磁性件107，所述第二位移件105具有磁性，所述第二位移件105與所述磁性件107為異性相吸狀態(tài)，所述微動(dòng)階梯平面反射鏡設(shè)置2在所述第二位移件105上，隨第二位移件105運(yùn)動(dòng)。
[0053]作為進(jìn)一步的優(yōu)選方案，所述分光鏡組5包括有第一分光鏡51和第二分光鏡52，所述激光源I射出的ζ束激光束先射到第一分光鏡51，經(jīng)第一分光鏡51反射形成第一激光束組7，經(jīng)第一分光鏡51透射形成第二激光束組8，第一激光束組7射向所述微動(dòng)階梯平面反射鏡2，經(jīng)反射后再次射向所述第一分光鏡51，然后再透射過(guò)所述第一分光鏡51，所述第二激光束組8射向所述第二分光鏡52，經(jīng)所述第二分光鏡52透射后射向所述移動(dòng)平面反射鏡3，經(jīng)所述移動(dòng)平面反射鏡3反射后再射向所述第二分光鏡52，經(jīng)所述第二分光鏡52透射后射向所述第一分光鏡51，并且與從所述第一分光鏡51透射出的第一激光束組7發(fā)生干涉，形成干涉激光束組后射向所述干涉測(cè)量光電探測(cè)器組4，由所述移動(dòng)平面反射鏡3射向所述第二分光鏡52的所述第二激光束組8還被所述第二分光鏡52反射形成所述反射激光束組9。
[0054]本申請(qǐng)的激光干涉儀，由于反射測(cè)量光電探測(cè)器組6可以測(cè)量移動(dòng)平面反射鏡3反射激光束組9的強(qiáng)度，根據(jù)反射激光束組9的強(qiáng)度確定激光干涉光束的干涉狀態(tài)，如此實(shí)現(xiàn)抗環(huán)境干擾的目的；
[0055]并且，在本實(shí)施例中，微動(dòng)階梯平面反射鏡2設(shè)置在磁性微位移平臺(tái)10上，支撐平臺(tái)101上設(shè)置位移裝置102和第一位移件103，位移裝置102帶動(dòng)第一位移件103運(yùn)動(dòng)，第一位移件103具有一相對(duì)于其位移方向傾斜的斜面104，當(dāng)位移裝置102提供一定的位移值帶動(dòng)第一位移件103時(shí)，由于約束裝置106的存在，此時(shí)，第二位移件105在垂直于第一位移件103位移方向上將產(chǎn)生一定的位移值，第二位移件105的位移值與位移裝置102提供的位移值相關(guān)，還與第一位移件103斜面104的傾斜程度相關(guān)，即，設(shè)第一位移件103的斜面104與其位移方向的夾角為A度，當(dāng)位移裝置102提供的位移值為X時(shí)，第二位移件105產(chǎn)生的位移值即為Y = Xtan(A)，第二位移件105的位移方向與第一位移件103的位移方向相垂直，如此，當(dāng)夾角A小于45度時(shí)，將得到一個(gè)小于X值的位移值，當(dāng)進(jìn)一步的減小夾角A時(shí)，位移值Y也隨之減小，如此，使得在本實(shí)施例的方案中，通過(guò)以行程換精度的方式，最終得到一個(gè)小于位移裝置102輸出位移值的第二位移件105的位移值，直接提高了本實(shí)施例磁性微位移平臺(tái)的精度，也就直接提高了微動(dòng)階梯平面反射鏡2的移動(dòng)精度，進(jìn)而提高了本申請(qǐng)激光干涉儀的測(cè)量精度。
[0056]作為進(jìn)一步的優(yōu)選方案，所述位移裝置102為壓電陶瓷型位移裝置。壓電陶瓷能夠?qū)C(jī)械能和電能互相轉(zhuǎn)換的功能陶瓷材料，其在電場(chǎng)作用下產(chǎn)生的形變量很小，最多不超過(guò)本身尺寸的千萬(wàn)分之一的微位移，具有良好的往復(fù)形變恢復(fù)能力，穩(wěn)定性好、精度高，如此使得本申請(qǐng)的位移裝置102能夠提供足夠小的X值，進(jìn)一步提高了本申請(qǐng)微位移平臺(tái)10的精度，提高本申請(qǐng)激光干涉儀的測(cè)量精度。
[0057]作為進(jìn)一步的優(yōu)選方案，所述激光干涉儀還包括有處理系統(tǒng)11，所述處理系統(tǒng)11與所述干涉測(cè)量光電探測(cè)器4和反射測(cè)量光電探測(cè)器6電連接，通過(guò)所述處理系統(tǒng)11控制所述干涉測(cè)量光電探測(cè)器4和反射測(cè)量光電探測(cè)器6的啟動(dòng)和停止，并且使所述干涉測(cè)量光電探測(cè)器4數(shù)據(jù)和反射測(cè)量光電探測(cè)器6數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在所述處理系統(tǒng)11內(nèi)，所述處理系統(tǒng)11還與所述磁性微位移平臺(tái)10的位移裝置102電連接，通過(guò)所述處理系統(tǒng)11控制所述位移裝置102的啟動(dòng)和停止，所述處理系統(tǒng)11還與所述激光源I電連接，通過(guò)所述處理系統(tǒng)11控制所述激光源I的啟動(dòng)和停止。在本申請(qǐng)中，通過(guò)設(shè)置處理系統(tǒng)11，對(duì)干涉測(cè)量光電探測(cè)器4的數(shù)據(jù)和反射測(cè)量光電探測(cè)器6的數(shù)據(jù)進(jìn)行儲(chǔ)存，生成標(biāo)定數(shù)據(jù)庫(kù)，在實(shí)際測(cè)量過(guò)程中通過(guò)實(shí)時(shí)的數(shù)據(jù)與標(biāo)定數(shù)據(jù)庫(kù)的數(shù)據(jù)進(jìn)行比對(duì)，進(jìn)而判斷出當(dāng)前光路的干涉情況；處理系統(tǒng)11還與磁性微位移平臺(tái)10的位移裝置102電連接，根據(jù)實(shí)時(shí)的測(cè)量結(jié)果控制位移裝置102的輸出位移，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)微動(dòng)階梯平面反射鏡2位置的協(xié)調(diào)控制，提高本申請(qǐng)的激光干涉儀的適應(yīng)性。
[0058]作為進(jìn)一步的優(yōu)選方案，在所述激光源1、微動(dòng)階梯平面反射鏡2、干涉測(cè)量光電探測(cè)器組4、分光鏡組5、反射測(cè)量光電探測(cè)器組6中任意兩個(gè)之間的激光束設(shè)置在封閉空間內(nèi)而不與外部環(huán)境空間接觸。在本申請(qǐng)中，激光源1、微動(dòng)階梯平面反射鏡2、干涉測(cè)量光電探測(cè)器組4、分光鏡組5和反射測(cè)量光電探測(cè)器組6這些部件任意兩個(gè)之間的激光束設(shè)置在封閉空間內(nèi)，使得在進(jìn)行測(cè)量的過(guò)程中，上述這些部件之間的激光束并不會(huì)受到環(huán)境因素的影響，進(jìn)而保證了本申請(qǐng)激光干涉儀的測(cè)量精度。
[0059]作為進(jìn)一步的優(yōu)選方