專(zhuān)利名稱(chēng):狀態(tài)分析的方法和裝置的制作方法
本發(fā)明是關(guān)于狀態(tài)分析的方法和裝置，特別是涉及以元素狀態(tài)數(shù)據(jù)(例如樣品中所含元素的化學(xué)鍵狀態(tài))為基礎(chǔ)進(jìn)行線性分析成二維掃描成象的狀態(tài)分析方法和裝置。
使用電子探針微分析儀(EpMA)等將電子束或X射線作為樣品的激發(fā)源施加至樣品上，借此測(cè)量樣品發(fā)射的特征X射線強(qiáng)度以便獲得有關(guān)元素的數(shù)據(jù)。
一般情況下，使用EpWA對(duì)樣品表面狀態(tài)進(jìn)行分析時(shí)，它向樣品表面發(fā)射電子束，并探測(cè)來(lái)自表面約1μm微小面積的特征X射線，從而獲得樣品的元素分析數(shù)據(jù)。
基本上來(lái)說(shuō)，設(shè)計(jì)和制造EpMA是用于進(jìn)行元素分析，而不是直接用于分析任何化合物。因此，當(dāng)一個(gè)樣品中含有Fe金屬，F(xiàn)eO，F(xiàn)e3O4，及Fe2O3時(shí)，它們雖然都能被EpMA探測(cè)到，但是都被按照Fe元素譜進(jìn)行同樣的處理。然而，EpMA探測(cè)到的特征X射線譜會(huì)根據(jù)樣品中有關(guān)元素的狀態(tài)(主要是化學(xué)鍵狀態(tài))而發(fā)生改變。因此就有可能根據(jù)探測(cè)特征X射線譜的變化來(lái)進(jìn)行狀態(tài)分析。不幸的是，特征X射線譜的變化程度在一般情況下對(duì)于收集狀態(tài)分析所必要的數(shù)據(jù)來(lái)說(shuō)太小，甚至我們把光譜儀在電子束掃描時(shí)調(diào)到特征X射線的特定波長(zhǎng)也是如此。
因此，采取了所謂的“點(diǎn)分析”法，在這里用光譜儀把若干波長(zhǎng)的電子束發(fā)射到含有被分析元素的測(cè)量點(diǎn)，以便獲得峰值輪廓圖及分析光譜。
一般來(lái)說(shuō)，僅用于某些特定化學(xué)鍵狀態(tài)的二維掃描圖象是不能得到的，除非在某些特殊的場(chǎng)合，例如在硫化物和硫酸中，或CuO和Cu2O等。其原因在于在特殊情況下，會(huì)出現(xiàn)不同的本特殊峰值，這些峰值由于硫的L-發(fā)射帶譜的化學(xué)鍵狀態(tài)或氧化銅的氧K-發(fā)射帶譜的化學(xué)鍵狀態(tài)而被分離。這時(shí)，當(dāng)光譜儀被調(diào)到某一本征峰值波長(zhǎng)時(shí)，則可以得到二維的狀態(tài)分布圖象。但是，這個(gè)方法不能適用于普遍的情況，因?yàn)樵贓pMA的順序波長(zhǎng)中(大約1～100
°)元素狀態(tài)的本征峰值很少出現(xiàn)。
原則上來(lái)說(shuō)對(duì)于樣品各有關(guān)測(cè)量點(diǎn)可以用計(jì)算機(jī)自動(dòng)地進(jìn)行大量的點(diǎn)分析以便分析它們的譜。但是，在線性分析和二元掃描圖象分析時(shí)，測(cè)量點(diǎn)可能有數(shù)百至數(shù)萬(wàn)個(gè)，因此操作時(shí)間及記憶容量將變得很大。
由上述，本發(fā)明的目的就在于對(duì)元素的狀態(tài)分析提供一個(gè)改進(jìn)的方法和裝置。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一個(gè)改進(jìn)的方法和裝置以在一個(gè)實(shí)際可行的時(shí)間里進(jìn)行線性分析或獲得二維掃描圖象。
本發(fā)明的進(jìn)一步的目的是提供一個(gè)構(gòu)造簡(jiǎn)單的、經(jīng)過(guò)改進(jìn)的裝置來(lái)進(jìn)行線性分析或二維掃描圖象分析。
由下文詳細(xì)的描述可以明顯地看到本發(fā)明其它目的及其進(jìn)一步的應(yīng)用范圍。但是，應(yīng)該明白，對(duì)于發(fā)明具體優(yōu)點(diǎn)的詳細(xì)描述及特定例子僅僅是通過(guò)圖示的方法給出的，因?yàn)閷?duì)于那些技術(shù)熟練的人來(lái)說(shuō)通過(guò)這些詳細(xì)的描述可以明顯看出本發(fā)明在思想及內(nèi)容上以及范圍內(nèi)的各種改進(jìn)。
為了達(dá)到上述目的，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，狀態(tài)分析法的特點(diǎn)是用光譜儀在兩個(gè)預(yù)先選擇的波長(zhǎng)處測(cè)量來(lái)自待測(cè)樣品測(cè)量點(diǎn)的特征X射線強(qiáng)度，這兩個(gè)波長(zhǎng)的選擇是根據(jù)被分析元素的特定狀態(tài)來(lái)決定的。可以獲得對(duì)應(yīng)于不同能量位置的單一光譜的強(qiáng)度(光子數(shù)目)。如果在一個(gè)根據(jù)某些測(cè)量點(diǎn)上元素的特定狀態(tài)而預(yù)定的范圍中獲得了在兩個(gè)選定波長(zhǎng)上的強(qiáng)度比，那么僅輸出在這些測(cè)量點(diǎn)上測(cè)到的狀態(tài)探測(cè)信號(hào)，進(jìn)而去顯示一個(gè)線性分析或一個(gè)二維掃描圖象。根據(jù)本發(fā)明的狀態(tài)分析方法，以兩個(gè)選定波長(zhǎng)得到的強(qiáng)度比被用來(lái)探測(cè)光譜的變化以便辨別狀態(tài)。
本發(fā)明的一個(gè)狀態(tài)分析裝置由兩個(gè)波長(zhǎng)色散光譜儀和一個(gè)比較器組成。兩個(gè)波長(zhǎng)色散光譜儀被調(diào)到特征X射線的不同波長(zhǎng)上以便適應(yīng)被分析元素的特定狀態(tài)。比較器用來(lái)比較光譜儀測(cè)到的特征X射線強(qiáng)度，從而可以判知強(qiáng)度比是否落在預(yù)定的范圍中。只有當(dāng)強(qiáng)度比落在預(yù)定范圍中時(shí)，比較器才輸出狀態(tài)探測(cè)信號(hào)。
進(jìn)一步來(lái)說(shuō)，根據(jù)本發(fā)明，波長(zhǎng)色散光譜儀是由一個(gè)波長(zhǎng)色散晶體和一個(gè)用來(lái)探測(cè)被波長(zhǎng)色散晶體色散的特征X射線的位置敏感探測(cè)器(PSD)組成。在預(yù)先由PSD決定的不同位置，探測(cè)特征X射線。用比較器比較在PSD兩個(gè)位置上測(cè)到的特征X射線強(qiáng)度。只有當(dāng)強(qiáng)度比處在根據(jù)元素特定態(tài)預(yù)先選定的范圍內(nèi)時(shí)，比較器才輸出狀態(tài)探測(cè)信號(hào)。
由下述詳細(xì)描寫(xiě)及各種圖可以進(jìn)一步全面了解本發(fā)明。這些圖僅僅給出了一些實(shí)例，而本發(fā)明并不局限于此圖1～4為用于解釋本發(fā)明的方法的特征X射線譜圖。
圖5為根據(jù)本發(fā)明第一種最佳實(shí)施方案的狀態(tài)分析裝置。
圖6～8為用圖5狀態(tài)分析裝置去處理狀態(tài)探測(cè)信號(hào)的框圖。
圖9為本發(fā)明第二種最佳實(shí)施方案的狀態(tài)分析裝置。
圖10為用圖9所示的狀態(tài)分析裝置去處理探測(cè)信號(hào)的框圖。
圖1～4是解釋本發(fā)明方法的特征X射線譜。
圖1為在樣品中所含有的例如Si元素或SiO2的特征X射線譜。由Si到SiO2的變化使得特征X射線譜的峰值波長(zhǎng)移動(dòng)，當(dāng)Si元素處在金屬Si的第一態(tài)時(shí)，它是圖1中的譜1，作為本特征X射線。在譜1中，峰值波長(zhǎng)是λ1。遠(yuǎn)離λ1的一個(gè)波長(zhǎng)，大約在半個(gè)寬度的一半處(不超過(guò)峰值半寬度)是λ2。由于根據(jù)要分析的元素λ1和λ2處。的值是已知的，可把兩個(gè)光譜儀分別調(diào)到波長(zhǎng)λ1和λ2處。當(dāng)光譜儀探測(cè)光譜時(shí)，測(cè)到的強(qiáng)度I1和I2。假定它們滿足下列關(guān)系I1≥αβ1I2(1)
α是一個(gè)固有的因子，因此在波長(zhǎng)λ1處測(cè)量強(qiáng)度I1的第一個(gè)光譜儀的靈敏度等于在波長(zhǎng)λ2處測(cè)量強(qiáng)度I2的第二個(gè)光譜儀的靈敏度。固子α是根據(jù)光譜儀來(lái)決定的。β1是一個(gè)代表特征X射線譜中波長(zhǎng)移動(dòng)量的固子，它是根據(jù)待分析元素的特定狀態(tài)來(lái)決定。
在Si元素的第二態(tài)，它是一種化合物，例如SiO2。在第二態(tài)中Si元素的譜向短波方向移動(dòng)為譜2，由于氧的影響它與譜1有很大偏離。因此譜2的峰值波長(zhǎng)向短波方向移動(dòng)。
當(dāng)用兩個(gè)設(shè)定在波長(zhǎng)λ1和λ2上的光譜儀去探測(cè)處于第二態(tài)的特征X射線譜時(shí)，強(qiáng)度I1和I2滿足下列關(guān)系I1＜αβ1I2(2)因此，根據(jù)預(yù)先選定的波長(zhǎng)λ1和λ2去探測(cè)待分析元素的特征X射線，以便去相互比較測(cè)到的強(qiáng)度數(shù)據(jù)。為了測(cè)量元素Si的第一狀態(tài)，對(duì)于滿足關(guān)系(1)的強(qiáng)度比，輸出僅與某些測(cè)量點(diǎn)有關(guān)的狀態(tài)探測(cè)信號(hào)，這樣就可以進(jìn)行第一狀態(tài)的線性分析或二維掃描圖象分析。為了探測(cè)Si和O組合(即SiO2)的第二狀態(tài)，對(duì)于滿足不等式(2)的強(qiáng)度比，輸出僅與某些測(cè)量點(diǎn)有關(guān)的狀態(tài)探測(cè)信號(hào)，這樣就可進(jìn)行線性的或二維掃描成象的分析。
圖2為特征X射線譜，這里有關(guān)峰值的強(qiáng)度比是依據(jù)特定的狀態(tài)，如化學(xué)鍵狀態(tài)變化的。例如在Fe的Lα和Lβ情況或K伴生物的α3和α4情況。
兩個(gè)光譜儀調(diào)整到對(duì)應(yīng)于峰3和峰4的兩個(gè)峰波長(zhǎng)λ3和λ4處。在第一狀態(tài)時(shí)假定在所選波長(zhǎng)λ3和λ4處特征X射線的強(qiáng)度I1和I2滿足下列關(guān)系I1≥αβ2I2(3)對(duì)于第二狀態(tài)，假定強(qiáng)度I1和I2滿足下列關(guān)系I1＜αβ2I2(4)
β2是代表有關(guān)峰點(diǎn)的強(qiáng)度比的因子。通過(guò)確定在測(cè)量點(diǎn)的特征X射線譜是否服從關(guān)系式(3)和(4)可以給出相關(guān)狀態(tài)的線性分析或二維掃描圖象。
圖3所示的特征X射線譜的對(duì)稱(chēng)性隨狀態(tài)的變化(例如化學(xué)鍵的狀態(tài))而變化。兩個(gè)光譜儀分別調(diào)整到波長(zhǎng)λ5和λ6處，它們分別在長(zhǎng)波和短波方向，大約在半個(gè)寬度的一半位置處。用以探測(cè)特征X射線在所選波長(zhǎng)λ5和λ6處的強(qiáng)度數(shù)據(jù)是否滿足下列關(guān)系之一I1＞αβ3I2(5)I1＝αβ3I2(6)I1＜αβ3I2(7)β3是代表在特征X射線譜中非對(duì)稱(chēng)性的因子。根據(jù)所判定的一種關(guān)系，可以獲得譜所相應(yīng)狀態(tài)的線性分析或二維掃描圖象。
圖4所示為特征X射線譜，這里特征X射線譜的半個(gè)寬度將根據(jù)狀態(tài)的變化(例如化學(xué)鍵狀態(tài))而變化。如果認(rèn)為譜隨狀態(tài)的變化如譜5和譜6所示，那么兩個(gè)光譜儀的波長(zhǎng)選擇應(yīng)為峰值波去λ1和遠(yuǎn)離λ1的約處于半寬度上一半位置處的λ2位置，(如圖1所示)。可以用與圖1相同的方法得到線性分析或二維掃描圖象，因?yàn)槿绻V的峰值豐寬度變化，則在選定波長(zhǎng)處測(cè)得的強(qiáng)度比也將發(fā)生變化。
圖5為本發(fā)明第一種最佳實(shí)施方案分析裝置的代表圖。
電子槍11發(fā)射的電子束12經(jīng)過(guò)匯聚透鏡13和物鏡14入射到待分析樣品10的一個(gè)測(cè)量點(diǎn)上。掃描線圈15使電子束對(duì)樣品10進(jìn)行掃描。響應(yīng)電子束12，特征X射線16和二次電子從樣品10中發(fā)射出來(lái)。
在本發(fā)明的第一種最佳實(shí)施方案中，用第一和第二波長(zhǎng)色散光譜儀去探測(cè)特征X射線16。第一波長(zhǎng)色散光譜儀由一個(gè)作為波長(zhǎng)色散元件的分光晶體17及一個(gè)探測(cè)器18組成。第二波長(zhǎng)色散光譜儀由一個(gè)作為波長(zhǎng)色散元件的分光晶體19及一個(gè)探測(cè)器20組成。具有相同靈敏度的兩個(gè)光譜儀能探測(cè)圖1～4所限定的特征X射線波長(zhǎng)范圍。即，一個(gè)光譜儀調(diào)整到λ1，λ3或λ5而另一個(gè)則調(diào)整到λ2，λ4或λ5。
探測(cè)器18和20可以是一個(gè)正比計(jì)數(shù)器，位置敏感探測(cè)器等等。必須使兩個(gè)光譜儀靠得很近，以便使測(cè)量條件近似。
樣品10發(fā)射的特征X射線16被分光晶體17和19分散為不同波長(zhǎng)并在同一時(shí)間或依次被探測(cè)器18和20探測(cè)。假定，兩個(gè)探測(cè)器18和20測(cè)到的強(qiáng)度分別是I1和I2，調(diào)節(jié)圖6所示的α調(diào)整裝置21和βi(i＝1，2或3)調(diào)整裝置22使強(qiáng)度I2變到“αβI2”。比較裝置23用于比較I1和αβiI2以便決定所限定的特定態(tài)。對(duì)多個(gè)探測(cè)點(diǎn)掃描，在顯示器上實(shí)時(shí)顯示探測(cè)狀態(tài)，從而得到線性分析或二維掃描圖象。
如圖7所示，來(lái)自探測(cè)器18和20的輸出信號(hào)分別以數(shù)據(jù)I1和αβiI2的形式與測(cè)量位置信息一起記憶在存儲(chǔ)器24和25之中。然后計(jì)算機(jī)26對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行比較?；蛘?，如圖8所示，來(lái)自探測(cè)器18和20的強(qiáng)度數(shù)據(jù)I1和I2與測(cè)量點(diǎn)位置信息一起直接被存儲(chǔ)器27和28記憶，然后計(jì)算機(jī)29把兩個(gè)系數(shù)α和βi加入并比較結(jié)果數(shù)據(jù)以便顯示最后結(jié)果。
圖9為本發(fā)明第二種最佳實(shí)施方案的狀態(tài)分析裝置圖。圖9的狀態(tài)分析裝置與圖5的不同點(diǎn)在于使用一個(gè)單一波長(zhǎng)色散光譜儀。它是由位置敏感探測(cè)器30和一個(gè)分光晶體31組成。位置敏感探測(cè)器30分別在兩個(gè)位置得到強(qiáng)度數(shù)據(jù)，它們相應(yīng)于一個(gè)選擇波長(zhǎng)(如λ1)和另一個(gè)選擇波長(zhǎng)(如λ2)。
當(dāng)使用兩個(gè)獨(dú)立的光譜儀在兩個(gè)選擇波長(zhǎng)λ1和λ2去測(cè)量強(qiáng)度數(shù)據(jù)時(shí)，每一個(gè)都可以處于完全的分光條件中。另一方面，只使用一個(gè)具有位置敏感探測(cè)器的光譜儀同時(shí)測(cè)量相應(yīng)于波長(zhǎng)λ1和λ2的強(qiáng)度數(shù)據(jù)時(shí)，則分光條件是近似的。但是，在實(shí)踐中對(duì)于比較鄰近波長(zhǎng)的強(qiáng)度數(shù)據(jù)來(lái)說(shuō)這沒(méi)有什么問(wèn)題。
對(duì)于第二種最佳實(shí)施方案，如圖10所示，單一的位置敏感探測(cè)器30的兩部分在所選擇的兩個(gè)波長(zhǎng)處同時(shí)或順序地提供強(qiáng)度數(shù)據(jù)I1和I2。在圖10中，強(qiáng)度數(shù)據(jù)I1和I2被進(jìn)行實(shí)時(shí)處理。也可以把它們存入圖7和8所示的存儲(chǔ)器24，25，27和28以后再進(jìn)行處理。這樣就可以顯示特定狀態(tài)的線性分析或二維掃描圖象。
如上所述，依據(jù)本發(fā)明，當(dāng)一個(gè)樣品中某種元素的狀態(tài)由于化學(xué)鍵狀態(tài)變化而發(fā)生變化時(shí)，特征X射線譜也相應(yīng)地發(fā)生變化，這樣就可以用點(diǎn)分析模式去分析譜。此時(shí)，特征X射線譜可以被有效地分離和改變。待分析的樣品結(jié)構(gòu)分布的線性分析或二維掃描圖象的顯示時(shí)間與尋常情況所需的有效時(shí)間相同。這樣就使得EpMA的工作性能夠遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)通常僅用于元素分析的性能。根據(jù)本發(fā)明，EpMA可以對(duì)于分析材料提供重要的狀態(tài)分析信息。
這里對(duì)于發(fā)明進(jìn)行了描述，很顯然可有很多種途徑對(duì)它進(jìn)行改變。但這些改變將被認(rèn)為是與本發(fā)明的思想和內(nèi)容相一致的，所有這些變更都包含在下述權(quán)利要求
的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.分析樣品中某種元素狀態(tài)的方法的特征是該方法包括下列步驟用激發(fā)源去激發(fā)元素；探測(cè)根據(jù)被分析元素狀態(tài)預(yù)先選擇的兩個(gè)波長(zhǎng)上測(cè)量點(diǎn)產(chǎn)生的特征X射線強(qiáng)度；比較某些測(cè)量點(diǎn)在兩個(gè)波長(zhǎng)上特征X射線強(qiáng)度比，提供根據(jù)元素狀態(tài)選擇的區(qū)域中所探測(cè)的強(qiáng)度比；以及輸出僅在上述這些測(cè)量點(diǎn)探測(cè)到的狀態(tài)探測(cè)信號(hào)，以便獲得線性分析或一個(gè)二維掃描圖象。
2.如權(quán)項(xiàng)1所述的方法，其中，所說(shuō)兩個(gè)波長(zhǎng)是由相應(yīng)峰值強(qiáng)度的第一個(gè)波長(zhǎng)和偏離第一波長(zhǎng)約小于半個(gè)寬度位置的第二波長(zhǎng)組成，并且由下述關(guān)系決定了范圍I1≥αβ1I2或I1＜αβ1I2式中I1在第一波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度，I2在第二波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度，α代表光譜儀靈敏度的因子。β2代表相關(guān)峰之間強(qiáng)度比的因子。
3.根據(jù)權(quán)項(xiàng)1所述的方法，其中所說(shuō)兩個(gè)波長(zhǎng)是由在長(zhǎng)波側(cè)的第一波長(zhǎng)和在短波側(cè)的第二波長(zhǎng)組成。它們?cè)谝粋€(gè)單峰強(qiáng)度兩邊約小于半個(gè)寬度的位置處，并且范圍由下列關(guān)系決定I1＞αβ3I2I1＝αβ3I3或I1＜αβ3I2這里，I1在第一波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度I2在第二波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度α代表光譜儀靈敏度的因子β3代表特征X射線譜非對(duì)稱(chēng)性的因子。
4.分析樣品中元素狀態(tài)的裝置的特征是該裝置包括探測(cè)來(lái)自元素的特征X射線的波長(zhǎng)色散光譜儀裝置，該波長(zhǎng)光譜儀裝置被調(diào)整到特征X射線的兩個(gè)不同波長(zhǎng)上以便與元素的狀態(tài)相一致;以及比較裝置對(duì)該波長(zhǎng)色散光譜儀響應(yīng)以便比較在兩個(gè)不同波長(zhǎng)上探測(cè)到的特征X射線強(qiáng)度，并且只有當(dāng)所比較的強(qiáng)度比落在范圍內(nèi)時(shí)才輸出狀態(tài)探測(cè)信號(hào)。
5.根據(jù)權(quán)項(xiàng)5所述的裝置，其中所說(shuō)兩個(gè)波長(zhǎng)由相應(yīng)于峰值強(qiáng)度的第一波長(zhǎng)和與第一波長(zhǎng)偏離小于半個(gè)寬度的第二波長(zhǎng)組成，并由下述關(guān)系決定其范圍I1≥αβ1I2或I1＜αβ1I2式中，I1在第一波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度，I2在第二波長(zhǎng)特征X射線的強(qiáng)度，α代表光譜儀靈敏度的因子β1代表波長(zhǎng)偏移量的因子。
6.根據(jù)權(quán)項(xiàng)5所述裝置，其中所說(shuō)兩個(gè)不同的波長(zhǎng)由相應(yīng)兩個(gè)相關(guān)峰其中之一的峰值強(qiáng)度的第一波長(zhǎng)和相應(yīng)于兩個(gè)相關(guān)峰的另一峰值強(qiáng)度的第二波長(zhǎng)組成，并由下列關(guān)系決定其范圍I1≥αβ2I2或I1＜αβ2I2式中，I1在第一波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度，I2在第二波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度，α代表光譜儀靈敏度的因子β2代表相關(guān)峰之間強(qiáng)度比的因子。
7.根據(jù)權(quán)項(xiàng)5所述的裝置，其中所說(shuō)兩個(gè)波長(zhǎng)是由在長(zhǎng)波側(cè)的第一波長(zhǎng)和在短波側(cè)的第二波長(zhǎng)組成，它們?cè)谝粋€(gè)單峰強(qiáng)度兩邊約小于半個(gè)寬度的位置處，并且由下述關(guān)系決定其范圍I1＞αβ3I2I1＝αβ3I2或I1＜αβ3I2式中，I1在第一波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度I2在第二波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度α代表光譜儀靈敏度的因子β3代表特征X射線非對(duì)稱(chēng)性的因子。
8.進(jìn)行樣品中元素狀態(tài)分析的裝置的特征是該裝置包括用于波長(zhǎng)色散的波長(zhǎng)色散裝置，它作為波長(zhǎng)色散光譜儀的一部分;用于探測(cè)被該波長(zhǎng)色散裝置色散了的特征X射線的位置敏感探測(cè)器，它作為該光譜儀的一部分;以及用比較裝置去比較用所述位置敏感探測(cè)器在不同位置不同波長(zhǎng)探測(cè)到的特征X射線的強(qiáng)度，并且只有當(dāng)光強(qiáng)度比落在根據(jù)元素特定狀態(tài)所選擇的范圍內(nèi)時(shí)才輸出狀態(tài)探測(cè)信號(hào)。
9.根據(jù)權(quán)項(xiàng)9所述裝置，其中所說(shuō)比較器所選擇的不同波長(zhǎng)是由相應(yīng)于峰值強(qiáng)度的第一波長(zhǎng)和與第一波長(zhǎng)偏離小于半個(gè)寬度的第二波長(zhǎng)組成，范圍由下述關(guān)系決定I1≥αβ1I2或I1＜αβ1I2式中，I1在第一波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度I2在第二波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度α代表光譜儀靈敏度的因子β1代表波去偏移量的因子
10.根據(jù)權(quán)項(xiàng)9所述裝置，對(duì)于所述比較器，選擇的不同波長(zhǎng)是由在長(zhǎng)波側(cè)的第一波長(zhǎng)和短波側(cè)的第二波長(zhǎng)組成，它們?cè)谝粋€(gè)單峰強(qiáng)度的波長(zhǎng)的兩邊約小于半個(gè)寬度的位置處，并且范圍由下述關(guān)系決定I1＞αβ3I2I1＝αβ3I2或I1＜αβ3I2式中，I1在第一波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度I2在第二波長(zhǎng)處特征X射線的強(qiáng)度α代表光譜儀靈敏度的因子β3代表特征X射線非對(duì)稱(chēng)性的因子
專(zhuān)利摘要
樣品中元素狀態(tài)的分析方法由下列幾步組成首先用一個(gè)激發(fā)源去照射元素；然后在兩個(gè)預(yù)先選擇的波長(zhǎng)處探測(cè)測(cè)量點(diǎn)產(chǎn)生的特征X射線的強(qiáng)度，這兩個(gè)波長(zhǎng)的選擇是根據(jù)所分析的元素狀態(tài)決定的；對(duì)于一些測(cè)量是比較它們?cè)趦蓚€(gè)波長(zhǎng)上的特征X射線強(qiáng)度比，以便提供落在根據(jù)元素狀態(tài)選擇的探測(cè)范圍中所測(cè)到的強(qiáng)度比；僅僅對(duì)這些測(cè)量點(diǎn)輸出狀態(tài)探測(cè)信號(hào)以便獲得一個(gè)線性分析或二維掃描圖象。
文檔編號(hào)G01N23/22GK85104863SQ85104863
公開(kāi)日1986年12月31日 申請(qǐng)日期1985年6月25日
發(fā)明者副島啟義 申請(qǐng)人:株式會(huì)社島津制作所導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan