本申請涉及水質(zhì)測量，尤其涉及一種監(jiān)測設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、目前，城市管網(wǎng)中水體的監(jiān)測設(shè)備分為接觸式監(jiān)測設(shè)備和非接觸式監(jiān)測設(shè)備兩種形式。接觸式監(jiān)測設(shè)備受水質(zhì)環(huán)境影響較大，雜物垃圾等經(jīng)常覆蓋探頭，影響測量，需頻繁的維護(hù)，維護(hù)成本較高。非接觸式監(jiān)測設(shè)備通過毫米波雷達(dá)進(jìn)行監(jiān)測，其中一般都設(shè)有透鏡，透鏡用于減少雷達(dá)波通過不同介質(zhì)的輻射次數(shù)，減少干擾信號，降低干擾信號強(qiáng)度，提高檢測信號強(qiáng)度。但在水體浸沒監(jiān)測設(shè)備的情況下，透鏡可能會被污染。并且監(jiān)測設(shè)備的透鏡處會形成凸出的結(jié)構(gòu)，其也容易招致垃圾等雜物覆蓋，影響測量。

2、例如，公告號為cn214667048u的專利公開了一種雷達(dá)流量計，其用于測量液位的雷達(dá)處即設(shè)置了向外凸起的透鏡部，具有上述非接觸式監(jiān)測設(shè)備所涉及的問題。

3、因此，水體的監(jiān)測設(shè)備還有改進(jìn)的空間。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了解決或緩解背景技術(shù)提到的至少一個問題，本申請?zhí)峁┝吮O(jiān)測設(shè)備。

2、本申請實(shí)施方式提供的監(jiān)測設(shè)備包括：

3、毫米波雷達(dá)，所述毫米波雷達(dá)包括用于測量水位的第一雷達(dá)模塊和用于測量水體流速的第二雷達(dá)模塊，所述第一雷達(dá)模塊與所述第二雷達(dá)模塊中，至少所述第一雷達(dá)模塊使用多振子天線；

4、殼體，所述殼體的內(nèi)壁面包括第一安裝面和第二安裝面，在所述監(jiān)測設(shè)備的預(yù)定的安裝狀態(tài)下，所述第一安裝面平行于待測水面，所述第二安裝面與所述第一安裝面連接且相對于所述第一安裝面傾斜，所述第一雷達(dá)模塊安裝于所述第一安裝面，所述第二雷達(dá)模塊安裝于所述第二安裝面，所述殼體與所述第一雷達(dá)模塊對應(yīng)位置的內(nèi)外兩側(cè)不設(shè)置透鏡而形成為平面結(jié)構(gòu)。

5、在至少一個實(shí)施方式中，所述第一雷達(dá)模塊的雷達(dá)頻率為80ghz，所述第二雷達(dá)模塊的雷達(dá)頻率為24ghz，所述多振子天線包括由8行16列的振子元件組成的振子陣列。

6、在至少一個實(shí)施方式中，所述毫米波雷達(dá)包括雷達(dá)主控板和雷達(dá)用屏蔽罩，所述第一雷達(dá)模塊和所述雷達(dá)主控板設(shè)置在一起，所述雷達(dá)用屏蔽罩設(shè)置在所述第一雷達(dá)模塊和所述雷達(dá)主控板之間；或者

7、所述第二雷達(dá)模塊和所述雷達(dá)主控板設(shè)置在一起，所述雷達(dá)用屏蔽罩設(shè)置在所述第二雷達(dá)模塊和所述雷達(dá)主控板之間。

8、在至少一個實(shí)施方式中，所述監(jiān)測設(shè)備還包括：

9、電磁流量計，用于接觸式地測量水體流速；

10、液位計，用于接觸式地測量水體液位；

11、控制裝置，所述控制裝置被配置成在所述液位計測量到的數(shù)據(jù)超過設(shè)定值時或所述第一雷達(dá)模塊測量到的數(shù)據(jù)超過設(shè)定值時控制所述電磁流量計工作，在不超過所述設(shè)定值時控制所述第二雷達(dá)模塊工作。

12、在至少一個實(shí)施方式中，所述殼體的外壁面包括前端導(dǎo)流面和底部測量面，在所述監(jiān)測設(shè)備的預(yù)定的安裝狀態(tài)下，所述底部測量面平行于待測水面，所述電磁流量計的測量位點(diǎn)和所述液位計的測量位點(diǎn)位于所述底部測量面，所述前端導(dǎo)流面垂直于所述底部測量面。

13、在至少一個實(shí)施方式中，所述前端導(dǎo)流面包括：

14、一個第一弧形面，所述第一弧形面向所述殼體的前側(cè)凸出；

15、兩個第一連接面，所述兩個第一連接面分別連接于所述第一弧形面叉開的兩個后端，

16、所述殼體還包括殼體側(cè)面和第二弧形面，所述第一連接面和所述殼體側(cè)面通過所述第二弧形面連接。

17、在至少一個實(shí)施方式中，所述電磁流量計包括勵磁線圈，所述勵磁線圈的軸線與所述底部測量面的中線垂直相交，或者所述勵磁線圈的軸線與所述第一弧形面的內(nèi)切圓柱的軸線重合。

18、在至少一個實(shí)施方式中，所述電磁流量計還包括分別設(shè)置在所述勵磁線圈的左右兩側(cè)的兩個感應(yīng)電極，所述兩個感應(yīng)電極的連線經(jīng)過所述勵磁線圈的軸線且與所述監(jiān)測設(shè)備的前后方向垂直，所述兩個感應(yīng)電極的底部穿過所述底部測量面而形成為所述電磁流量計的測量位點(diǎn)。

19、在至少一個實(shí)施方式中，所述電磁流量計還包括電磁主控板和電磁流量計用屏蔽罩，所述勵磁線圈、所述感應(yīng)電極連接于所述電磁主控板，所述電磁流量計用屏蔽罩套設(shè)在所述電磁主控板的外側(cè)。

20、在至少一個實(shí)施方式中，所述監(jiān)測設(shè)備還包括上蓋，所述上蓋安裝于所述殼體的頂部，所述上蓋與所述殼體之間設(shè)置有密封圈。

21、可以理解，現(xiàn)有的毫米波雷達(dá)多使用橢球透鏡天線，具有透鏡及相應(yīng)的凸起結(jié)構(gòu)。而本申請?zhí)峁┑暮撩撞ɡ走_(dá)使用多振子天線，能夠提高發(fā)射信號強(qiáng)度以及接收端的數(shù)量，不需要橢球結(jié)構(gòu)來約束波束角。因此，本申請不需要設(shè)置透鏡，避免了透鏡被污染的問題。不設(shè)置透鏡使得殼體的雷達(dá)設(shè)置處的外側(cè)形成為沒有凸起的平面結(jié)構(gòu)，減少了容易招致垃圾覆蓋的問題。因此本申請能夠降低設(shè)備維護(hù)頻率。

技術(shù)特征：

1.一種監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述第一雷達(dá)模塊的雷達(dá)頻率為80ghz，所述第二雷達(dá)模塊的雷達(dá)頻率為24ghz，所述多振子天線包括由8行16列的振子元件組成的振子陣列。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述毫米波雷達(dá)包括雷達(dá)主控板和雷達(dá)用屏蔽罩，所述第一雷達(dá)模塊和所述雷達(dá)主控板設(shè)置在一起，所述雷達(dá)用屏蔽罩設(shè)置在所述第一雷達(dá)模塊和所述雷達(dá)主控板之間；或者

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述監(jiān)測設(shè)備還包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述殼體的外壁面包括前端導(dǎo)流面和底部測量面，在所述監(jiān)測設(shè)備的預(yù)定的安裝狀態(tài)下，所述底部測量面平行于待測水面，所述電磁流量計的測量位點(diǎn)和所述液位計的測量位點(diǎn)位于所述底部測量面，所述前端導(dǎo)流面垂直于所述底部測量面。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述前端導(dǎo)流面包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述電磁流量計包括勵磁線圈，所述勵磁線圈的軸線與所述底部測量面的中線垂直相交，或者所述勵磁線圈的軸線與所述第一弧形面的內(nèi)切圓柱的軸線重合。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述電磁流量計還包括分別設(shè)置在所述勵磁線圈的左右兩側(cè)的兩個感應(yīng)電極，所述兩個感應(yīng)電極的連線經(jīng)過所述勵磁線圈的軸線且與所述監(jiān)測設(shè)備的前后方向垂直，所述兩個感應(yīng)電極的底部穿過所述底部測量面而形成為所述電磁流量計的測量位點(diǎn)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述電磁流量計還包括電磁主控板和電磁流量計用屏蔽罩，所述勵磁線圈、所述感應(yīng)電極連接于所述電磁主控板，所述電磁流量計用屏蔽罩套設(shè)在所述電磁主控板的外側(cè)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的監(jiān)測設(shè)備，其特征在于，所述監(jiān)測設(shè)備還包括上蓋，所述上蓋安裝于所述殼體的頂部，所述上蓋與所述殼體之間設(shè)置有密封圈。

技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┝吮O(jiān)測設(shè)備。監(jiān)測設(shè)備包括毫米波雷達(dá)和殼體。毫米波雷達(dá)包括用于測量水位的第一雷達(dá)模塊和用于測量水體流速的第二雷達(dá)模塊，第一雷達(dá)模塊與第二雷達(dá)模塊中，至少第一雷達(dá)模塊使用多振子天線。殼體的內(nèi)壁面包括第一安裝面和第二安裝面，在監(jiān)測設(shè)備的預(yù)定的安裝狀態(tài)下，第一安裝面平行于待測水面，第二安裝面與第一安裝面連接且相對于第一安裝面傾斜，第一雷達(dá)模塊安裝于第一安裝面，第二雷達(dá)模塊安裝于第二安裝面，殼體與第一雷達(dá)模塊對應(yīng)位置的內(nèi)外兩側(cè)不設(shè)置透鏡而形成為平面結(jié)構(gòu)。

技術(shù)研發(fā)人員：請求不公布姓名,請求不公布姓名,請求不公布姓名,請求不公布姓名,請求不公布姓名
受保護(hù)的技術(shù)使用者：芯視界（北京）科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240509
技術(shù)公布日：2024/12/19