應(yīng)用諧波檢測率以作為用于基于成像的疊加測量的質(zhì)量指標(biāo)的系統(tǒng)及方法
1.相關(guān)申請案的交叉引用
2.本技術(shù)案根據(jù)35 u.s.c.
§
119(e)主張2019年9月17日申請的第62/901,652號美國臨時(shí)申請案的優(yōu)先權(quán),所述申請案的全部內(nèi)容以引用的方式并入本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
3.本公開大體上涉及成像疊加計(jì)量,且更特定來說,涉及使用諧波檢測率度量對基于圖像的光學(xué)信號進(jìn)行量化。
背景技術(shù):4.收縮的設(shè)計(jì)規(guī)則及對疊加計(jì)量的要求更高的規(guī)范驅(qū)使對疊加計(jì)量方法的敏感性及穩(wěn)健性的增加的需求。通常通過制造在多個(gè)所關(guān)注樣本層中具有制造特征的專屬計(jì)量目標(biāo)而執(zhí)行疊加計(jì)量?;趫D像的疊加計(jì)量通??砂谠诓煌P(guān)注層中的疊加目標(biāo)的特征的相對成像位置確定樣本上的兩個(gè)或更多個(gè)層之間的錯(cuò)位(misregistration)。疊加測量的準(zhǔn)確度可對與每一樣本層上的成像特征相關(guān)聯(lián)的圖像質(zhì)量敏感,所述圖像質(zhì)量可基于與照明及所探討的樣本相關(guān)聯(lián)的各種參數(shù)而變化。因此,在疊加計(jì)量目標(biāo)的測量之前,在選定配方中配置計(jì)量工具,所述選定配方包含用于給定計(jì)量測量的計(jì)量的各種配置。
5.用于配方選擇的當(dāng)前方法依賴于使用光學(xué)對比度或通過數(shù)個(gè)度量的組合中的任一者,所述數(shù)個(gè)度量特性化依據(jù)測量焦點(diǎn)及波長而變化的測量質(zhì)量的不同方面。將這些度量正規(guī)化且組合成單個(gè)合并分?jǐn)?shù)。用于配方選擇的當(dāng)前方法具有缺點(diǎn)。首先,組合成單個(gè)分?jǐn)?shù)的度量的選擇是主觀的且依賴于用戶關(guān)于使用哪些度量及應(yīng)如何加權(quán)且正規(guī)化度量的決策。其次,由于度量經(jīng)正規(guī)化,因此用于配方區(qū)分的其動(dòng)態(tài)范圍是有限的。這導(dǎo)致分?jǐn)?shù)飽和及測量條件歧義。因此,配方選擇的當(dāng)前方法可引起低質(zhì)量或不穩(wěn)定配方的選擇。因此,將期望提供一種用于解決先前方法(例如上文識別的方法)的缺點(diǎn)的系統(tǒng)及方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:6.本發(fā)明公開一種計(jì)量系統(tǒng)。在一個(gè)實(shí)施例中,所述系統(tǒng)包含可耦合到計(jì)量子系統(tǒng)的控制器,所述控制器包含經(jīng)配置以執(zhí)行程序指令的一或多個(gè)處理器。在一個(gè)實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以從所述計(jì)量子系統(tǒng)接收安置于樣本上的第一計(jì)量目標(biāo)的多個(gè)圖像信號。在另一實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以通過計(jì)算所述多個(gè)圖像信號中的每一者的諧波檢測率度量值而確定多個(gè)諧波檢測率度量值。在另一實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以基于所述多個(gè)諧波檢測率度量值識別所述計(jì)量子系統(tǒng)的一組光學(xué)測量條件,其中所述組光學(xué)測量條件定義所述計(jì)量子系統(tǒng)的光學(xué)計(jì)量測量的配方。在另一實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以將所述配方提供到所述計(jì)量子系統(tǒng)用于執(zhí)行一或多個(gè)額外計(jì)量目標(biāo)的一或多個(gè)光學(xué)計(jì)量測量。在一個(gè)實(shí)施例中,所述計(jì)量子系統(tǒng)包含用于產(chǎn)生照明的照明源。在另一實(shí)施例中,所述計(jì)量子系統(tǒng)包含用于將來自所述照明源的照明引
導(dǎo)到安置于樣本上的計(jì)量目標(biāo)的一或多個(gè)照明光學(xué)器件。在另一實(shí)施例中,所述計(jì)量子系統(tǒng)包含用于基于來自所述照明源的所述照明產(chǎn)生所述計(jì)量目標(biāo)的圖像的檢測器,其中所述計(jì)量子系統(tǒng)的光學(xué)配置為可配置的,其中所述光學(xué)配置包含所述照明的波長、入射于所述計(jì)量目標(biāo)上的所述照明的偏光、入射于所述計(jì)量目標(biāo)上的所述照明的角度,或所述計(jì)量目標(biāo)相對于所述檢測器的焦點(diǎn)位置。
7.本發(fā)明公開一種方法。在一個(gè)實(shí)施例中,所述方法包含接收安置于樣本上的第一計(jì)量目標(biāo)的多個(gè)圖像信號。在另一實(shí)施例中,所述方法包含通過計(jì)算所述多個(gè)圖像信號中的每一者的諧波檢測率度量值而確定多個(gè)諧波檢測率度量值。在另一實(shí)施例中,所述方法包含基于所述多個(gè)諧波檢測率度量值識別計(jì)量工具的一組光學(xué)測量條件,其中所述組光學(xué)測量條件定義所述計(jì)量工具的光學(xué)計(jì)量測量的配方。在另一實(shí)施例中,所述方法包含將所述配方提供到所述計(jì)量工具用于執(zhí)行一或多個(gè)額外計(jì)量目標(biāo)的一或多個(gè)光學(xué)計(jì)量測量。
8.本發(fā)明公開一種用于校準(zhǔn)的系統(tǒng)。在一個(gè)實(shí)施例中,所述系統(tǒng)包含可耦合到第一計(jì)量子系統(tǒng)及第二計(jì)量子系統(tǒng)的控制器,所述控制器包含經(jīng)配置以執(zhí)行程序指令的一或多個(gè)處理器。在一個(gè)實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以從所述第一計(jì)量子系統(tǒng)接收安置于樣本上的一或多個(gè)計(jì)量目標(biāo)的第一組圖像信號。在另一實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以從所述第二計(jì)量子系統(tǒng)接收安置于所述樣本上的一或多個(gè)計(jì)量目標(biāo)的第二組圖像信號。在另一實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以確定來自所述第一計(jì)量子系統(tǒng)的所述圖像信號的第一組諧波檢測率度量值。在另一實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以確定來自所述第二計(jì)量子系統(tǒng)的所述圖像信號的第二組諧波檢測率度量值。在另一實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以比較所述第一計(jì)量子系統(tǒng)的所述第一組諧波檢測率度量值與所述第二計(jì)量子系統(tǒng)的所述第二組諧波檢測率度量值。在另一實(shí)施例中,所述一或多個(gè)處理器經(jīng)配置以基于所述第一計(jì)量子系統(tǒng)的所述第一組諧波檢測率度量值與所述第二計(jì)量子系統(tǒng)的所述第二組諧波檢測率度量值的所述比較校準(zhǔn)所述第二計(jì)量子系統(tǒng)。
9.應(yīng)理解,前述一般描述及以下具體實(shí)施方式兩者僅為示范性的且說明性的,且不一定限制如所主張的本發(fā)明。并入本說明書中且構(gòu)成本說明書的一部分的附圖說明本發(fā)明的實(shí)施例且連同一般描述一起用于說明本發(fā)明的原理。
附圖說明
10.所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員通過參考附圖可更好地理解本公開的許多優(yōu)點(diǎn)。
11.圖1a是根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的具有基于諧波檢測率的配方選擇的基于圖像的光學(xué)計(jì)量系統(tǒng)的概念圖。
12.圖1b是根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的基于圖像的光學(xué)計(jì)量系統(tǒng)的框圖(block diagram view)。
13.圖2是描繪根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的顯示為依據(jù)照明波長及焦點(diǎn)而變化的諧波檢測率度量的等高線圖。
14.圖3是描繪根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的基于諧波檢測率的配方選擇的方法的流程圖。
15.圖4是根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的包含經(jīng)配置用于經(jīng)由諧波檢測率度量進(jìn)行校準(zhǔn)的多個(gè)計(jì)量子系統(tǒng)的系統(tǒng)的框圖。
16.圖5是描繪根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的用諧波檢測率度量校準(zhǔn)計(jì)量子系統(tǒng)/工具的方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
17.已關(guān)于特定實(shí)施例及其特定特征特別地展示及描述本公開。本文中所闡述的實(shí)施例被視為闡釋性的而非限制性的。所屬領(lǐng)域的一般技術(shù)人員應(yīng)容易明白,可在不脫離本公開的精神及范圍的情況下作出形式及細(xì)節(jié)上的各種改變及修改?,F(xiàn)將詳細(xì)參考在附圖中說明的所公開標(biāo)的物。
18.本公開的實(shí)施例涉及用于基于成像的疊加計(jì)量測量的諧波檢測率度量的實(shí)施方案。本公開的諧波檢測率度量允許用于疊加錯(cuò)位檢測的光學(xué)信號的量化。本公開的額外實(shí)施例提供使用諧波檢測率度量對計(jì)量工具的校準(zhǔn)及來自多個(gè)工具的疊加圖像數(shù)據(jù)的匹配。
19.半導(dǎo)體裝置可形成為襯底上的圖案化材料的多個(gè)印刷層。每一印刷層可通過一系列工藝步驟(例如但不限于一或多個(gè)材料沉積步驟、一或多個(gè)光刻步驟或一或多個(gè)蝕刻步驟)制造而成。在制造期間,每一印刷層通常必須在選定公差內(nèi)制造以適當(dāng)?shù)貥?gòu)造最終裝置。例如,必須相對于先前制造的層良好地特性化且控制每一層中的印刷元件的相對放置(例如,疊加或疊加參數(shù))。因此,可在一或多個(gè)印刷層上制造計(jì)量目標(biāo)以實(shí)現(xiàn)層的疊加的有效率特性化。因此,印刷層上的疊加目標(biāo)特征的偏差可代表所述層上的印刷裝置特征的印刷特性的偏差。此外,在一個(gè)制造步驟(例如,在一或多個(gè)樣本層的制造之后)測量的疊加可用于產(chǎn)生用于精確地對準(zhǔn)用于在后續(xù)制造步驟中制造額外樣本層的工藝工具(例如,光刻工具或類似者)的可校正量。
20.計(jì)量目標(biāo)通??砂?jīng)設(shè)計(jì)以提供一或多個(gè)印刷特性的準(zhǔn)確表示的良好定義印刷元件。在此方面,計(jì)量目標(biāo)(例如,通過計(jì)量工具)的印刷元件的經(jīng)測量特性可代表與所制造的裝置相關(guān)聯(lián)的印刷裝置元件。
21.通常通過跨樣本制造一或多個(gè)疊加目標(biāo)而執(zhí)行疊加計(jì)量,其中每一疊加目標(biāo)包含與相關(guān)聯(lián)于所制造的裝置或組件的特征同時(shí)制造的所關(guān)注樣本層中的特征。在此方面,在疊加目標(biāo)的位置處測量的疊加誤差可代表裝置特征的疊加誤差。因此,疊加測量可用于監(jiān)測及/或控制任何數(shù)目個(gè)制造工具以根據(jù)指定公差維持裝置的生產(chǎn)。例如,當(dāng)前層相對于一個(gè)樣本上的先前層的疊加測量可用作用于監(jiān)測及/或緩解批次內(nèi)的額外樣本上的當(dāng)前層的制造的偏差的反饋數(shù)據(jù)。通過另一實(shí)例,當(dāng)前層相對于一個(gè)樣本上的先前層的疊加測量可用作用于以考慮現(xiàn)有層對準(zhǔn)的方式在相同樣本上制造后續(xù)層的前饋數(shù)據(jù)。
22.疊加目標(biāo)通常包含具體設(shè)計(jì)為對所關(guān)注樣本層之間的疊加誤差敏感的特征。接著,可通過使用疊加計(jì)量工具特性化疊加目標(biāo)且應(yīng)用算法以基于計(jì)量工具的輸出確定樣本上的疊加誤差而實(shí)行疊加測量。
23.與疊加測量技術(shù)無關(guān),疊加計(jì)量工具通??筛鶕?jù)包含用于產(chǎn)生疊加信號的一組測量參數(shù)的配方配置。例如,疊加計(jì)量工具的配方可包含但不限于照明波長、從樣本發(fā)出的輻射的經(jīng)檢測波長、樣本上的照明的光點(diǎn)大小、入射照明的角度、入射照明的偏光、入射照明光束在疊加目標(biāo)上的位置、疊加目標(biāo)在疊加計(jì)量工具的焦體積(focal volume)中的位置或類似者。因此,疊加配方可包含用于產(chǎn)生適用于確定兩個(gè)或更多個(gè)樣本層的疊加的疊加信號的一組測量參數(shù)。
24.疊加計(jì)量工具可利用多種技術(shù)來確定樣本層的疊加。例如,基于圖像的疊加計(jì)量工具可照明疊加目標(biāo)(例如,先進(jìn)成像計(jì)量(aim)目標(biāo)、框中框(box-in-box)計(jì)量目標(biāo)或類似者)且捕捉包含定位于不同樣本層上的疊加目標(biāo)特征的圖像的疊加信號。因此,可通過測量疊加目標(biāo)特征的相對位置而確定疊加。
25.本文中應(yīng)認(rèn)知,各種疊加計(jì)量工具可用于測量疊加。例如,光學(xué)計(jì)量工具(例如,使用電磁輻射用于照明及/或檢測的基于光的計(jì)量工具)可使用許多技術(shù)提供高處理量疊加測量,所述技術(shù)例如但不限于確定圖像中的多個(gè)層上的在空間上分離的特征的相對位置,直接測量多個(gè)層上的ppe,或其中基于從多個(gè)層上的衍射光柵散射及/或衍射的光確定疊加的散射測量。出于本公開的目的,術(shù)語“光學(xué)計(jì)量工具”、“光學(xué)計(jì)量技術(shù)”及類似者指示使用具任何波長(例如但不限于x射線波長、極紫外線(euv)波長、真空紫外線(vuv)波長、深紫外線(duv)波長、紫外線(uv)波長、可見光波長或紅外線(ir)波長)的電磁輻射的計(jì)量工具及技術(shù)。與疊加測量相關(guān)的系統(tǒng)、方法及設(shè)備大體上在以下專利中描述:2012年12月11日申請的標(biāo)題為“疊加標(biāo)記、疊加標(biāo)記設(shè)計(jì)方法及疊加測量方法(overlay marks,methods of overlay mark design and methods of overlay measurements)”的第8,330,281號美國專利;2016年10月25日申請的標(biāo)題為“周期性圖案及控制兩層之間的錯(cuò)位的技術(shù)(periodic patterns and technique to control misalignment between two layers)”的第9,476,698號美國專利;2009年6月2日申請的標(biāo)題為“用于確定具有旋轉(zhuǎn)或鏡像對稱性的結(jié)構(gòu)疊加的設(shè)備及方法(apparatus and methods for determining overlay of structures having rotational or mirror symmetry)”的第7,541,201號美國專利;2013年2月7日申請的標(biāo)題為“用于提供用于改進(jìn)工藝控制的質(zhì)量度量的方法及系統(tǒng)(method and system for providing a quality metric for improved process control)”的第2013/0035888號美國專利公開案;2015年12月15日申請的標(biāo)題為“sem疊加計(jì)量的系統(tǒng)及方法(system and method of sem overlay metrology)”的第9,214,317號美國專利;2020年1月7日申請的標(biāo)題為“復(fù)合成像計(jì)量目標(biāo)(compound imaging metrology targets)”的第10,527,951b2號美國專利;2019年1月29日申請的標(biāo)題為“具有反射非對稱結(jié)構(gòu)的反射對稱對的計(jì)量成像目標(biāo)(metrology imaging targets having reflection-symmetric pairs of reflection-asymmetric structures)”的第10,190,979b2號美國專利;及2016年6月27日申請的標(biāo)題為“用于圖案放置及圖案大小的測量的設(shè)備及方法及其計(jì)算機(jī)程序(apparatus and method for the measurement of pattern placement and size of pattern and computer program therefor)”的第pct/us2016/039531號pct申請案,全部所述專利的全部內(nèi)容以引用的方式并入本文中。
26.如在本公開各處使用,術(shù)語“樣本”大體上指代由半導(dǎo)體或非半導(dǎo)體材料形成的襯底(例如,晶片或類似者)。例如,半導(dǎo)體或非半導(dǎo)體材料可包含但不限于單晶硅、砷化鎵及磷化銦。樣本可包含一或多個(gè)層。例如,此類層可包含但不限于抗蝕劑(包含光致抗蝕劑)、介電材料、導(dǎo)電材料及半導(dǎo)電材料。許多不同類型的此類層在此項(xiàng)技術(shù)中已知,且如本文中所使用的術(shù)語樣本旨在涵蓋其上可形成全部類型的此類層的樣本。形成于樣本上的一或多個(gè)層可經(jīng)圖案化或未經(jīng)圖案化。例如,樣本可包含每一者具有可重復(fù)圖案化特征的多個(gè)裸片。此類材料層的形成及處理最終可導(dǎo)致成品裝置。許多不同類型的裝置可形成于樣本上,且如本文中所使用的術(shù)語樣本旨在涵蓋在其上制造此項(xiàng)技術(shù)中已知的任何類型的裝置的
樣本。此外,出于本公開的目的,術(shù)語樣本及晶片應(yīng)被解釋為可互換的。另外,出于本公開的目的,術(shù)語圖案化裝置、掩模及光罩應(yīng)被解釋為可互換的。
27.圖1a是說明根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的基于圖像的光學(xué)計(jì)量系統(tǒng)100的概念圖。系統(tǒng)100可包含但不限于計(jì)量子系統(tǒng)102。系統(tǒng)100可額外地包含但不限于控制器103??刂破?03可包含一或多個(gè)處理器106、存儲(chǔ)器108且可包含或耦合到用戶接口110。計(jì)量子系統(tǒng)102可包含此項(xiàng)技術(shù)中已知的任何計(jì)量子系統(tǒng),包含但不限于光學(xué)計(jì)量子系統(tǒng)。例如,計(jì)量子系統(tǒng)102可包含但不限于基于成像的光學(xué)計(jì)量子系統(tǒng)。出于本公開的目的,術(shù)語“計(jì)量系統(tǒng)”可與術(shù)語“計(jì)量工具”互換。在此意義上,計(jì)量子系統(tǒng)102及控制器103可形成計(jì)量系統(tǒng)100(或計(jì)量工具)。
28.計(jì)量子系統(tǒng)102可經(jīng)配置以基于任何數(shù)目個(gè)疊加配方從疊加目標(biāo)獲取疊加信號。計(jì)量子系統(tǒng)201可在成像模式中操作。例如,在成像模式中,個(gè)別疊加目標(biāo)元件可在樣本上的經(jīng)照明光點(diǎn)內(nèi)分辨(例如,作為明場圖像、暗場圖像、相位對比度圖像或類似者的部分)。在一個(gè)實(shí)施例中,計(jì)量子系統(tǒng)102可將照明引導(dǎo)到樣本且可進(jìn)一步收集從樣本發(fā)出的輻射以產(chǎn)生適用于確定兩個(gè)或更多個(gè)樣本層的疊加的疊加信號。計(jì)量子系統(tǒng)102可配置以基于定義用于獲取適用于確定疊加目標(biāo)的疊加的疊加信號的測量參數(shù)的任何數(shù)目個(gè)配方產(chǎn)生疊加信號。例如,疊加子系統(tǒng)102的配方可包含但不限于照明波長、從樣本發(fā)出的輻射的經(jīng)檢測波長、樣本上的照明的光點(diǎn)大小、入射照明的角度、入射照明的偏光、入射照明光束在疊加目標(biāo)上的位置、疊加目標(biāo)在疊加計(jì)量工具的焦體積中的位置及類似者。
29.計(jì)量子系統(tǒng)102可包含此項(xiàng)技術(shù)中已知的適用于從疊加計(jì)量目標(biāo)產(chǎn)生計(jì)量數(shù)據(jù)的任何類型的光學(xué)計(jì)量工具。例如,計(jì)量子系統(tǒng)102可經(jīng)配置用于測量來自先進(jìn)成像計(jì)量(aim)目標(biāo)、先進(jìn)成像計(jì)量裸片中(aimid)目標(biāo)、三重先進(jìn)成像計(jì)量(三重aim)目標(biāo)、框中框(bib)目標(biāo)及類似者中的一或多者的疊加計(jì)量信號。
30.在一個(gè)實(shí)施例中,控制器103通信地耦合到計(jì)量子系統(tǒng)102。在一個(gè)實(shí)施例中,控制器103經(jīng)配置以產(chǎn)生且提供一或多個(gè)控制信號,所述一或多個(gè)控制信號經(jīng)配置以執(zhí)行對一或多個(gè)計(jì)量子系統(tǒng)102的一或多個(gè)部分的一或多個(gè)調(diào)整。在另一實(shí)施例中,控制器103經(jīng)配置以從計(jì)量子系統(tǒng)102接收圖像數(shù)據(jù)??刂破?03的一或多個(gè)處理器105可執(zhí)行在本公開各處描述的各種過程步驟中的任一者。
31.在一個(gè)實(shí)施例中,控制器103經(jīng)配置以從計(jì)量子系統(tǒng)112接收安置于樣本111上的第一計(jì)量目標(biāo)的多個(gè)圖像信號。在另一實(shí)施例中,控制器103經(jīng)配置以通過計(jì)算多個(gè)圖像信號中的每一者的諧波檢測率度量值而確定多個(gè)諧波檢測率度量值。在另一實(shí)施例中,控制器103經(jīng)配置以基于多個(gè)諧波檢測率度量值識別計(jì)量子系統(tǒng)的一組光學(xué)測量條件,其中所述組光學(xué)測量條件定義用于計(jì)量子系統(tǒng)的光學(xué)計(jì)量測量的配方。在另一實(shí)施例中,控制器103經(jīng)配置以將配方提供到計(jì)量子系統(tǒng)102用于執(zhí)行一或多個(gè)額外計(jì)量目標(biāo)(例如,后續(xù)樣本上的目標(biāo))的一或多個(gè)光學(xué)計(jì)量測量。
32.圖1b說明根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的基于圖像的疊加計(jì)量系統(tǒng)100的簡化示意圖。計(jì)量系統(tǒng)100可使用此項(xiàng)技術(shù)中已知的任何方法在至少一個(gè)檢測器104上產(chǎn)生樣本111的一或多個(gè)疊加計(jì)量目標(biāo)的一或多個(gè)圖像。
33.在一個(gè)實(shí)施例中,計(jì)量系統(tǒng)100包含用于產(chǎn)生照明光束108的照明源106。照明光束108可包含一或多個(gè)選定波長的光,包含但不限于真空紫外線輻射(vuv)、深紫外線輻射
(duv)、紫外線(uv)輻射、可見光輻射或紅外線(ir)輻射。照明源106可進(jìn)一步產(chǎn)生包含選定波長的任何范圍的照明光束108。在另一實(shí)施例中,照明源106可包含用于產(chǎn)生具有可調(diào)諧光譜的照明光束108的光譜可調(diào)諧照明源。
34.照明源106可進(jìn)一步產(chǎn)生具有任何時(shí)間輪廓的照明光束108。例如,照明源106可產(chǎn)生連續(xù)照明光束108、脈沖照明光束108或經(jīng)調(diào)變照明光束108。另外,照明光束108可從照明源106經(jīng)由自由空間傳播或?qū)б?例如,光纖、光管或類似者)遞送。
35.在另一實(shí)施例中,照明源106經(jīng)由照明路徑110將照明光束108引導(dǎo)到樣本111。照明路徑110可包含適用于修改及/或調(diào)節(jié)照明光束108的一或多個(gè)透鏡112或額外照明光學(xué)組件114。例如,一或多個(gè)照明光學(xué)組件114可包含但不限于一或多個(gè)偏光器、一或多個(gè)濾光片、一或多個(gè)光束分離器、一或多個(gè)漫射體、一或多個(gè)均質(zhì)器、一或多個(gè)變跡器、一或多個(gè)光束整形器或一或多個(gè)快門(例如,機(jī)械快門、電光快門、聲光快門或類似者)。通過另一實(shí)例,一或多個(gè)照明光學(xué)組件114可包含用于控制樣本111上的照明角度的孔徑光闌及/或用于控制樣本111上的照明的空間范圍的視場光闌。在另一實(shí)施例中,計(jì)量系統(tǒng)100包含用于將照明光束108聚焦到樣本111上的物鏡116。
36.在另一實(shí)施例中,樣本111安置于樣本載物臺(tái)118上。樣本載物臺(tái)118可包含適用于將樣本111定位在計(jì)量系統(tǒng)100內(nèi)的任何裝置。例如,樣本載物臺(tái)118可包含線性平移載物臺(tái)、旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)、尖端/傾斜載物臺(tái)或類似者的任何組合。
37.在另一實(shí)施例中,檢測器104經(jīng)配置以通過集光路徑122捕捉從樣本111發(fā)出的輻射(例如,樣本光120)。例如,集光路徑122可包含(但不要求包含)集光透鏡(例如,如圖1中所說明的物鏡116)或一或多個(gè)額外集光路徑透鏡124。在此方面檢測器104可接收從樣本111反射或散射(例如,經(jīng)由鏡面反射、漫反射及類似者)或由樣本111產(chǎn)生(例如,與照明光束108的吸收相關(guān)聯(lián)的發(fā)光或類似者)的輻射。
38.集光路徑122可進(jìn)一步包含用于引導(dǎo)及/或修改由物鏡116收集的照明的任何數(shù)目個(gè)集光光學(xué)組件126,包含但不限于一或多個(gè)集光路徑透鏡124、一或多個(gè)濾光片、一或多個(gè)偏光器或一或多個(gè)光束擋塊。另外,集光路徑122可包含用于控制成像到檢測器104上的樣本的空間范圍的視場光闌或用于控制來自樣本的用于在檢測器104上產(chǎn)生圖像的照明的角度范圍的孔徑光闌。在另一實(shí)施例中,集光路徑122包含經(jīng)定位在與光學(xué)元件(物鏡116)的后焦平面共軛的平面中以提供樣本的遠(yuǎn)心成像的孔徑光闌。在一個(gè)實(shí)施例中,計(jì)量子系統(tǒng)102包含經(jīng)定向使得物鏡116可同時(shí)將照明光束108引導(dǎo)到樣本111及收集從樣本111發(fā)出的輻射的光束分離器128。
39.檢測器104可包含此項(xiàng)技術(shù)中已知的適用于測量從樣本111接收的照明的任何類型的光學(xué)檢測器。例如,檢測器104可包含但不限于ccd檢測器、tdi檢測器、光電倍增管(pmt)、崩潰光電二極管(apd)、互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(cmos)傳感器或類似者。在另一實(shí)施例中,檢測器104可包含適用于識別從樣本111發(fā)出的光的波長的光譜檢測器。
40.控制器103的一或多個(gè)處理器105可包含此項(xiàng)技術(shù)中已知的任何處理器或處理元件。出于本公開的目的,術(shù)語“處理器”或“處理元件”可廣泛定義為涵蓋具有一或多個(gè)處理或邏輯元件的任何裝置(例如,一或多個(gè)微處理器裝置、一或多個(gè)專用集成電路(asic)裝置、一或多個(gè)現(xiàn)場可編程門陣列(fpga)或一或多個(gè)數(shù)字信號處理器(dsp))。在此意義上,一或多個(gè)處理器105可包含經(jīng)配置以執(zhí)行算法及/或指令(例如,存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中的程序指令)
的任何裝置。在一個(gè)實(shí)施例中,一或多個(gè)處理器105可體現(xiàn)為桌面計(jì)算機(jī)、主計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、工作站、圖像計(jì)算機(jī)、平行處理器、網(wǎng)絡(luò)計(jì)算機(jī)或經(jīng)配置以執(zhí)行程序(其經(jīng)配置以操作計(jì)量系統(tǒng)100或結(jié)合計(jì)量系統(tǒng)100操作)的任何其它計(jì)算機(jī)系統(tǒng),如在本公開各處描述。此外,系統(tǒng)100的不同子系統(tǒng)可包含適用于實(shí)行本公開中所描述的步驟的至少一部分的處理器或邏輯元件。因此,上文描述不應(yīng)被解釋為對本公開的實(shí)施例的限制而是僅為說明。此外,在本公開各處描述的步驟可通過單個(gè)控制器或替代地多個(gè)控制器實(shí)行。另外,控制器103可包含容置于共同外殼中或在多個(gè)外殼內(nèi)的一或多個(gè)控制器。以此方式,任何控制器或控制器的組合可分開封裝為適用于集成到計(jì)量系統(tǒng)100中的模塊。此外,控制器103可分析從檢測器104接收的數(shù)據(jù)且將數(shù)據(jù)饋送到計(jì)量系統(tǒng)100內(nèi)或計(jì)量系統(tǒng)100外部的額外組件。
41.存儲(chǔ)器媒體107可包含此項(xiàng)技術(shù)中已知的適用于存儲(chǔ)可由相關(guān)聯(lián)的一或多個(gè)處理器105執(zhí)行的程序指令的任何存儲(chǔ)媒體。例如,存儲(chǔ)器媒體107可包含非暫時(shí)性存儲(chǔ)器媒體。通過另一實(shí)例,存儲(chǔ)器媒體107可包含但不限于只讀存儲(chǔ)器(rom)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(ram)、磁性或光學(xué)存儲(chǔ)器裝置(例如,磁盤)、磁帶、固態(tài)驅(qū)動(dòng)器及類似者。進(jìn)一步應(yīng)注意,存儲(chǔ)器媒體107可與一或多個(gè)處理器105一起容置于共同控制器外殼中。在一個(gè)實(shí)施例中,存儲(chǔ)器媒體107可相對于一或多個(gè)處理器105及控制器103的物理位置遠(yuǎn)程定位。例如,控制器103的一或多個(gè)處理器105可存取可通過網(wǎng)絡(luò)(例如,因特網(wǎng)、內(nèi)部網(wǎng)絡(luò)及類似者)存取的遠(yuǎn)程存儲(chǔ)器(例如,服務(wù)器)。
42.在一個(gè)實(shí)施例中,用戶接口通信地耦合到控制器103。在一個(gè)實(shí)施例中,用戶接口110可包含但不限于一或多個(gè)桌面計(jì)算機(jī)、膝上型計(jì)算機(jī)、平板計(jì)算機(jī)及類似者。在另一實(shí)施例中,用戶接口110包含用于將系統(tǒng)100的數(shù)據(jù)顯示給用戶的顯示器。用戶接口110的顯示器可包含此項(xiàng)技術(shù)中已知的任何顯示器。例如,顯示器可包含但不限于液晶顯示器(lcd)、基于有機(jī)發(fā)光二極管(oled)的顯示器或crt顯示器。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)認(rèn)知,能夠與用戶接口110集成的任何顯示裝置適用于本公開中的實(shí)施方案。在另一實(shí)施例中,用戶可響應(yīng)于顯示給用戶的數(shù)據(jù)而經(jīng)由用戶接口110的用戶輸入裝置輸入選擇及/或指令。
43.在一個(gè)實(shí)施例中,在從樣本111的一或多個(gè)第一計(jì)量目標(biāo)獲取一或多個(gè)圖像信號之后,控制器103可確定或計(jì)算一組諧波檢測率度量值。在進(jìn)行此時(shí),控制器103可計(jì)算從計(jì)量子系統(tǒng)102接收的圖像信號109中的每一者的諧波檢測率度量值。在一個(gè)實(shí)施例中的,相應(yīng)圖像信號113的相應(yīng)諧波檢測率度量值依據(jù)從樣本111的第一計(jì)量目標(biāo)的圖像信號提取的非諧噪聲的諧波信號強(qiáng)度及表面反射率而變化。本公開的諧波檢測率度量是描述疊加目標(biāo)對同調(diào)照明的響應(yīng)(“諧波比”)及從疊加目標(biāo)發(fā)射的經(jīng)收集光的信噪比(“檢測率”)的兩個(gè)物理優(yōu)值(figure of merit)的組合(即,幾何平均值)。諧波檢測率度量可如下定義:
[0044][0045]
其中與信號113相關(guān)聯(lián)的諧波檢測率可表達(dá)為信號113的諧波靈敏度及檢測率的函數(shù)。諧波靈敏度可與信號113的諧波信號強(qiáng)度及目標(biāo)的表面反射率有關(guān),如下:
[0046][0047]
其中檢測率與信號113的諧波信號強(qiáng)度及非諧噪聲有關(guān),如下:
[0048][0049]
因此,組合等式1到等式3提供:
[0050][0051]
由計(jì)量系統(tǒng)100記錄的信號是周期結(jié)構(gòu)或光柵(即,疊加計(jì)量目標(biāo))的圖像,所述信號接著用于提取疊加信息。光柵的圖像可沿著非周期性方向集成,此產(chǎn)生一個(gè)一維圖像“核心”。經(jīng)測量圖像核心是周期性的且可經(jīng)歷傅里葉分解(fourier decomposition)。在分解之后,信號接著可通過恒定偏移且通過正弦及余弦項(xiàng)(每一項(xiàng)乘以其自身的系數(shù)(即,合成核心))的總和表示。在一個(gè)實(shí)施例中,將“諧波信號強(qiáng)度”計(jì)算為傅里葉分解的全部諧波系數(shù)的總和。表面反射率可表示核心的恒定偏移。非諧噪聲可表示經(jīng)測量核心與合成圖像核心之間的差異的變動(dòng)或“殘余噪聲”。
[0052]
等式4的諧波檢測率是可從原始經(jīng)測量信號109導(dǎo)出且可解譯為計(jì)量子系統(tǒng)102、樣本的層(例如,半導(dǎo)體裝置中的工藝層)與所檢查的疊加目標(biāo)之間的交互作用的基本物理優(yōu)值(fundamental physical merit)。
[0053]
應(yīng)注意,諧波檢測率不飽和,且因此提供無限動(dòng)態(tài)范圍且允許最佳配方條件選擇。在此意義上,諧波檢測率是在基于圖像的疊加計(jì)量測量期間與計(jì)量子系統(tǒng)102的特定測量配置相關(guān)聯(lián)的諧波信號測量的量化量度。此與當(dāng)前實(shí)施的方案形成對比,借此導(dǎo)數(shù)度量被重新組合成單個(gè)分?jǐn)?shù)且易有用戶偏差(user bias)。
[0054]
在另一實(shí)施例中,控制器103經(jīng)配置以基于諧波檢測率度量值(其表示基于圖像的疊加測量的優(yōu)選“配方”)識別計(jì)量子系統(tǒng)102的一組光學(xué)測量條件。在此方面,控制器103(或另一計(jì)算機(jī)系統(tǒng))可識別所述組光學(xué)測量條件,所述組光學(xué)測量條件是最佳的或至少令人滿意的,以定義用于計(jì)量子系統(tǒng)102的光學(xué)計(jì)量測量的配方。接著,控制器103可將配方提供到計(jì)量子系統(tǒng)102用于執(zhí)行一或多個(gè)額外計(jì)量目標(biāo)(例如,后續(xù)樣本上的目標(biāo))的一或多個(gè)光學(xué)計(jì)量測量。
[0055]
為了識別最佳(或令人滿意的)配方條件的組,控制器103可在不同組光學(xué)測量條件下確定諧波檢測率度量值的值,從而有效地跨所探討的參數(shù)空間映射諧波檢測率。例如,控制器103可跨計(jì)量子系統(tǒng)109的不同組的焦點(diǎn)及波長值(或任何其它組的計(jì)量子系統(tǒng)/工具設(shè)定)確定諧波檢測率度量的值。應(yīng)注意,從給定計(jì)量目標(biāo)獲取的相應(yīng)圖像信號113的諧波檢測率度量的值單調(diào)地取決于與圖像信號113相關(guān)聯(lián)的諧波信號強(qiáng)度、非諧噪聲及表面反射率。因此,諧波檢測率度量的值越高,那么用于測量給定目標(biāo)類型的疊加的特定疊加信號的質(zhì)量越佳。在一個(gè)實(shí)施例中,可通過基于對應(yīng)諧波檢測率度量的值對每一組測量條件(例如,波長及焦點(diǎn))進(jìn)行排名而獲取計(jì)量子系統(tǒng)102的配方。在此方面,顯示最高諧波檢測率度量值的所述組光學(xué)條件表示“最佳”條件且合適在計(jì)量子系統(tǒng)102的候選配方中實(shí)施。圖2是描繪針對來自相應(yīng)疊加目標(biāo)的信號109計(jì)算且顯示為依據(jù)計(jì)量子系統(tǒng)109的照明波長及焦點(diǎn)而變化的諧波檢測率度量值的等高線圖??苫趫D的局部最大值選擇候選配方,其中每一峰值或“島”(在圖的局部最大值處)的僅一個(gè)測量條件被視為獨(dú)有候選配方。應(yīng)注
意,圖2的等高線圖包含兩個(gè)局部最大值,一者在大約λ=570nm及-50nm的焦點(diǎn)且另一者在大約λ=710nm及-500nm的焦點(diǎn)。在此實(shí)例中,可選擇這些條件兩者作為候選配方。
[0056]
圖3是描繪根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的應(yīng)用諧波檢測率度量以識別計(jì)量工具的基于圖像的疊加計(jì)量配方的方法300的流程圖。申請人指出,本文中先前在計(jì)量系統(tǒng)100的上下文中描述的實(shí)施例及實(shí)現(xiàn)技術(shù)應(yīng)被解釋為擴(kuò)展到方法300。然而,進(jìn)一步應(yīng)注意,方法300不限于計(jì)量系統(tǒng)100的架構(gòu)。
[0057]
在步驟302中,方法300從計(jì)量子系統(tǒng)(或工具)102接收安置于樣本上的第一計(jì)量目標(biāo)的一組圖像信號。例如,計(jì)量子系統(tǒng)102可從第一計(jì)量目標(biāo)(或第一組計(jì)量目標(biāo))獲取圖像數(shù)據(jù)且將指示圖像數(shù)據(jù)的信號傳輸?shù)娇刂破?05的一或多個(gè)處理器103。
[0058]
在步驟304中,方法300通過計(jì)算所述組圖像信號中的每一者的諧波檢測率度量值而確定一組諧波檢測率度量值。例如,控制器103的一或多個(gè)處理器105可執(zhí)行存儲(chǔ)器107中的程序指令,所述程序指令使用本文中先前描述的等式4計(jì)算一組條件(例如,波長、焦點(diǎn)等)中的每一者的諧波檢測率值。所分析的條件可包含但不限于圖像形式光束的偏光、照明的角度、計(jì)量目標(biāo)的焦點(diǎn)或焦點(diǎn)位置、波長、偏光及類似者。
[0059]
在步驟306中,方法300基于所述組諧波檢測率度量值識別計(jì)量子系統(tǒng)10的一組光學(xué)測量條件。在此意義上,所述組光學(xué)測量條件定義計(jì)量子系統(tǒng)102的光學(xué)計(jì)量測量的配方。例如,控制器103的一或多個(gè)處理器105可對經(jīng)計(jì)算諧波檢測率度量值進(jìn)行排名(例如,從最高到最低),且接著識別與一或多個(gè)最高信號對應(yīng)的條件的組。產(chǎn)生最高諧波檢測率度量值的所述組條件表示合適并入到疊加計(jì)量配方中的條件。
[0060]
在步驟308中,方法將經(jīng)識別配方提供到計(jì)量子系統(tǒng)102用于執(zhí)行樣本111的一或多個(gè)額外計(jì)量目標(biāo)的一或多個(gè)光學(xué)計(jì)量測量。例如,控制器103的一或多個(gè)處理器105可指導(dǎo)計(jì)量子系統(tǒng)102使用在步驟306中識別的配方實(shí)行對樣本或額外樣本的額外基于圖像的疊加測量。
[0061]
雖然大多數(shù)本公開已專注于諧波檢測率度量在最佳配方識別的上下文中的研發(fā)及應(yīng)用,但應(yīng)注意,諧波檢測率度量可用于校準(zhǔn)計(jì)量工具及匹配/組合來自多個(gè)工具的基于圖像的計(jì)量數(shù)據(jù)。
[0062]
圖4說明包含經(jīng)配置用于經(jīng)由諧波檢測率度量進(jìn)行校準(zhǔn)的多個(gè)計(jì)量子系統(tǒng)的系統(tǒng)400的框圖。由于本公開的諧波檢測率度量僅取決于所探討的計(jì)量子系統(tǒng)/工具及樣本/疊加目標(biāo)組合,因此可利用諧波檢測率度量以通過比較在相同樣本(例如,晶片)上但在不同工具上測量的諧波檢測率度量景觀數(shù)據(jù)(類似于圖2)而執(zhí)行工具校準(zhǔn)及/或基于圖像的計(jì)量數(shù)據(jù)的匹配??稍诠ぞ呱a(chǎn)期間且在現(xiàn)場實(shí)行此校準(zhǔn)。
[0063]
在一個(gè)實(shí)施例中,控制器103從第一計(jì)量子系統(tǒng)102a接收安置于樣本上的一或多個(gè)計(jì)量目標(biāo)的圖像信號。接著,控制器103可確定/計(jì)算與來自第一計(jì)量子系統(tǒng)102a的圖像信號對應(yīng)的第一組諧波檢測率度量值。
[0064]
在另一實(shí)施例中,控制器103從第二計(jì)量子系統(tǒng)接收安置于樣本111(與如通過第一計(jì)量子系統(tǒng)102a測量的樣本相同)上的一或多個(gè)計(jì)量目標(biāo)的圖像信號。接著,控制器103可確定與來自第二計(jì)量子系統(tǒng)102b的圖像信號對應(yīng)的第二組諧波檢測率度量值。
[0065]
在另一實(shí)施例中,控制器103比較第一計(jì)量子系統(tǒng)102a的第一組諧波檢測率度量值與第二計(jì)量子系統(tǒng)102的第二組諧波檢測率度量值。此比較可以適用于等高線圖比較的
任何方式實(shí)行。在此方面,控制器103可比較映像為依據(jù)兩個(gè)或更多個(gè)條件(例如,焦點(diǎn)及波長)而變化的第一組諧波度量值的景觀圖與也映射為依據(jù)兩個(gè)或更多個(gè)條件(例如,焦點(diǎn)及波長)而變化的第二組諧波度量值的景觀圖。在此實(shí)施例中,比較可包含減去圖的個(gè)別值以識別“差異圖”。
[0066]
在另一實(shí)施例中,控制器103可基于第一組諧波檢測率度量值與第二組諧波檢測率度量值的比較來校準(zhǔn)第二計(jì)量子系統(tǒng)。例如,控制器103可將控制指令提供到第二計(jì)量子系統(tǒng)102b(假定第一計(jì)量子系統(tǒng)經(jīng)良好校準(zhǔn))以調(diào)整或調(diào)諧第二計(jì)量子系統(tǒng)102b的一或多個(gè)條件(例如,焦點(diǎn)、波長、入射角、偏光等),直到景觀圖的差異在選定閾值差異內(nèi)。
[0067]
在另一實(shí)施例中,控制器103可基于第一組諧波檢測率度量值與第二諧波檢測率度量值的比較來調(diào)整運(yùn)用第二計(jì)量子系統(tǒng)102b獲取的基于圖像的疊加計(jì)量數(shù)據(jù)。在另一實(shí)施例中,控制器103可組合來自第一計(jì)量子系統(tǒng)的基于圖像的疊加計(jì)量數(shù)據(jù)與來自第二計(jì)量子系統(tǒng)102b的經(jīng)校準(zhǔn)基于圖像的疊加計(jì)量數(shù)據(jù),以“匹配”來自兩個(gè)計(jì)量子系統(tǒng)102a、102b的圖像。
[0068]
圖5是描繪根據(jù)本公開的一或多個(gè)實(shí)施例的運(yùn)用諧波檢測率度量校準(zhǔn)計(jì)量子系統(tǒng)/工具的方法500的流程圖。申請人指出,本文中先前在計(jì)量系統(tǒng)100的上下文中描述的實(shí)施例及實(shí)現(xiàn)技術(shù)應(yīng)被解釋為擴(kuò)展到方法500。然而,進(jìn)一步應(yīng)注意,方法500不限于計(jì)量系統(tǒng)100的架構(gòu)。
[0069]
在步驟502中,方法500包含從第一計(jì)量子系統(tǒng)102a接收安置于樣本111上的一或多個(gè)計(jì)量目標(biāo)的第一組圖像信號113a。在步驟504中,方法500包含從第二計(jì)量子系統(tǒng)102b接收安置于樣本111上的一或多個(gè)計(jì)量目標(biāo)的第二組圖像信號113b。在步驟506中,方法500包含確定來自第一計(jì)量子系統(tǒng)102a的圖像信號113a的第一組諧波檢測率度量值。在步驟508中,方法500包含確定來自第二計(jì)量子系統(tǒng)102b的圖像信號的第二組諧波檢測率度量值113b。在步驟510中,方法500包含比較第一計(jì)量子系統(tǒng)102a的第一組諧波檢測率度量值與第二計(jì)量子系統(tǒng)102b的第二組諧波檢測率度量值。在步驟512中,方法500包含基于第一計(jì)量子系統(tǒng)102a的第一組諧波檢測率度量值與第二計(jì)量子系統(tǒng)102b的第二組諧波檢測率度量值的比較來校準(zhǔn)第二計(jì)量子系統(tǒng)102b。
[0070]
本文中所描述的全部方法可包含將方法實(shí)施例的一或多個(gè)步驟的結(jié)果存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中。結(jié)果可包含本文中所描述的任何結(jié)果且可以此項(xiàng)技術(shù)中已知的任何方式存儲(chǔ)。存儲(chǔ)器可包含本文中所描述的任何存儲(chǔ)器或此項(xiàng)技術(shù)中已知的任何其它合適的存儲(chǔ)媒體。在已存儲(chǔ)結(jié)果之后,結(jié)果可在存儲(chǔ)器中存取且通過本文中所描述的任何方法或系統(tǒng)實(shí)施例使用、經(jīng)格式化用于顯示給用戶、通過另一軟件模塊、方法或系統(tǒng)使用,及類似者。此外,結(jié)果可“永久地”、“半永久地”、“暫時(shí)地”存儲(chǔ)或存儲(chǔ)達(dá)某一時(shí)段。例如,存儲(chǔ)器可為隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(ram),且結(jié)果可能不一定無限期地保存在存儲(chǔ)器中。
[0071]
進(jìn)一步考慮,上文描述的方法的實(shí)施例中的每一者可包含本文中所描述的任何(若干)其它方法的任何(若干)其它步驟。另外,上文所描述的方法的實(shí)施例中的每一者可通過本文中所描述的任何系統(tǒng)執(zhí)行。
[0072]
所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將認(rèn)知,為概念清楚起見,將本文中的所描述組件操作、裝置、對象及伴隨其的論述用作實(shí)例,且考慮各種配置修改。因此,如本文中所使用,所闡述的特定范例及所附論述旨在代表其更一般類別。一般來說,使用任何特定范例旨在代表其類
別,且未包含特定組件操作、裝置及對象不應(yīng)被視為限制性的。
[0073]
如本文中所使用,例如“頂部”、“底部”、“上方”、“下方”、“上”、“向上”、“下”、“向下”及“往下”的方向性術(shù)語旨在為描述的目的而提供相對位置,且并不旨在指定絕對參考系。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將明白對所描述實(shí)施例的各種修改,且本文中所定義的一般原理可應(yīng)用于其它實(shí)施例。
[0074]
關(guān)于本文中對大體上任何復(fù)數(shù)及/或單數(shù)術(shù)語,所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可適當(dāng)視上下文及/或應(yīng)用從復(fù)數(shù)轉(zhuǎn)化成單數(shù)及/或從單數(shù)轉(zhuǎn)化成復(fù)數(shù)。為清楚起見,本文中未明確闡述各種單數(shù)/復(fù)數(shù)置換。
[0075]
本文中的所描述標(biāo)的物有時(shí)說明其它組件內(nèi)所含或與其它組件連接的不同組件。應(yīng)理解,此類所描繪架構(gòu)僅為示范性的,且事實(shí)上,可實(shí)施實(shí)現(xiàn)相同功能性的許多其它架構(gòu)。在概念意義上,用于實(shí)現(xiàn)相同功能性的任何組件布置經(jīng)有效“相關(guān)聯(lián)”使得實(shí)現(xiàn)所要功能性。因此,在本文中經(jīng)組合以實(shí)現(xiàn)特定功能性的任兩個(gè)組件可被視為彼此“相關(guān)聯(lián)”使得實(shí)現(xiàn)所要功能性,而與架構(gòu)或中間組件無關(guān)。同樣地,如此相關(guān)聯(lián)的任兩個(gè)組件也可被視為彼此“連接”或“耦合”以實(shí)現(xiàn)所要功能性,且能夠如此相關(guān)聯(lián)的任兩個(gè)組件也可被視為彼此“可耦合”以實(shí)現(xiàn)所要功能性。可耦合的特定實(shí)例包含但不限于可物理配合及/或物理交互組件及/或可無線交互及/或無線交互組件及/或邏輯交互及/或可邏輯交互組件。
[0076]
此外,應(yīng)理解,本發(fā)明由所附權(quán)利要求書定義。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解,一般來說,在本文中且尤其是在所附權(quán)利要求書(例如,所附權(quán)利要求書的主體)中所使用的術(shù)語一般旨在作為“開放性”術(shù)語(例如,術(shù)語“包含(including)”應(yīng)被解釋為“包含但不限于”,術(shù)語“具有”應(yīng)被解釋為“至少具有”,術(shù)語“包括(includes)”應(yīng)被解釋為“包括但不限于”,及類似者)。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員進(jìn)一步將了解,如果想要經(jīng)引入權(quán)利要求敘述的特定數(shù)目,那么此意圖將在權(quán)利要求中被明敘述確,且如果缺乏此敘述,那么不存在此意圖。例如,作為理解的輔助,以下所附權(quán)利要求書可含有引導(dǎo)性詞組“至少一個(gè)”及“一或多個(gè)”的使用以引入權(quán)利要求敘述。然而,此類詞組的使用不應(yīng)被解釋為隱含:由不定冠詞“一(a/an)”引入的權(quán)利要求敘述將含有此經(jīng)引入權(quán)利要求敘述的任何特定權(quán)利要求限制為僅含有一個(gè)此敘述的發(fā)明,即使相同權(quán)利要求包含引導(dǎo)性詞組“一或多個(gè)”或“至少一個(gè)”及例如“一(a/an)”的不定冠詞(例如,“一(a/an)”通常應(yīng)被解釋為意指“至少一個(gè)”或“一或多個(gè)”);用于引入權(quán)利要求敘述的定冠詞的使用同樣如此。另外,即使明確敘述經(jīng)引入權(quán)利要求敘述的特定數(shù)目,但所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員還將認(rèn)知,此敘述通常應(yīng)被解釋為意指至少所述敘述數(shù)目(例如,“兩個(gè)敘述”的基本敘述(無其它修飾語)通常意指至少兩個(gè)敘述或兩個(gè)或更多個(gè)敘述)。此外,在其中使用類似于“a、b及c中的至少一者及類似者”的慣用表述的例項(xiàng)中,一般在所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解所述慣用表述的意義上預(yù)期此構(gòu)造(例如,“具有a、b及c中的至少一者的系統(tǒng)”將包含但不限于僅具有a、僅具有b、僅具有c、同時(shí)具有a及b、同時(shí)具有a及c、同時(shí)具有b及c及/或同時(shí)具有a、b及c等的系統(tǒng))。在其中使用類似于“a、b或c中的至少一者及類似者”的慣用表述的例項(xiàng)中,一般在所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解所述慣用表述的意義上預(yù)期此構(gòu)造(例如,“具有a、b或c中的至少一者的系統(tǒng)”將包含但不限于僅具有a、僅具有b、僅具有c、同時(shí)具有a及b、同時(shí)具有a及c、同時(shí)具有b及c及/或同時(shí)具有a、b及c等的系統(tǒng))。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員進(jìn)一步將了解,無論在描述、權(quán)利要求書或圖中,呈現(xiàn)兩個(gè)或更多個(gè)替代項(xiàng)的實(shí)際上任何轉(zhuǎn)折連詞及/或詞組應(yīng)被理解為考慮包含以下的可能
性:所述項(xiàng)中的一者、所述項(xiàng)中的任一者或兩項(xiàng)。例如,詞組“a或b”將被理解為包含“a”或“b”或“a及b”的可能性。
[0077]
相信本發(fā)明及許多其伴隨優(yōu)點(diǎn)將通過前述描述理解,且將明白,可對組件的形式、構(gòu)造及布置作出各種改變而不脫離所公開的標(biāo)的物或不犧牲全部其材料優(yōu)點(diǎn)。所描述的形式僅為說明性的,且以下權(quán)利要求書旨在涵蓋且包含此類改變。此外,應(yīng)理解,本發(fā)明由所附權(quán)利要求書定義。