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一種二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料及制備方法和應(yīng)用與流程

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一種二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料及制備方法和應(yīng)用與流程
本發(fā)明涉及一種氣敏傳感材料及制備方法和應(yīng)用。
背景技術(shù)
:隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展與進(jìn)步,可持續(xù)性發(fā)展的重要性已越為突出,在人們?nèi)粘I钪校瑢?duì)環(huán)境中有毒有害氣體的監(jiān)測(cè)備受關(guān)注??諝庵谐R?jiàn)的有毒有害氣體如nox、h2s、so2、nh3、co等,其中nox是大氣中的主要?dú)鈶B(tài)污染物之一。nox是環(huán)境污染的來(lái)源,nox能夠造成酸雨和光化學(xué)煙霧,對(duì)人類造成嚴(yán)重的疾病,特別是nox易于與人血液中的血紅蛋白結(jié)合,也刺激肺,造成很多嚴(yán)重的疾病。已經(jīng)探索了大量的nox氣體傳感器,如sno2,zno,tio2,in2o3和導(dǎo)電聚合物。在某種程度上,這些氣體傳感器可以很好地檢測(cè)nox,但是它們需要較高的工作溫度,靈敏度低,選擇性差。因此,迫切需要開(kāi)發(fā)一種具有高靈敏度、良好選擇性、快速響應(yīng)和恢復(fù)時(shí)間并可在室溫下使用的nox氣體傳感器。二硫化鉬由于其獨(dú)特的電子特性,二維層狀結(jié)構(gòu)和比較大的比表面積等原因,導(dǎo)致其表面很容易吸附氣體分子,是很好的氣敏傳感材料。傳統(tǒng)的金屬氧化物傳感器對(duì)工作環(huán)境要求比較奇刻,因?yàn)樗鼈儗?duì)氧化性和還原性氣體十分敏感,而且工作溫度較高,對(duì)于現(xiàn)已報(bào)道的mos2氣體傳感器也存在很多問(wèn)題,如:文獻(xiàn)報(bào)道了mos2/石墨烯混合氣凝膠檢測(cè)no2,該傳感器對(duì)no2氣體的檢測(cè)結(jié)果顯示在工作溫度為200℃時(shí)較為靈敏,因此mos2/石墨烯混合氣凝膠傳感器工作溫度偏高,在室溫下無(wú)法檢測(cè),其靈敏度幾乎為零,不利于實(shí)際應(yīng)用。目前,二硫化鉬基半導(dǎo)體氣敏傳感器的研究已經(jīng)取得了一定的成果,但仍存在著一些問(wèn)題,如在室溫下靈敏度低、響應(yīng)時(shí)間和恢復(fù)時(shí)間慢、選擇性差等問(wèn)題。如硫化鉬與貴金屬?gòu)?fù)合制備的傳感器雖然提高了靈敏度,但是卻大大增加了成本。單一的二硫化鉬制備的傳感器對(duì)100ppm的nox的靈敏度為1.83,響應(yīng)時(shí)間為7s,恢復(fù)時(shí)間為6s;且對(duì)氮氧化物和氨氣沒(méi)有很好的選擇性。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明為了解決現(xiàn)有的檢測(cè)nox的敏感材料存在工作溫度需求高、靈敏度低、選擇性差、恢復(fù)時(shí)間長(zhǎng)的問(wèn)題,提出了一種二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料及制備方法和應(yīng)用;本發(fā)明二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料由mos2和銦鹽制成;所述mos2與銦鹽的摩爾比為(1~4):(0.5~3);所述二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料中氫氧化銦的粒徑為5~10nm;所述二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料形貌為三維的花瓣?duì)睿簧鲜龆蚧f/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的制備方法按以下步驟進(jìn)行:一、稱取含鉬材料和含硫材料做為原料;所述含鉬材料為na2moo4·2h2o或(nh4)2moo4·2h2o;所述含硫材料為ch4n2s;所述含鉬材料與含硫材料的質(zhì)量比為(0.5~1.45):(0.3~1.90);二、將步驟一稱取的原料溶解去離子水中,然后超聲處理0.5~1h,最后攪拌0.5~3h得到混合液;所述步驟一稱取的原料的質(zhì)量與去離子水的體積比為(0.85~3.35)g:(50~70)ml;三、將步驟二得到的混合液置于水熱釜中,在150~200℃下進(jìn)行水熱反應(yīng)10~30h,過(guò)濾得到固體產(chǎn)物;四、依次用離子水和乙醇洗滌步驟三得到的固體產(chǎn)物,然后真空干燥洗滌后的固體產(chǎn)物即得到長(zhǎng)度為100~200nm的mos2納米片;所述真空干燥的溫度為50~70℃,真空干燥的時(shí)間為5~15h;五、稱取步驟四得到的mos2納米片,并置于去離子水中超聲分散0.5~1h得到mos2懸浮液;所述稱取的步驟四得到的mos2納米的質(zhì)量與去離子水的體積比為(0.01~0.5)g:(50~100)ml;六、向步驟五得到的mos2懸浮液中依次加入銦鹽和堿溶液,并攪拌10~60min,得到反應(yīng)液;所述銦鹽與堿溶液的質(zhì)量比為(0.01~1.90):(0.05~1);所述銦鹽為incl3或in(no3)3;所述堿溶液為naoh溶液或氨水;所述naoh溶液的濃度為0.001~0.05mol/l;所述氨水的濃度為0.001~0.05mol/l;七、將反應(yīng)液置于反應(yīng)釜內(nèi),在120~250℃下進(jìn)行水熱合成反應(yīng)10h~48h,然后過(guò)濾得到固體產(chǎn)物;八、將步驟七得到的固體產(chǎn)物依次進(jìn)行洗滌處理和干燥處理,得到二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料;所述洗滌處理所用的洗滌液為質(zhì)量分?jǐn)?shù)10~50%的乙醇溶液;所述干燥的工藝為:在50~70℃下干燥6~24h;上述二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料作為敏感材料在制備氣敏元件中的應(yīng)用;所述制備氣敏元件的方法為:將二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料超聲分散于5~7倍體積的乙醇溶液中,得到分散均勻的懸濁液,然后將懸濁液旋涂在au叉指電極上,在室溫下晾干,即得到氣敏元件;以二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料作為敏感材料制備氣敏元件于溫度為20~35℃和濕度為20~40%的條件下對(duì)nox進(jìn)行檢測(cè)。本發(fā)明具備以下有益效果:1、本發(fā)明制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料,mos2為片層結(jié)構(gòu)、in(oh)3為薄晶體粒子的多晶物質(zhì),mos2本身呈片層結(jié)構(gòu),不僅可以有效地防止聚集,還增加了更多的接觸位點(diǎn),而in(oh)3納米顆粒分散于納米片上,增加了氣體的催化位點(diǎn),有助于氣體的吸脫附,提高了復(fù)合材料的靈敏度;2、采用本發(fā)明制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)空氣中nox進(jìn)行檢測(cè)過(guò)程中不需要加熱,可以在室溫即為25℃、濕度為25%的條件下進(jìn)行,可以檢出的nox的摩爾濃度最低為0.1ppm,檢測(cè)時(shí)響應(yīng)和恢復(fù)響應(yīng)時(shí)間僅為0.7s和0.8s。3、在室溫下與nh3和co相比,統(tǒng)一注入濃度為100ppm,本發(fā)明制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)nox的靈敏度達(dá)到14~16,而對(duì)于nh3和co的靈敏度小于2,因此本發(fā)明制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)nox具有非常突出的選擇性。4、本發(fā)明制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件在nox濃度為0.1~100ppm范圍內(nèi),相應(yīng)時(shí)間為0.2~0.8s,恢復(fù)時(shí)間為0.8~2.8s;5、本發(fā)明制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件與二硫化鉬與貴金屬?gòu)?fù)合制備的傳感器相比可以降低成本;附圖說(shuō)明:圖1是測(cè)試實(shí)施例1制備的氣敏元件檢測(cè)nox的靈敏度曲線圖;其中曲線1~7依次對(duì)應(yīng)的是濃度為100ppm、50ppm、30ppm、10ppm、5ppm、3ppm和1ppm的nox;圖2為實(shí)施例1得到的二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的x射線衍射圖;圖3為實(shí)施例1得到的二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料透射電鏡圖;圖4為實(shí)施例1得到二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的比表面積測(cè)試圖;圖中曲線1為脫附曲線,曲線2為脫附曲線;圖5是在室溫下對(duì)實(shí)施例1制備的的氣敏元件進(jìn)行的氣體選擇性測(cè)試圖,其中測(cè)試氣體包括:nh3、nox和co。具體實(shí)施方式:本發(fā)明技術(shù)方案不局限于以下所列舉具體實(shí)施方式,還包括各具體實(shí)施方式間的任意合理組合。具體實(shí)施方式一:本實(shí)施方式一種二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料,該復(fù)合氣敏傳感材料由mos2和銦鹽制成;所述mos2與銦鹽的摩爾比為(1~4):(0.5~3)。本實(shí)施方式具備以下有益效果:1、本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料,mos2為片層結(jié)構(gòu)、in(oh)3為薄晶體粒子的多晶物質(zhì),mos2本身呈片層結(jié)構(gòu),不僅可以有效地防止聚集,還增加了更多的接觸位點(diǎn),而in(oh)3納米顆粒分散于納米片上,增加了氣體的催化位點(diǎn),有助于氣體的吸脫附,提高了復(fù)合材料的靈敏度;2、采用本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)空氣中nox進(jìn)行檢測(cè)過(guò)程中不需要加熱,可以在室溫即為25℃、濕度為25%的條件下進(jìn)行,可以檢出的nox的摩爾濃度最低為0.1ppm,檢測(cè)時(shí)響應(yīng)和恢復(fù)響應(yīng)時(shí)間僅為0.7s和0.8s。3、在室溫下與nh3和co相比,統(tǒng)一注入濃度為100ppm,本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)nox的靈敏度達(dá)到14~16,而對(duì)于nh3和co的靈敏度小于2,因此本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)nox具有非常突出的選擇性。4、本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件在nox濃度為0.1~100ppm范圍內(nèi),相應(yīng)時(shí)間為0.2~0.8s,恢復(fù)時(shí)間為0.8~2.8s;5、本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件與二硫化鉬與貴金屬?gòu)?fù)合制備的傳感器相比可以降低成本;具體實(shí)施方式二:本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式一不同的是:所述二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料中氫氧化銦的粒徑為5~10nm。其他步驟和參數(shù)與具體實(shí)施方式一相同。具體實(shí)施方式三:本實(shí)施方式一種二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的制備方法,該制備方法按以下步驟進(jìn)行:一、稱取含鉬材料和含硫材料做為原料;所述含鉬材料為na2moo4·2h2o或(nh4)2moo4·2h2o;所述含硫材料為ch4n2s;所述含鉬材料與含硫材料的質(zhì)量比為(0.5~1.45):(0.3~1.90);二、將步驟一稱取的原料溶解去離子水中,然后超聲處理0.5~1h,最后攪拌0.5~3h得到混合液;所述步驟一稱取的原料的質(zhì)量與去離子水的體積比為(0.85~3.35)g:(50~70)ml;三、將步驟二得到的混合液置于水熱釜中,在150~200℃下進(jìn)行水熱反應(yīng)10~30h,過(guò)濾得到固體產(chǎn)物;四、依次用離子水和乙醇洗滌步驟三得到的固體產(chǎn)物,然后真空干燥洗滌后的固體產(chǎn)物即得到長(zhǎng)度為100~200nm的mos2納米片;所述真空干燥的溫度為50~70℃,真空干燥的時(shí)間為5~15h;五、稱取步驟四得到的mos2納米片,并置于去離子水中超聲分散0.5~1h得到mos2懸浮液;所述稱取的步驟四得到的mos2納米的質(zhì)量與去離子水的體積比為(0.01~0.5)g:(50~100)ml;六、向步驟五得到的mos2懸浮液中依次加入銦鹽和堿溶液,并攪拌10~60min,得到反應(yīng)液;所述銦鹽與堿溶液的質(zhì)量比為(0.01~1.90):(0.05~1);七、將反應(yīng)液置于反應(yīng)釜內(nèi),在120~250℃下進(jìn)行水熱合成反應(yīng)10h~48h,然后過(guò)濾得到固體產(chǎn)物;八、將步驟七得到的固體產(chǎn)物依次進(jìn)行洗滌處理和干燥處理,得到二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料。本實(shí)施方式具備以下有益效果:1、本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料,mos2為片層結(jié)構(gòu)、in(oh)3為薄晶體粒子的多晶物質(zhì),mos2本身呈片層結(jié)構(gòu),不僅可以有效地防止聚集,還增加了更多的接觸位點(diǎn),而in(oh)3納米顆粒分散于納米片上,增加了氣體的催化位點(diǎn),有助于氣體的吸脫附,提高了復(fù)合材料的靈敏度;2、采用本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)空氣中nox進(jìn)行檢測(cè)過(guò)程中不需要加熱,可以在室溫即為25℃、濕度為25%的條件下進(jìn)行,可以檢出的nox的摩爾濃度最低為0.1ppm,檢測(cè)時(shí)響應(yīng)和恢復(fù)響應(yīng)時(shí)間僅為0.7s和0.8s。3、在室溫下與nh3和co相比,統(tǒng)一注入濃度為100ppm,本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)nox的靈敏度達(dá)到14~16,而對(duì)于nh3和co的靈敏度小于2,因此本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)nox具有非常突出的選擇性。4、本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件在nox濃度為0.1~100ppm范圍內(nèi),相應(yīng)時(shí)間為0.2~0.8s,恢復(fù)時(shí)間為0.8~2.8s;5、本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件與二硫化鉬與貴金屬?gòu)?fù)合制備的傳感器相比可以降低成本;具體實(shí)施方式四:本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式三不同的是:步驟八所述洗滌處理所用的洗滌液為質(zhì)量分?jǐn)?shù)10~50%的乙醇溶液。其他步驟和參數(shù)與具體實(shí)施方式三相同。具體實(shí)施方式五:本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式三或四不同的是:步驟八所述干燥的工藝為:在50~70℃下干燥6~24h。其他步驟和參數(shù)與具體實(shí)施方式三或四相同。具體實(shí)施方式六:本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式三至五之一不同的是:步驟六所述銦鹽為incl3或in(no3)3。其他步驟和參數(shù)與具體實(shí)施方式三至五之一相同。具體實(shí)施方式七:本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式三至六之一不同的是:步驟六所述堿溶液為naoh溶液或氨水;所述naoh溶液的濃度為0.001~0.05mol/l;所述氨水的濃度為0.001~0.05mol/l。其他步驟和參數(shù)與具體實(shí)施方式三至六之一相同。具體實(shí)施方式八:本實(shí)施方式所述的二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料作為敏感材料在制備氣敏元件中的應(yīng)用。一種二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的應(yīng)用,將二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料作為敏感材料制備氣敏元件,然后將制備的氣敏元件置于溫度為20~35℃和濕度為20~40%的條件下對(duì)nox進(jìn)行檢測(cè)。本實(shí)施方式具備以下有益效果:1、采用本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)空氣中nox進(jìn)行檢測(cè)過(guò)程中不需要加熱,可以在室溫即為25℃、濕度為25%的條件下進(jìn)行,可以檢出的nox的摩爾濃度最低為0.1ppm,檢測(cè)時(shí)響應(yīng)和恢復(fù)響應(yīng)時(shí)間僅為0.7s和0.8s。2、在室溫下與nh3和co相比,統(tǒng)一注入濃度為100ppm,本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)nox的靈敏度達(dá)到14~16,而對(duì)于nh3和co的靈敏度小于2,因此本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件對(duì)nox具有非常突出的選擇性。3、本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件在nox濃度為0.1~100ppm范圍內(nèi),相應(yīng)時(shí)間為0.2~0.8s,恢復(fù)時(shí)間為0.8~2.8s;5、本實(shí)施方式制備的mos2/in(oh)3復(fù)合材料作為敏感材料制備的氣敏元件與二硫化鉬與貴金屬?gòu)?fù)合制備的傳感器相比可以降低成本;具體實(shí)施方式九:本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式八不同的是:所述制備氣敏元件的方法為:將二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料超聲分散于5~7倍體積的乙醇溶液中,得到分散均勻的懸濁液,然后將懸濁液旋涂在au叉指電極上,在室溫下晾干,即得到氣敏元件。其他步驟和參數(shù)與具體實(shí)施方式八相同。具體實(shí)施方式十:本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式八或九不同的是:以二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料作為敏感材料制備氣敏元件于溫度為20~35℃和濕度為20~40%的條件下對(duì)nox進(jìn)行檢測(cè)。其他步驟和參數(shù)與具體實(shí)施方式八或九相同。采用以下實(shí)施例驗(yàn)證本發(fā)明的有益效果:實(shí)施例1:本實(shí)施例一種二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的制備方法按以下步驟進(jìn)行:一、稱取1.45g含鉬材料和1.90g含硫材料做為原料;所述含鉬材料為na2moo4·2h2o;所述含硫材料為ch4n2s;二、將步驟一稱取的原料溶解70ml去離子水中,然后超聲處理1h,最后攪拌3h得到混合液;三、將步驟二得到的混合液置于水熱釜中,在200℃下進(jìn)行水熱反應(yīng)30h,過(guò)濾得到固體產(chǎn)物;四、依次用離子水和乙醇洗滌步驟三得到的固體產(chǎn)物,然后在70℃下真空干燥洗滌后的固體產(chǎn)物15h,即得到長(zhǎng)度為200nm的mos2納米片;五、稱取0.5g步驟四得到的mos2納米片,并置于100ml去離子水中超聲分散1h得到mos2懸浮液;六、向步驟五得到的mos2懸浮液中依次加入1.90g銦鹽和1g堿溶液,并攪拌60min,得到反應(yīng)液;所述銦鹽為incl3;所述堿溶液為naoh溶液;所述naoh溶液的濃度為0.001~0.05mol/l;七、將反應(yīng)液置于反應(yīng)釜內(nèi),在250℃下進(jìn)行水熱合成反應(yīng)48h,然后過(guò)濾的到固體產(chǎn)物;八、將步驟七得到的固體產(chǎn)物依次進(jìn)行洗滌處理和干燥處理,得到二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料;所述洗滌處理所用的洗滌液為質(zhì)量分?jǐn)?shù)50%的乙醇溶液;所述干燥的工藝為:在70℃下干燥24h;上述二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的應(yīng)用按以下步驟進(jìn)行:將二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料作為敏感材料制備氣敏元件,然后將制備的氣敏元件置于溫度為35℃和濕度為40%的條件下對(duì)nox進(jìn)行檢測(cè);所述制備氣敏元件的方法為:將二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料超聲分散于5~7倍體積的乙醇溶液中,得到分散均勻的懸濁液,然后將懸濁液旋涂在au叉指電極上,在室溫下晾干,即得到氣敏元件。圖1是測(cè)試實(shí)施例1制備的氣敏元件檢測(cè)nox的靈敏度曲線圖;其中曲線1~7依次對(duì)應(yīng)的是濃度為100ppm、50ppm、30ppm、10ppm、5ppm、3ppm和1ppm的nox;從圖1可知,從圖可以看出,當(dāng)nox的濃度為100ppm時(shí)實(shí)施例1制備的氣敏元件的靈敏度高達(dá)15.39,當(dāng)nox的濃度為0.1ppm時(shí)實(shí)施例1制備的氣敏元件的靈敏度大于1.38,并且從注入nox氣體后氣敏元件的電阻開(kāi)始變化到完全穩(wěn)定所用的時(shí)間小于1秒,說(shuō)明實(shí)施例1制備的氣敏元件響應(yīng)速度快、吸附可逆性好;圖2為實(shí)施例1得到的二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的x射線衍射圖;從圖2中可以看出,圖中2θ角值為14.3°,30.3°,33.3°,39.4°和58.7°對(duì)應(yīng)mos2(002),(004),(101),(102),(103),(110)晶面。(200),(220),(310),(222)和(420)對(duì)應(yīng)立方晶系in(oh)3;圖3為實(shí)施例1得到的二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料透射電鏡圖;從圖2中可以看出,二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料是由片層狀mos2和顆粒狀的in(oh)3組成的,in(oh)3納米顆粒分散于mos2納米片上,增加了mos2的催化位點(diǎn),提高了二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的靈敏度;并且從圖中能夠看出二硫化鉬納米片的長(zhǎng)度為100~200nm,氫氧化銦納米顆粒的粒徑為5-10nm;圖4為實(shí)施例1得到二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合氣敏傳感材料的比表面積測(cè)試圖;圖中曲線1為脫附曲線,曲線2為脫附曲線,從圖中可以得知二硫化鉬/氫氧化銦復(fù)合材料具有較大的比表面積,比表面積為54.684m2/g,大的比表面積有助于氣體快速的吸脫附,進(jìn)而能夠提高了它的氣敏性能;圖5是在室溫下對(duì)實(shí)施例1制備的的氣敏元件進(jìn)行的氣體選擇性測(cè)試圖,其中測(cè)試氣體包括nh3、nox和co,統(tǒng)一注入濃度為100ppm。從圖5結(jié)果可知,實(shí)施例1制備的氣敏元件在室溫下對(duì)nox具有非常突出的選擇性。表1為測(cè)試實(shí)施例1制備的氣敏元件在不同nox濃度下的靈敏度和響應(yīng)恢復(fù)時(shí)間,從表1可以看出,當(dāng)?shù)趸餄舛葹?00ppm時(shí),靈敏度高達(dá)15.39,并且擁有快速的響應(yīng)恢復(fù)時(shí)間為0.3s和2.8s;即該氣敏元件對(duì)氮氧化物擁有很好的響應(yīng)和恢復(fù)特性,靈敏度較高,其中靈敏度s=ra/rg,中ra為氣敏元件的初始電阻,rg為nox氣氛下氣敏元件的電阻;表1nox濃度.(ppm)1005030105310.50.20.1靈敏度(ra/rg)15.398.828.194.993.743.372.862.491.51.38響應(yīng)時(shí)間(s)0.30.40.20.130.60.60.70.80.40.7恢復(fù)響應(yīng)時(shí)間(s)2.81.82.82.21.81.6111.20.8當(dāng)前第1頁(yè)12
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