本發(fā)明涉及化學測量
技術領域：
，特別涉及一種發(fā)射光譜背景校正的改進方法。其可以被應用于，例如，電感耦合等離子體、微波化學發(fā)射光譜法。
背景技術：
：在發(fā)射光譜分析中，通常需要建立樣品濃度與譜線發(fā)射強度之間的關系，并根據(jù)標準曲線對實測樣品中待測組分濃度進行推算實現(xiàn)定量分析。在建立標準曲線時，通常希望獲取到譜線發(fā)射強度的凈信號，即僅與待測元素濃度相關的強度值。但實際中，直接獲取到的光譜數(shù)據(jù)是疊加在背景光譜之上的。由于發(fā)射光譜數(shù)據(jù)的加和性，一般可以通過離峰法與在峰法扣除背景光譜對光譜數(shù)據(jù)進行強度校正。離峰法是通過在分析譜線兩端找到兩個合適的背景點，通過插值得到譜線中心位置處的光譜背景并從分析譜線中扣除的方法。這種方法只適合緩慢的背景估計，而且當分析線兩端存在譜線重疊干擾時很難找到合適的兩點進行插值。在峰法是通過測量空白樣品的光譜作為背景光譜。這種方法十分準確，但是需要空白樣品與分析樣品基體一致，否則扣除效果不理想。在使用中，可以使用在峰法對分析譜線進行預處理，降低背景光譜的波動程度，然后通過離峰法進行進一步校準。在峰法除了基體匹配問題外，在儀器測試過程中，由于環(huán)境溫度變化引起光譜儀暗電流、暗噪聲、光電轉換線性度發(fā)生變化，從而使背景光譜強度具有溫度依賴性；在使用基于時間分辨光譜測量時，如etv、氣體發(fā)生法測量待測元素波長處的強度隨時間的變化情況，但是在出信號時可能會產生由于氣壓變動使得等離子體形態(tài)發(fā)生變化從而導致側視觀測高度發(fā)生變化，等離子體的背景光譜也因此發(fā)生了整體漲落情況。在上述三種情況下，背景光譜均發(fā)生了變化，因此通過簡單的扣除空白樣品的光譜可能會使樣品光譜中的背景扣除過渡或扣除欠缺的情況?；诖?，本發(fā)明提出了一種發(fā)射光譜背景校正的方法，是一種改進的在峰法，能夠根據(jù)實際樣品光譜對其背景光譜進行自適應校正。在美國分析科學數(shù)字圖書館(theanalyticalsciencesdigitallibrary,asdl)中介紹了一種背景扣除方法(http://www.asdlib.org/learningmodules/atomicemission/data-introduction_&_background_substraction.html)，其表達式為iatom＝iobs-k×ibkrnd，可認為與本發(fā)明專利較為接近，兩者的區(qū)別在于：1、該文獻提及算法本質上是一種離峰法，其扣除背景取自樣品光譜中待測譜線相鄰的具有相同波長寬度的無發(fā)射譜線的純背景光譜，而本發(fā)明專利本質是一種改進的在峰法，其背景光譜取自空白樣品；2、該文獻提及算法中的k值為背景縮放因子，僅是對背景進行比例縮放，是通過實驗進行測定優(yōu)化的值；本發(fā)明專利中校正系數(shù)是根據(jù)樣品的背景光譜與空白的背景光譜的相似性進行多項式擬合計算得到的，不僅是對背景強度的比例縮放(如k2)，也包括平移(如k1)等。技術實現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的在于提供一種發(fā)射光譜背景校正的改進方法，以克服傳統(tǒng)的在峰法無法有效解決
背景技術：
中提及的背景光譜隨時間或者樣品溶液發(fā)生變化的問題，以及處理背景光譜具有結構化特征、空白背景光譜與樣品背景光譜之間相似性較差的情況。本發(fā)明第二目的在于提供一種根據(jù)空白背景光譜對實際樣品光譜進行自適應背景扣除的方法，具有準確、操作簡單、適用范圍廣等特點。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種發(fā)射光譜背景校正的改進方法，包括以下步驟：s1：采集空白背景譜圖，包括m個譜圖數(shù)據(jù)；s2：采集帶有連續(xù)背景干擾的樣品譜圖，包括m個與所述空白背景譜圖的譜圖數(shù)據(jù)相對應的譜圖數(shù)據(jù)；s3：根據(jù)空白背景譜圖計算md值，所述md值為對數(shù)據(jù)離散程度的表征量；s4：根據(jù)所述md值構建調制函數(shù)；s5：使用所述調制函數(shù)對所述空白背景譜圖與樣品譜圖進行分別調制，得到調制空白背景譜圖與調制樣品譜圖；s6：從所述調制樣品譜圖中篩選得到校正用樣品譜圖，譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)為n，n≤m；并從所述調制空白背景譜圖篩選對應位置處的數(shù)據(jù)組成校正用空白背景譜圖；s7：建立相同位置處校正用空白背景譜圖與校正用樣品譜圖的關系，并通過擬合得到校正關系；s8：通過所述校正關系對調制空白背景譜圖作校正，得到作為調制樣品光譜連續(xù)背景的估計背景；s9：從對應的所述調制樣品譜圖中扣除所述估計背景，得到干凈的信號譜圖。較佳地，所述步驟s7中，進行擬合時，擬合方法為多項式擬合，通過數(shù)學優(yōu)化技術實現(xiàn)。較佳地，所述多項式擬合包括：線性擬合、二次項擬合；所述數(shù)學優(yōu)化技術包括：最小二乘法、加權最小二乘法。較佳地，所述md值通過計算空白背景譜圖的極差、平均差、標準差、四分位差或四分位距內數(shù)據(jù)的標準差得到。較佳地，所述步驟s6中篩選的準則為：從所述調制樣品譜圖中剔除信號鋒、干擾峰或其他明顯與調制空白背景譜圖的數(shù)據(jù)形狀有差異的數(shù)據(jù)點，此時n<m。較佳地，所述步驟s6中篩選的準則為：保留所有所述調制樣品譜圖及調制空白背景譜圖的數(shù)據(jù)，此時n＝m。較佳地，所述步驟s7中，進行擬合時，擬合方法為最小二乘法時，采用權值w(j)以抑制信號峰、干擾峰或其他明顯與調制空白背景譜圖的數(shù)據(jù)形狀有差異的數(shù)據(jù)點對擬合結果的影響：權值為w(j)＝1/(ism,bg(j)-ibm,bg(j))2，其中j為對應數(shù)據(jù)的索引號；或權值為w(j)＝1/((ism,bg(j)-ibm,bg(j))2+c)，其中c>0，為權值范圍調制因子；或權值為w(j)＝1/|ism,bg(j)-ibm,bg(j)|或w(j)＝1/(|ism,bg(j)-ibm,bg(j)|+c)；其中，ism,bg(j)為校正用樣品譜圖的第j個數(shù)據(jù)，ibm,bg(j)為校正用空白背景譜圖的第j個數(shù)據(jù)。較佳地，所述步驟s1及s2中采集的譜圖數(shù)據(jù)為一次采集的數(shù)據(jù)或多次采集后的平均值數(shù)據(jù)。較佳地，當所述步驟s1及s2中采集的譜圖數(shù)據(jù)為多次采集后的平均值數(shù)據(jù)時，w(j)為樣品譜圖中j位置處多次測量值的方差的倒數(shù)。較佳地，還包括為所述步驟s1及s2中采集的譜圖數(shù)據(jù)設置位置索引，所述位置索引為波長、像素點、波數(shù)或數(shù)據(jù)位置。本發(fā)明具有以下有益效果：(1)本發(fā)明所使用的算法僅對背景光譜強度做線性或者是二次項式的變換，符合物理解釋，并不破壞光譜檢測數(shù)據(jù)的真實性，本質仍然是一種在峰法；(2)該方法可以作為其他背景扣除算法的預處理手段，給其他算法的實施降低了難度，如實施該方法后，由于背景光譜得到了很好的校正并從樣品光譜圖中扣除，降低了原始背景光譜波動對離峰法的應用難度；(3)該方法可以解決由于基體略不匹配、光譜儀暗電流、暗噪聲、光電響應隨工況(如溫度等)變化引起的背景光譜變化情況，提高了光譜法進行定量計算的準確程度；(4)本發(fā)明專利不僅可以用于發(fā)射光譜背景干擾的校正，而且還可以推廣應用原子吸收光譜法、原子熒光光譜法的背景校正；(5)本發(fā)明不僅適用于連續(xù)背景扣除，而且還適用于多譜線擬合技術；(6)本發(fā)明可以解決空白背景光譜的基線是水平的情況、背景光譜不具備結構化特征、空白背景光譜與樣品背景光譜相似性較差的情況。附圖說明圖1為本發(fā)明方法流程框圖；圖2為采集到的空白背景光譜與樣品光譜示意性實施例；圖3為實施例二使用最小二乘法進行線性擬合的效果示意圖；圖4為實施例二使用最小二乘法進行線性擬合進行背景扣除后的結果譜圖；圖5為實施例三使用最小二乘法進行線性擬合的效果示意圖；圖6為實施例三進行背景扣除后的結果譜圖；圖7為實施例四使用加權最小二乘法進行線性擬合的效果示意圖；圖8為實施例四進行背景扣除后的結果譜圖；。具體實施方式以下將結合本發(fā)明的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整的描述和討論，顯然，這里所描述的僅僅是本發(fā)明的一部分實例，并不是全部的實例，基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明的保護范圍。為了便于對本發(fā)明實施例的理解，下面將結合附圖以具體實施例為例作進一步的解釋說明，且各個實施例不構成對本發(fā)明實施例的限定。實施例一：如圖1所示，本實施例提供了一種發(fā)射光譜背景校正的改進方法，包括以下步驟：s1：采集空白背景譜圖，包括m個譜圖數(shù)據(jù)，這里的空白背景譜圖表示為：iblank(i)，其中，i為譜圖數(shù)據(jù)(也可稱為光譜數(shù)據(jù))的位置索引；s2：采集帶有連續(xù)背景干擾的樣品譜圖，包括m個與上述的空白背景譜圖的譜圖數(shù)據(jù)相對應的譜圖數(shù)據(jù)，這里的樣品譜圖表示為：isample(i)；s3：根據(jù)空白背景譜圖計算md值，該md值為對數(shù)據(jù)離散程度的表征量；s4：根據(jù)所述md值構建調制函數(shù)，這里調制函數(shù)表示為m(i)；s5：使用調制函數(shù)對空白背景譜圖與樣品譜圖進行分別調制，得到調制空白背景譜圖與調制樣品譜圖，其中，這里的調制空白背景譜圖以ibm(i)表示，則有ibm(i)＝iblank(i)+m(i)，而調制樣品譜圖以ism(i)表示，則有ism(i)＝isample(i)+m(i)；s6：從調制樣品譜圖中篩選得到校正用樣品譜圖ism,bg(j)，譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)為n，n≤m；并從調制空白背景譜圖篩選對應位置處的數(shù)據(jù)組成校正用空白背景譜圖ibm,bg(j)，其中j為光譜數(shù)據(jù)的位置索引；s7：建立相同位置處校正用空白背景譜圖ibm,bg(j)與校正用樣品譜圖ism,bg(j)的關系，并通過擬合得到校正關系：ism,bg＝f(ibm,bg)；s8：通過上述擬合得到的校正關系對調制空白背景譜圖作校正，則有ibm’＝f(ibm)，其中，ibm’為得到作為調制樣品光譜連續(xù)背景的估計背景；s9：從對應的調制樣品譜圖中扣除估計背景，得到干凈的信號譜圖ism’，即ism’＝ism-ibm’。本實施例提供的方法可根據(jù)需要設置為依賴于計算機控制程序進行執(zhí)行，通過計算機控制程序控制進行數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理以得到最終需要的結果。該方法通過使用調制函數(shù)對空白背景譜圖與樣品譜圖進行分別調制，再在調制后的數(shù)據(jù)中篩選得到校正用樣品譜圖和校正用空白背景譜圖，進而擬合得到校正關系，采用該校正關系對調制空白背景譜圖作校正得到估計背景，從而使調制樣品譜圖中扣除估計背景后，得到干凈的信號譜圖。該方法實施時，不僅能處理背景光譜具有結構化特征、空白背景光譜與樣品背景光譜之間具有相似性的情況，還可以處理背景光譜為水平基線的情況；此外，本發(fā)明的數(shù)據(jù)篩選及后續(xù)處理的對象是調制空白背景譜圖與調制樣品譜圖，效果更好。應當理解，本實施例中的步驟s1～s9不限定為附圖1所示的執(zhí)行順序，其中，步驟s2與步驟s3及s4可以互相替換，即步驟s2～s4的順序可以為：s2→s3→s4，或s3→s4→s2，或s3→s2→s4，這幾種變形方式均屬于本發(fā)明保護范圍內。進一步的，上述的步驟s7中，在進行擬合操作時，擬合方法可以根據(jù)需要選為多項式擬合，通過數(shù)學優(yōu)化技術實現(xiàn)。其中，上述的多項式擬合包括：線性擬合、二次項擬合或其他形式的多項式擬合；上述的數(shù)學優(yōu)化技術包括：最小二乘法、加權最小二乘法或其他方法。此外，本實施例中的md值為表征光譜強度數(shù)據(jù)波動情況的特征量，其可以通過計算空白背景譜圖的極差、平均差、標準差、四分位差或四分位距內數(shù)據(jù)的標準差等方式得到。而步驟s4中的調制函數(shù)m(i)用于獲得調制空白背景譜圖，使調制空白背景譜圖產生結構化特征且光譜強度分布較為離散。m(i)可以為任意多項式，優(yōu)選的，m(i)＝i*n/m*md，其中n為強度分布縮放因子，n≥0。而在上述的步驟s6中篩選的準則可根據(jù)需要選擇為：從所述調制樣品譜圖中剔除信號鋒、干擾峰或其他明顯與調制空白背景譜圖的數(shù)據(jù)形狀有差異的數(shù)據(jù)點，此時n<m?；蛘?，上述的步驟s6中篩選的準則也可根據(jù)需要選擇為：保留所有調制樣品譜圖及調制空白背景譜圖的數(shù)據(jù)，此時n＝m。在進一步的優(yōu)選實施例的步驟s7中，在進行擬合操作時，當擬合方法選擇為最小二乘法時，則采用權值w(j)以抑制信號峰、干擾峰或其他明顯與調制空白背景譜圖的數(shù)據(jù)形狀有差異的數(shù)據(jù)點對擬合結果的影響，具體地：權值為w(j)＝1/(ism,bg(j)-ibm,bg(j))2，其中j為對應數(shù)據(jù)的索引號；或權值為w(j)＝1/((ism,bg(j)-ibm,bg(j))2+c)，其中c>0，為權值范圍調制因子；或權值為w(j)＝1/|ism,bg(j)-ibm,bg(j)|或w(j)＝1/(|ism,bg(j)-ibm,bg(j)|+c)；其中，ism,bg(j)為校正用樣品譜圖的第j個數(shù)據(jù)，ibm,bg(j)為校正用空白背景譜圖的第j個數(shù)據(jù)。本領域技術人員在實施上述方法時，可根據(jù)需要選擇權值w(j)的具體形式，以使擬合結果適應不同的具體情況。此外，上述的步驟s1及s2中采集的譜圖數(shù)據(jù)為一次采集的數(shù)據(jù)或多次采集后的平均值數(shù)據(jù)。當多次采集時，可以提高數(shù)據(jù)校正的準確度，進而得到更為精確的數(shù)據(jù)。而當步驟s1及s2中采集的譜圖數(shù)據(jù)為多次采集后的平均值數(shù)據(jù)時，w(j)為樣品譜圖中j位置處多次測量值的方差的倒數(shù)。上述的i，j為步驟s1及s2中采集的譜圖數(shù)據(jù)設置的位置索引，該位置索引的具體形式可以為波長、像素點、波數(shù)或數(shù)據(jù)位置，可根據(jù)具體實施需要設置其具體形式。實施例二：本實施例根據(jù)一個具體的例子對本發(fā)明的方法所涉及到的操作流程進行進一步的詳細解釋。表1給出的是通過步驟s1與步驟s2采集到的空白背景光譜iblank(i)與樣品光譜數(shù)據(jù)isample(i)，其中i在代表光譜數(shù)據(jù)索引號，本實施例中的譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)m＝10。表1采集到的空白背景光譜iblank(i)與樣品光譜數(shù)據(jù)isample(i)i12345678910iblank9.597.979.8316.5119.9015.829.1810.529.778.52isample19.1420.7718.9930.9057.8829.2419.5820.1321.9720.81以數(shù)據(jù)索引為橫軸的光譜疊加圖在圖2中給出，其中菱形數(shù)據(jù)點代表來自空白背景光譜數(shù)據(jù)，三角形數(shù)據(jù)點代表來自樣品光譜數(shù)據(jù)。執(zhí)行步驟s3：本實施例中以空白背景光譜數(shù)據(jù)的標準偏差作為md值，得到md＝4.09；執(zhí)行步驟s4：本實施例中m(i)＝i*n/m*md，其中n為強度分布縮放因子，本例中n＝16，m＝10；執(zhí)行步驟s5：使用調制函數(shù)對空白背景譜圖與樣品譜圖進行調制，得到調制空白背景譜圖ibm(i)＝iblank(i)+m(i)與調制樣品譜圖ism(i)＝isample(i)+m(i)，計算結果在表2中給出；表2調制后的數(shù)據(jù)i12345678910ibm16.1421.0629.4742.7052.6455.1055.0162.9068.7073.99ism25.6933.8638.6357.0990.6168.5265.4172.5180.9086.28執(zhí)行步驟s6：對調制空白背景譜圖與調制樣品譜圖進行篩選，得到校正用樣品背景光譜ism,bg(j)與校正用空白背景光譜ibm,bg(j)，本實施例中篩選準則是保留所有調制空白背景譜圖與調制樣品譜圖數(shù)據(jù)，n＝m＝10，得到的校正用樣品背景光譜ism,bg(j)與校正用空白背景光譜ibm,bg(j)如表3所示。表3校正用樣品背景光譜ism,bg(j)與校正用空白背景光譜ibm,bg(j)數(shù)據(jù)j12345678910ibm,bg16.1421.0629.4742.7052.6455.1055.0162.9068.7073.99ism,bg25.6933.8638.6357.0990.6168.5265.4172.5180.9086.28執(zhí)行步驟s7：建立相同位置處校正用空白背景光譜強度ibm,bg與校正用樣品背景光譜強度ism,bg的關系，通過最小二乘法進行線性擬合得到校正關系ism,bg＝f(ibm,bg)＝1.0554×ibl,bg+11.535，則k1＝11.535，k2＝1.0554，圖3給出了該對應關系及對應的線性擬合曲線。執(zhí)行步驟s8：根據(jù)步驟s7得到的線性關系，對調制空白背景強度作校正ibm’＝f(ibm)＝1.0554×iblank+11.535，得到調制樣品光譜連續(xù)背景的估計背景ibm’，此時得到的光譜數(shù)據(jù)個數(shù)為m＝10；執(zhí)行步驟s9：從調制樣品光譜圖中扣除估計背景ism’＝ism-ibm’，得到干凈的信號譜圖ism’，譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)m＝10；步驟s8與步驟s9的計算結果見表4。步驟9背景扣除后的結果譜圖在圖4中給出。表4步驟s8與步驟s9的計算結果i12345678910ibm’28.5733.7742.6456.5967.0969.6869.5977.9284.0489.62ism’-2.880.10-4.010.4923.52-1.16-4.18-5.41-3.14-3.34實施例三：本實施例根據(jù)另一個具體的例子對本發(fā)明的方法所涉及到的操作流程進行詳細解釋。表5給出的是通過步驟s1與步驟s2采集到的空白背景光譜iblank與樣品光譜數(shù)據(jù)isample，其中i在代表光譜數(shù)據(jù)索引號，譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)m＝10。表5步驟s1與步驟s2采集到的空白背景光譜iblank與樣品光譜數(shù)據(jù)isamplei12345678910iblank9.597.979.8316.5119.9015.829.1810.529.778.52isample19.1420.7718.9930.9057.8829.2419.5820.1321.9720.81以數(shù)據(jù)索引為橫軸的光譜疊加圖在圖2中給出，其中菱形數(shù)據(jù)點代表來自空白背景光譜數(shù)據(jù)，三角形數(shù)據(jù)點代表來自樣品光譜數(shù)據(jù)。執(zhí)行步驟s3：本實施例中以扣除待測峰位附近i＝4、5、6三個異常點后的剩余空白背景光譜數(shù)據(jù)的標準偏差作為md值，計算得到md＝0.863。執(zhí)行步驟s4：本實施例中m(i)＝i*n/m*md，其中n為強度分布縮放因子，本例中n＝16，m＝10；執(zhí)行步驟s5：使用調制函數(shù)對空白背景譜圖與樣品譜圖進行調制，得到調制空白背景譜圖ibm(i)與調制樣品譜圖ism(i)，計算結果在表6中給出；表6計算的調制空白背景譜圖ibm(i)與調制樣品譜圖ism(i)i12345678910ibm10.9710.7313.9722.0326.8124.1018.8521.5722.2022.33ism20.5223.5323.1336.4264.7837.5229.2531.1834.4034.62根據(jù)表6可以判斷，在i＝4、5、6位置處調制樣品光譜中存在信號峰、干擾峰等明顯與調制空白背景譜圖形狀有差異的數(shù)據(jù)點，在步驟s6中進行扣除波長i＝4、5、6位置處的調制空白背景光譜數(shù)據(jù)點與調制樣品光譜數(shù)據(jù)點，得到校正用空白背景光譜強度ibm,bg(j)與校正用樣品背景光譜強度ism,bg(j)，其中j為光譜數(shù)據(jù)的位置索引；相關數(shù)據(jù)在表7中給出，譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)n＝7，滿足n<m。表7校正用空白背景光譜強度ibm,bg(j)與校正用樣品背景光譜強度ism,bg(j)j1234567ibm,bg10.9710.7313.9718.8521.5722.2022.33ism,bg20.5223.5323.1329.2531.1834.4034.62執(zhí)行步驟s7：建立相同位置處校正用空白背景光譜強度ibm,bg與校正用樣品背景光譜強度ism,bg的關系，通過最小二乘法進行線性擬合得到校正關系ism,bg＝f(ibm,bg)＝1.0544×ibl,bg+9.9202，則k1＝9.9202，k2＝1.0544，圖5給出了該對應關系及對應的線性擬合曲線。執(zhí)行步驟s8：根據(jù)步驟7得到的線性關系，對調制空白背景強度作校正ibm’＝f(ibm)＝1.0544×iblank+9.9202，得到調制樣品光譜連續(xù)背景的估計背景ibm’，此時得到的光譜數(shù)據(jù)個數(shù)為m＝10；執(zhí)行步驟s9：從調制樣品光譜圖中扣除估計背景ism’＝ism-ibm’，得到干凈的信號譜圖ism’，譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)m＝10；步驟s8與步驟s9的計算結果見表8。步驟s9背景扣除后的結果譜圖在圖6中給出。表8步驟s8與步驟s9的計算結果i12345678910ibm’21.4921.2424.6533.1538.1935.3429.8032.6733.3333.47ism’-0.972.29-1.523.2726.592.19-0.54-1.491.071.16實施例四：本實施例根據(jù)一個具體的例子對本發(fā)明的方法所涉及到的操作流程進行詳細解釋。表9給出的是通過步驟s1與步驟s2采集到的空白背景光譜iblank與樣品光譜數(shù)據(jù)isample，其中i在代表光譜數(shù)據(jù)索引號，譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)m＝10。表9步驟s1與步驟s2采集到的空白背景光譜iblank與樣品光譜數(shù)據(jù)isamplei12345678910iblank9.597.979.8316.5119.9015.829.1810.529.778.52isample19.1420.7718.9930.9057.8829.2419.5820.1321.9720.81以數(shù)據(jù)索引為橫軸的光譜疊加圖在圖2中給出，其中菱形數(shù)據(jù)點代表來自空白背景光譜數(shù)據(jù)，三角形數(shù)據(jù)點代表來自樣品光譜數(shù)據(jù)。執(zhí)行步驟s3：本實施例中對空白背景光譜強度iblank進行排序并計算其四分位距內數(shù)據(jù)(即9.18、9.59、9.77、9.83、10.52、15.82)的標準偏差，以該標準偏差作為md，經計算得到md＝2.5；執(zhí)行步驟s4：本實施例中m(i)＝i*n/m*md，其中n為強度分布縮放因子，本例中n＝16，m＝10；執(zhí)行步驟s5：使用調制函數(shù)對空白背景譜圖與樣品譜圖進行調制，得到調制空白背景譜圖ibm(i)與調制樣品譜圖ism(i)，計算結果在表10中給出；表10調制空白背景譜圖ibm(i)與調制樣品譜圖ism(i)計算結果i12345678910ibm13.6015.9821.8432.5239.9239.8437.2142.5545.8148.56ism23.1428.7831.0046.9177.8953.2647.6152.1658.0160.85執(zhí)行步驟s6：從調制樣品譜圖ism(i)篩選，得到校正用樣品背景光譜強度ism,bg(j)，本實施例中篩選準則是保留所有調制空白背景譜圖與調制樣品譜圖數(shù)據(jù)，n＝m＝10，得到的校正用樣品背景光譜ism,bg(j)與校正用空白背景光譜ibm,bg(j)，相關數(shù)據(jù)在表11中給出(前三行數(shù)據(jù))。表11校正用樣品背景光譜ism,bg(j)與校正用空白背景光譜ibm,bg(j)及權值數(shù)據(jù)j12345678910ibm,bg13.6015.9821.8432.5239.9239.8437.2142.5545.8148.56ism,bg23.1428.7831.0046.9177.8953.2647.6152.1658.0160.85w0.01100.00610.01190.00480.00070.00560.00920.01080.00670.0066執(zhí)行步驟s7：建立相同位置處校正用空白背景光譜強度ibm,bg與校正用樣品背景光譜強度ism,bg的關系，通過加權最小二乘法進行線性擬合，權值w(j)用于抑制信號峰、干擾峰等對擬合結果的影響，即應使得i＝4、5、6處的權值降低，在本實施例中，取權值w(j)＝1/(ism,bg(j)-ibm,bg(j))2，其中j為對應數(shù)據(jù)的索引號，計算得到的權值數(shù)據(jù)見表11(最后一行)。通過加權最小二乘法進行線性擬合得到校正關系ism,bg＝f(ibm,bg)＝1.0585×ibm,bg+9.3702，則k1＝9.3702，k2＝1.0585，圖7給出了該對應關系及對應的線性擬合曲線。執(zhí)行步驟s8：根據(jù)步驟s7得到的線性關系，對調制空白背景強度作校正ibm’＝f(ibm)＝1.0585×ibm+9.3702，得到調制樣品光譜連續(xù)背景的估計背景ibm’，此時得到的光譜數(shù)據(jù)個數(shù)為m＝10；執(zhí)行步驟s9：從調制樣品光譜圖中扣除估計背景ism’＝ism-ibm’，得到干凈的信號譜圖ism’，譜圖數(shù)據(jù)個數(shù)m＝10；步驟s8與步驟s9的計算結果見表12。步驟s9背景扣除后的結果譜圖在圖8中給出。表12步驟s8與步驟s9的計算結果i12345678910ibm’23.7626.2832.4943.7951.6351.5448.7554.4157.8660.77ism’-0.622.49-1.493.1226.271.72-1.14-2.250.150.08以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何本領域的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內，對本發(fā)明所做的變形或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內。因此，本發(fā)明的保護范圍應以所述的權利要求的保護范圍為準。當前第1頁12