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用于取決于方向地測(cè)量光學(xué)輻射源的至少一個(gè)照明技術(shù)或輻射測(cè)量學(xué)特征量的方法和測(cè)角輻射計(jì)與流程

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技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種用于取決于方向地測(cè)量光學(xué)輻射源(2)的至少一個(gè)照明技術(shù)或輻射測(cè)量學(xué)特征量的測(cè)角輻射計(jì),包括:用于使輻射源(2)在測(cè)量過(guò)程中圍繞第一軸(31)和圍繞垂直于第一軸(31)的第二軸(32)移動(dòng)的裝置;均勻反射的測(cè)量壁(5),其上反射來(lái)自輻射源(2)的光;以及具有光學(xué)單元(8)和二維傳感器芯片(100)的位置固定且不可移動(dòng)的相機(jī)(7)。相機(jī)(7)被布置成檢測(cè)在測(cè)量壁(5)上反射的光,其中所述反射光由相機(jī)(7)的光學(xué)單元(8)成像到相機(jī)(7)的傳感器芯片(100)上,并且傳感器芯片(100)在測(cè)量操作過(guò)程中在輻射源(2)轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)記錄測(cè)量值,所述測(cè)量值表示大致在圍繞輻射源(2)的輻射重心的球形表面上的照明技術(shù)或輻射測(cè)量學(xué)特征量。本發(fā)明還涉及一種用于取決于方向地測(cè)量光學(xué)輻射源(2)的至少一個(gè)照明技術(shù)或輻射測(cè)量學(xué)特征量的方法和測(cè)角輻射計(jì),其中使用至少兩個(gè)固定安裝的傳感器(1、100),所述傳感器在測(cè)量過(guò)程中同時(shí)提供測(cè)量值。

技術(shù)研發(fā)人員:雷蒙德·哈默爾;卡斯滕·第姆;霍斯特-根特·烏爾里希;托馬斯·賴納斯
受保護(hù)的技術(shù)使用者:LMT光學(xué)測(cè)量技術(shù)(柏林)有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日:2016.01.08
技術(shù)公布日:2017.09.26
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