1.一種用于工頻電磁場全向檢測的裝置，其包括探測處理單元，其特征在于，探測處理單元一部分的外壁上均勻布置有三個電場檢測面天線，探測處理單元剩余部分的外壁上均勻布置有三個磁場檢測環(huán)天線；三個電場檢測面天線所在的平面相互垂直，且相互連接，形成準(zhǔn)各向同性電場檢測天線陣，三個磁場檢測環(huán)天線所在的平面相互垂直，形成準(zhǔn)各向同性磁場檢測天線陣；三個電場檢測面天線所在的平面與三個磁場檢測環(huán)天線所在的平面形成一個六面體，上述探測處理單元位于該六面體的中心；三個電場檢測面天線、三個磁場檢測環(huán)天線均與上述探測處理單元電路連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，上述探測處理單元包括模數(shù)變換電路，模數(shù)變換電路與現(xiàn)場可編程門陣列處理電路相連接，現(xiàn)場可編程門陣列處理電路與光電轉(zhuǎn)換電路相連接；三個電場檢測面天線、三個磁場檢測環(huán)天線均與模數(shù)變換電路相連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，上述電場檢測面天線包括與探測處理單元外壁相連接的第一導(dǎo)電層，第一導(dǎo)電層與探測處理單元電路連接，第一導(dǎo)電層外側(cè)設(shè)置有第二導(dǎo)電層，第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層之間設(shè)置有介質(zhì)層，第一導(dǎo)電層、第二導(dǎo)電層與介質(zhì)層形成一容性結(jié)構(gòu)，容性結(jié)構(gòu)對入射到導(dǎo)電層法線方向的電場輻射進行響應(yīng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，上述磁場檢測環(huán)天線為電小環(huán)天線，其包括用于固定在探測處理單元外壁上述的支撐結(jié)構(gòu)，支撐結(jié)構(gòu)上纏繞有多圈導(dǎo)電線圈，導(dǎo)電線圈與探測處理單元電路連接，多圈導(dǎo)電線圈在上述探測處理單元外壁形成圓形的橫截面，橫截面對入射到線圈法線方向的磁場輻射進行響應(yīng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，上述現(xiàn)場可編程門陣列處理電路包括ADC數(shù)據(jù)解串模塊，ADC數(shù)據(jù)解串模塊與一數(shù)據(jù)降采樣模塊相連接，數(shù)據(jù)降采樣模塊與一FIFO緩存模塊相連接，F(xiàn)IFO緩存模塊與一FFT變換模塊相連接，F(xiàn)FT變換模塊與一數(shù)據(jù)擬合模塊相連接，數(shù)據(jù)擬合模塊與一數(shù)據(jù)緩存相連接；ADC數(shù)據(jù)解串模塊與模數(shù)變換電路相連接，數(shù)據(jù)緩存與光電轉(zhuǎn)換電路相連接。
6.一種使用如權(quán)利要求1所述裝置的方法，其特征在于，準(zhǔn)各向同性電場檢測天線陣、準(zhǔn)各向同性磁場檢測天線陣將檢測到的數(shù)據(jù)傳輸至模數(shù)變換電路，經(jīng)過數(shù)據(jù)解串，降采樣，F(xiàn)IFO緩存，然后通過FFT變換得到該信號的頻譜數(shù)據(jù)，然后對信號的FFT運算結(jié)果進行數(shù)據(jù)擬合，最后將處理后的數(shù)據(jù)經(jīng)過光電轉(zhuǎn)換后發(fā)送到上位機進行顯示。