本發(fā)明涉及一種輻射監(jiān)測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基于電離室系統(tǒng)的檢測(cè)方法。

背景技術(shù)：

目前國(guó)內(nèi)外主要應(yīng)用的基準(zhǔn)電離室包括自由空氣電離室和石墨空腔電離室。在250kV～600kV X射線(xiàn)空氣比釋動(dòng)能基準(zhǔn)建立中，當(dāng)X射線(xiàn)管電壓超過(guò)400kV時(shí)，次級(jí)電子間距的增加使得所需自由空氣電離室的電極距非常大，由于自由空氣電離室在測(cè)量較高能量段射線(xiàn)方面的局限性，現(xiàn)欲使用石墨空腔電離室作為基準(zhǔn)電離室。

電離室檢測(cè)系統(tǒng)是利用電離輻射的電離效應(yīng)測(cè)量電離輻射的探測(cè)器。在應(yīng)用電離室檢測(cè)系統(tǒng)的過(guò)程中，附加濾過(guò)片的作用是對(duì)入射的X射線(xiàn)進(jìn)行過(guò)濾，過(guò)濾后的X射線(xiàn)射入石墨電離室，使電離室內(nèi)空氣電離產(chǎn)生電離電流。石墨電離室的位置不能進(jìn)行精確調(diào)節(jié)，從而導(dǎo)致現(xiàn)有電離室檢測(cè)系統(tǒng)的測(cè)量精度較低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種基于電離室系統(tǒng)的檢測(cè)方法，通過(guò)多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置能夠?qū)﹄婋x室裝置的位置進(jìn)行精確調(diào)節(jié)，從而提高了電離室檢測(cè)系統(tǒng)的測(cè)量精度，可操控性高。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種基于電離室系統(tǒng)的檢測(cè)方法，所述基于電離室系統(tǒng)的檢測(cè)方法包括：

將X光機(jī)設(shè)置于X光機(jī)平臺(tái)上；

將附加濾過(guò)片插接于濾過(guò)裝置上；

調(diào)節(jié)所述濾過(guò)裝置，使所述附加濾過(guò)片中心與X光機(jī)的X光出射位置在同一水平位置；

控制第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)第一底座在第一導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置；并且控制第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)第二底座在第二導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置；

調(diào)節(jié)升降裝置和所述升降裝置上的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，使設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的電離室裝置的接收射線(xiàn)位置與所述附加濾過(guò)片中心、X光機(jī)的X光出射位置在同一條直線(xiàn)上；

所述X光機(jī)產(chǎn)生初始X射線(xiàn)束；

所述初始X射線(xiàn)束經(jīng)過(guò)附加濾過(guò)片后，對(duì)低于第一閾值能量的射線(xiàn)進(jìn)行濾除；

所述電離室裝置接收過(guò)濾后的X射線(xiàn)束，所述過(guò)濾后的X射線(xiàn)束使所述電離室裝置內(nèi)的空氣發(fā)生電離，產(chǎn)生電離電流；

靜電計(jì)對(duì)電離電流進(jìn)行檢測(cè)，得到電離電流值。

優(yōu)選的，所述濾過(guò)裝置具有濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)，所述濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)有包括N個(gè)濾光孔，所述N為大于1的正整數(shù)，所述附加濾過(guò)片插接于所述濾光孔中；所述濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)由濾過(guò)旋轉(zhuǎn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)；

所述調(diào)節(jié)所述濾過(guò)裝置具體為：所述濾過(guò)旋轉(zhuǎn)電機(jī)接收濾過(guò)旋轉(zhuǎn)信號(hào)，驅(qū)動(dòng)所述濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)所述濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)的附加濾過(guò)片旋轉(zhuǎn)至工作位。

優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)、固定部和旋轉(zhuǎn)盤(pán)；所述旋轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)置于所述固定部上；

所述調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)臺(tái)具體為：所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)接收旋轉(zhuǎn)信號(hào)，驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)盤(pán)在所述固定部上旋轉(zhuǎn)。

優(yōu)選的，所述第一導(dǎo)軌包括：固定平臺(tái)、兩條滑軌、第一滑塊和絲杠；

所述兩條滑軌平行設(shè)置于所述固定平臺(tái)上；所述絲杠設(shè)置于所述兩條滑軌中間，并平行于所述兩條滑軌；所述第一滑塊設(shè)置于所述絲杠上并與第一底座的底部相連；

所述控制第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述第一底座在第一導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置具體為：所述第一電機(jī)接收第一位移信號(hào)，驅(qū)動(dòng)所述絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)所述第一滑塊沿所述絲杠運(yùn)動(dòng)至工作位置。

優(yōu)選的，在所述靜電計(jì)對(duì)電離電流進(jìn)行檢測(cè)之后，所述檢測(cè)方法還包括：改變所述初始X射線(xiàn)束的強(qiáng)度和平均能量，再次進(jìn)行檢測(cè)。

進(jìn)一步優(yōu)選的，在所述靜電計(jì)對(duì)電離電流進(jìn)行檢測(cè)之后，所述檢測(cè)方法還包括：旋轉(zhuǎn)所述濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)，更換處于工作位的附加濾過(guò)片，再次進(jìn)行檢測(cè)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的基于電離室系統(tǒng)的檢測(cè)方法，通過(guò)多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置能夠?qū)﹄婋x室裝置的位置進(jìn)行精確調(diào)節(jié)，從而提高了電離室檢測(cè)系統(tǒng)的測(cè)量精度，可操控性高。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的電離室系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的基于電離室系統(tǒng)的檢測(cè)方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

下面通過(guò)附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

本發(fā)明實(shí)施例提供的基于電離室系統(tǒng)的檢測(cè)方法，執(zhí)行于電離室系統(tǒng)中，所述電離室系統(tǒng)包括多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置和濾過(guò)裝置，為了便于理解本發(fā)明實(shí)施例提供的檢測(cè)方法，首先結(jié)合圖1，對(duì)發(fā)明檢測(cè)方法所基于的電離室系統(tǒng)進(jìn)行介紹。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的電離室系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，本發(fā)明實(shí)施例的電離室系統(tǒng)包括：多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置、濾過(guò)裝置(圖中未示出)、X光機(jī)平臺(tái)(圖中未示出)、電離室裝置(圖中未示出)、附加濾過(guò)片(圖中未示出)和X光機(jī)(圖中未示出)。

下面首先對(duì)多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置進(jìn)行詳述：

多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置用于放置電離室裝置(圖中未示出)，通過(guò)調(diào)節(jié)多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置能夠?qū)﹄婋x室裝置的位置進(jìn)行精確調(diào)整。

多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置包括：移動(dòng)基座1、升降裝置2、第一導(dǎo)軌3、第一底座4、第二導(dǎo)軌5、第二底座6和旋轉(zhuǎn)臺(tái)7。

移動(dòng)基座1包括基座平臺(tái)11和多個(gè)支撐柱12；其中，所述多個(gè)為大于等于四個(gè)；基座平臺(tái)11架設(shè)在多個(gè)支撐柱12上，具體的，基座平臺(tái)11的底面與多個(gè)支撐柱12的一端固定連接，多個(gè)支撐柱12平行設(shè)置，且與基座平臺(tái)11垂直；為了保證移動(dòng)基座1的穩(wěn)定性，在相鄰兩個(gè)支撐柱12之間還設(shè)有連接板13，在連接板13的下方還安裝了滑輪15，可以實(shí)現(xiàn)移動(dòng)基座1的任意角度的旋轉(zhuǎn)和移動(dòng)。此外，每個(gè)支撐柱12的底部都設(shè)有固定部14，固定部14與支撐柱12之間通過(guò)伸縮部件(圖中未示出)連接，伸縮部件可以對(duì)固定部14和支撐柱12底部之間的距離進(jìn)行調(diào)節(jié)，從而調(diào)節(jié)移動(dòng)基座1的高度。當(dāng)移動(dòng)基座1運(yùn)動(dòng)到合適位置的時(shí)候，可以通過(guò)伸縮部件調(diào)節(jié)移動(dòng)基座1的高度，使固定部14的底面低于滑輪15的地面，這樣滑輪15不在與地面接觸，不能進(jìn)行滑動(dòng)，從而對(duì)移動(dòng)基座1的位置進(jìn)行固定；當(dāng)需要對(duì)移動(dòng)基座1的位置進(jìn)行調(diào)整時(shí)，通過(guò)伸縮部件調(diào)節(jié)移動(dòng)基座1的高度，使固定部14的底面高于滑輪15的地面，這樣滑輪15與地面接觸，可以通過(guò)滑輪15的轉(zhuǎn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)移動(dòng)基座1任意方向上的旋轉(zhuǎn)和位移。

升降裝置2設(shè)置在移動(dòng)基座1上，包括第一固定座21、升降平臺(tái)22、第二固定座23、運(yùn)動(dòng)平臺(tái)24、升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)25和升降驅(qū)動(dòng)桿26；其中，第一固定座21與基座平臺(tái)11相接，第一固定座21上設(shè)有多個(gè)第一固定柱211，第二固定座23架設(shè)在多個(gè)第一固定柱211上，第一固定座21與第二固定座23之間的距離是固定的，即為第一固定柱211的長(zhǎng)度，因此第一固定座21與第二固定座23是相對(duì)靜止的。

升降平臺(tái)22設(shè)置在第一固定座21與第二固定座23之間，升降平臺(tái)22具有第一螺紋孔和多個(gè)第二通孔；其中，第二通孔的數(shù)量與第一固定柱211相同，且第二通孔的位置與第一固定柱211的位置相對(duì)應(yīng)，升降平臺(tái)22通過(guò)第二通孔套接在第一固定柱211上；升降驅(qū)動(dòng)桿26通過(guò)第一螺紋孔穿設(shè)于升降平臺(tái)22；升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)25驅(qū)動(dòng)升降驅(qū)動(dòng)桿26轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)升降平臺(tái)22在垂直于第一固定座21所在平面的方向運(yùn)動(dòng)。

運(yùn)動(dòng)平臺(tái)24與升降平臺(tái)22同步運(yùn)動(dòng)，具體的，在升降平臺(tái)22上設(shè)有多個(gè)第二固定柱221，第二固定座23上具有多個(gè)第三通孔，第三通孔的數(shù)量、位置與第二固定柱221相對(duì)應(yīng)，多個(gè)第二固定柱221經(jīng)由多個(gè)第三通孔穿設(shè)于第二固定座23，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)24架設(shè)在第二固定柱221上，第二固定柱221的一端與升降平臺(tái)22的頂面相連，另一端與運(yùn)動(dòng)平臺(tái)24的底面相連，因此運(yùn)動(dòng)平臺(tái)24與升降平臺(tái)22之間的距離是固定的，即為第二固定柱221的長(zhǎng)度，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)24與升降平臺(tái)22是同步運(yùn)動(dòng)的。當(dāng)升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)25驅(qū)動(dòng)升降驅(qū)動(dòng)桿26轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)升降平臺(tái)22在垂直于第一固定座21所在平面的方向運(yùn)動(dòng)時(shí)，升降平臺(tái)22上的第二固定柱221隨升降平臺(tái)22運(yùn)動(dòng)，從而帶動(dòng)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)24隨升降平臺(tái)22同步在垂直于第一固定座21所在平面的方向運(yùn)動(dòng)，此時(shí)第一固定座21與第二固定座23仍是靜止?fàn)顟B(tài)。

第一導(dǎo)軌3安裝在運(yùn)動(dòng)平臺(tái)24上，包括固定平臺(tái)、兩條滑軌、第一滑塊和絲杠；兩條滑軌平行設(shè)置于固定平臺(tái)上；兩條滑軌中間設(shè)有絲杠，絲杠平行于兩條滑軌，由第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)；絲杠上設(shè)有第一滑塊，隨絲杠的轉(zhuǎn)動(dòng)沿絲杠運(yùn)動(dòng)。

第一底座4平行第一導(dǎo)軌3所在平面并滑設(shè)在第一導(dǎo)軌3上，沿第一導(dǎo)軌3方向運(yùn)動(dòng)；具體的，第一底座4的底面兩側(cè)設(shè)有兩排第二滑塊，每排可以設(shè)有兩個(gè)第二滑塊，其中，第二滑塊的數(shù)量是根據(jù)第一底座4的大小進(jìn)行設(shè)定的；第二滑塊滑分別滑設(shè)在第一導(dǎo)軌3的兩條滑軌上，并且兩排第二滑塊之間的距離與兩條滑軌之間的距離相等；第一底座4的底面與第一滑塊固定連接，第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)絲杠運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)第一滑塊沿絲杠運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)第一底座4沿第一導(dǎo)軌3運(yùn)動(dòng)。

第二導(dǎo)軌5，安裝在第一底座4上，與第一導(dǎo)軌3方向垂直。第二導(dǎo)軌5的結(jié)構(gòu)、工作原理與第一導(dǎo)軌3相同，此處不再贅述。

第二底座6，平行第一底座4滑設(shè)在第二導(dǎo)軌5上，由第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)，沿第二導(dǎo)軌5方向運(yùn)動(dòng)。第二底座6的結(jié)構(gòu)與第一底座4相同，此處不再贅述。

為了能夠進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)所述多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置的精確調(diào)節(jié)，所述多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置還包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)7，旋轉(zhuǎn)臺(tái)7固定在第二底座6上，旋轉(zhuǎn)臺(tái)7的具體實(shí)現(xiàn)可以包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)、旋轉(zhuǎn)底座和旋轉(zhuǎn)盤(pán)(圖中未示出)；旋轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)置在旋轉(zhuǎn)底座上；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)盤(pán)在旋轉(zhuǎn)底座上旋轉(zhuǎn)。

下面基于上述電離室系統(tǒng)，介紹本發(fā)明實(shí)施例的電離室系統(tǒng)的校準(zhǔn)方法，如圖2所示，本發(fā)明實(shí)施例的電離室系統(tǒng)的校準(zhǔn)方法包括如下步驟：

步驟110，將X光機(jī)設(shè)置于X光機(jī)平臺(tái)上。

具體的，通過(guò)X光機(jī)平臺(tái)上的X光機(jī)夾具將X光機(jī)固定在X光機(jī)平臺(tái)上。

步驟120，將附加濾過(guò)片插接于濾過(guò)裝置上。

具體的，濾過(guò)裝置具有濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)，濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)設(shè)有包括N個(gè)濾光孔，其中N為大于1的正整數(shù)；在不同的濾光孔中將插接不同厚度的附加濾過(guò)片。

步驟130，調(diào)節(jié)濾過(guò)裝置，使附加濾過(guò)片中心與X光機(jī)的X光出射位置在同一水平位置。

在X光機(jī)平臺(tái)上設(shè)有第一激光發(fā)射器，濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)有第一標(biāo)記位置，第一標(biāo)記位置設(shè)置在相鄰兩個(gè)濾光孔中間，所述第一標(biāo)記位置是根據(jù)第一激光發(fā)射器的位置、X光機(jī)的X光出射位置的位置和附加濾過(guò)片位置進(jìn)行設(shè)計(jì)的，當(dāng)?shù)谝患す獍l(fā)射器發(fā)射的激光射在濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)的第一標(biāo)記位置時(shí)，附加濾過(guò)片處于工作位，此時(shí)附加濾過(guò)片中心與的X光出射位置在同一水平位置。

具體的，濾過(guò)旋轉(zhuǎn)電機(jī)接收濾過(guò)旋轉(zhuǎn)信號(hào)，驅(qū)動(dòng)濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)的附加濾過(guò)片旋轉(zhuǎn)至工作位，此時(shí)第一激光發(fā)射器發(fā)射的激光射在濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)的第一標(biāo)記位置，附加濾過(guò)片中心與的X光出射位置在同一水平位置。其中，其中，濾過(guò)旋轉(zhuǎn)信號(hào)可以是由操作人員通過(guò)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)發(fā)出的。

步驟140，控制第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)第一底座在第一導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置；并且，控制第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)第二底座在第二導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置。

當(dāng)X光機(jī)平臺(tái)和濾過(guò)裝置的位置確定之后，需要對(duì)電離室裝置的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)。此時(shí)，第一電機(jī)接收第一位移信號(hào)，驅(qū)動(dòng)絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)絲杠上第一滑塊沿絲杠運(yùn)動(dòng)至工作位置，從而帶動(dòng)電離室裝置在第一導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置，實(shí)現(xiàn)電離室裝置在X軸方向(平行第一導(dǎo)軌方向)上的位置調(diào)節(jié)；接著，第二電機(jī)接收第二位移信號(hào)，驅(qū)動(dòng)絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)絲杠上第一滑塊沿絲杠運(yùn)動(dòng)至工作位置，從而帶動(dòng)電離室裝置在第二導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)至工作位置，實(shí)現(xiàn)電離室裝置在Y軸方向(平行第二導(dǎo)軌方向)上的位置調(diào)節(jié)。其中，第一位移信號(hào)和第二位移信號(hào)可以是由操作人員通過(guò)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)發(fā)出的。

步驟150，調(diào)節(jié)升降裝置和升降裝置上的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，使設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的電離室裝置的接收射線(xiàn)位置與附加濾過(guò)片中心、X光機(jī)的X光出射位置在同一條直線(xiàn)上。

具體的，升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)接收升降驅(qū)動(dòng)信號(hào)，驅(qū)動(dòng)升降驅(qū)動(dòng)桿轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)升降驅(qū)動(dòng)桿上升降平臺(tái)在垂直所述第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌所在平面運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)電離室裝置在Z軸方向(垂直第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌所在平面方向)上的位置調(diào)節(jié)。其中，升降驅(qū)動(dòng)信號(hào)可以是由操作人員通過(guò)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)發(fā)出的。

其次，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)接收旋轉(zhuǎn)信號(hào)，控制旋轉(zhuǎn)盤(pán)在固定部上旋轉(zhuǎn)，從帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)上的電離室裝置的旋轉(zhuǎn)，使電離室裝置的接收射線(xiàn)位置與附加濾過(guò)片中心在同一條直線(xiàn)上。其中，旋轉(zhuǎn)信號(hào)可以是由操作人員通過(guò)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)發(fā)出的。

具體的，旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)有第二激光發(fā)射器，濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)上設(shè)有第二標(biāo)記位置，所述第二標(biāo)記位置是根據(jù)第二激光發(fā)射器的位置、電離室裝置的位置和附加濾過(guò)片的位置進(jìn)行設(shè)計(jì)的，當(dāng)?shù)诙す獍l(fā)射器發(fā)射的激光射在濾過(guò)轉(zhuǎn)盤(pán)的第二標(biāo)記位置時(shí)，附加濾過(guò)片中心與電離室裝置的接收射線(xiàn)位置在同一水平位置，從而實(shí)現(xiàn)電離室裝置的接收射線(xiàn)位置與附加濾過(guò)片中心、X光機(jī)的X光出射位置在同一條直線(xiàn)上。

步驟160，X光機(jī)產(chǎn)生初始X射線(xiàn)束。

具體的，開(kāi)啟X光機(jī)平臺(tái)上的X光機(jī)，發(fā)射初始X射線(xiàn)束，射向?yàn)V過(guò)裝置上的附加濾過(guò)片。

步驟170，初始X射線(xiàn)束經(jīng)過(guò)附加濾過(guò)片后，對(duì)低于第一閾值能量的射線(xiàn)進(jìn)行濾除。

其中，第一閾值是由所選附加濾過(guò)片決定的，不同附加濾過(guò)片所對(duì)應(yīng)的第一閾值不同。

具體的，附加濾過(guò)片對(duì)初始X射線(xiàn)束的低于第一閾值能量的射線(xiàn)進(jìn)行濾除，濾掉初始射線(xiàn)的低能部分，而對(duì)高能部分的光子分布影響不明顯，能譜被硬化，提高了X射線(xiàn)穿透能力，但是降低了光子強(qiáng)度。

步驟180，電離室裝置接收過(guò)濾后的X射線(xiàn)束，過(guò)濾后的X射線(xiàn)束使電離室裝置內(nèi)的空氣發(fā)生電離，產(chǎn)生電離電流。

電離室裝置可以為石墨電離室，包括石墨腔室和收集極，過(guò)濾后的X射線(xiàn)束射入石墨腔室內(nèi)，使石墨腔室內(nèi)的空氣電離產(chǎn)生電子，石墨腔室內(nèi)的收集桿對(duì)電子進(jìn)行收集，再通過(guò)收集桿傳輸。

步驟190，靜電計(jì)對(duì)電離電流進(jìn)行檢測(cè)，得到電離電流值。

靜電計(jì)與電離室裝置的收集桿進(jìn)行連接，經(jīng)靜電計(jì)檢測(cè)得到電離電流值。

旋轉(zhuǎn)濾過(guò)盤(pán)，更換處于工作位的附加濾過(guò)片，應(yīng)用不同厚度的濾過(guò)片對(duì)初始X射線(xiàn)束進(jìn)行過(guò)濾，附加濾過(guò)片的厚度能夠改變對(duì)X射線(xiàn)低能部分的過(guò)濾程度，附加濾過(guò)片的厚度越厚相對(duì)于X射線(xiàn)高能部分過(guò)濾掉的低能部分越多，再重復(fù)上述步驟130至步驟190。直至完成所有所需附加濾過(guò)片的測(cè)量。

改變加載在X射線(xiàn)光管的電壓，使初始X射線(xiàn)束的強(qiáng)度和平均能量發(fā)生改變，再重復(fù)上述步驟130至步驟190，直至完成所有所需參數(shù)的測(cè)量。

本發(fā)明實(shí)施例提供的基于電離室系統(tǒng)的檢測(cè)方法，通過(guò)多維調(diào)節(jié)平臺(tái)裝置能夠?qū)﹄婋x室裝置的位置進(jìn)行精確調(diào)節(jié)，從而提高了電離室檢測(cè)系統(tǒng)的測(cè)量精度，可操控性高。

專(zhuān)業(yè)人員應(yīng)該還可以進(jìn)一步意識(shí)到，結(jié)合本文中所公開(kāi)的實(shí)施例描述的各示例的單元及算法步驟，能夠以電子硬件、計(jì)算機(jī)軟件或者二者的結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)，為了清楚地說(shuō)明硬件和軟件的可互換性，在上述說(shuō)明中已經(jīng)按照功能一般性地描述了各示例的組成及步驟。這些功能究竟以硬件還是軟件方式來(lái)執(zhí)行，取決于技術(shù)方案的特定應(yīng)用和設(shè)計(jì)約束條件。專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員可以對(duì)每個(gè)特定的應(yīng)用來(lái)使用不同方法來(lái)實(shí)現(xiàn)所描述的功能，但是這種實(shí)現(xiàn)不應(yīng)認(rèn)為超出本發(fā)明的范圍。

結(jié)合本文中所公開(kāi)的實(shí)施例描述的方法或算法的步驟可以用硬件、處理器執(zhí)行的軟件模塊，或者二者的結(jié)合來(lái)實(shí)施。軟件模塊可以置于隨機(jī)存儲(chǔ)器(RAM)、內(nèi)存、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、電可編程ROM、電可擦除可編程ROM、寄存器、硬盤(pán)、可移動(dòng)磁盤(pán)、CD-ROM、或技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)所公知的任意其它形式的存儲(chǔ)介質(zhì)中。

以上所述的具體實(shí)施方式，對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式而已，并不用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。