技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種基底面型測(cè)量方法及測(cè)量裝置，該方法包括S1：上載基底到基底臺(tái)上，通過(guò)基底臺(tái)位置測(cè)量裝置測(cè)量基底臺(tái)的位置得到基底臺(tái)位置值，開啟調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)，將m×n的光斑矩陣入射到基底上，光斑矩陣的列距為d1，行距為d2，其中n≥3，m≥3；S2：在基底上規(guī)劃掃描路徑，移動(dòng)基底臺(tái)，使光斑矩陣沿著掃描路徑相對(duì)基底臺(tái)移動(dòng)，并記錄每次移動(dòng)時(shí)光斑矩陣中每個(gè)子光斑測(cè)得的基底位置值，其中光斑矩陣在X方向上移動(dòng)的步長(zhǎng)為d1，在Y方向上移動(dòng)的步長(zhǎng)為d2；S3：整理步驟S2中子光斑測(cè)得的所有基底位置值，并根據(jù)基底位置值和基底臺(tái)位置值，對(duì)基底位置值進(jìn)行修正，最后根據(jù)修正后的基底位置值計(jì)算基底的面型。從而消除基底臺(tái)高度和傾斜姿態(tài)引起的測(cè)量值改變。

技術(shù)研發(fā)人員：韓春燕;李術(shù)新
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.01.29
技術(shù)公布日：2017.08.08