1.一種粘彈特性測量裝置，包括：
樣本變形單元，將外力施加到測量樣本以引起周期性變形；
第一粘彈特性計(jì)算單元，基于作用在已經(jīng)被所述樣本變形單元變形的所述測量樣本上的應(yīng)力以及所述測量樣本的扭曲來計(jì)算所述測量樣本的低頻粘彈特性；
發(fā)射單元，將入射聲波發(fā)射至已經(jīng)被所述樣本變形單元變形的所述測量樣本；
接收器，接收由于從所述發(fā)射單元發(fā)射的所述入射聲波在所述測量樣本中的反射而產(chǎn)生的反射聲波或者由于所述入射聲波穿過所述測量樣本透射而產(chǎn)生的透射聲波；以及
第二粘彈特性計(jì)算單元，基于由所述接收器接收的所述反射聲波或所述透射聲波在所述入射聲波的頻率下計(jì)算所述測量樣本的高頻粘彈特性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粘彈特性測量裝置，其中，所述粘彈特性測量裝置計(jì)算所述測量樣本的低頻粘彈特性與高頻粘彈特性之間的關(guān)聯(lián)性。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的粘彈特性測量裝置，其中，所述樣本變形單元使所述測量樣本圍繞預(yù)定的旋轉(zhuǎn)軸以預(yù)定的周期旋轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求3中的任一項(xiàng)所述的粘彈特性測量裝置，其中，所述樣本變形單元沿預(yù)定的方向以預(yù)定的周期使所述測量樣本振動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求4中的任一項(xiàng)所述的粘彈特性測量裝置，其中，所述樣本變形單元通過沿預(yù)定的方向以預(yù)定的周期將拉伸力或壓縮力施加到所述測量樣本，來在所述測量樣本中產(chǎn)生拉伸或壓縮變形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求5中的任一項(xiàng)所述的粘彈特性測量裝置，其中，所述樣本變形單元通過沿預(yù)定的方向以預(yù)定的周期向所述測量樣本施加彎曲力，來在所述測量樣本中產(chǎn)生彎曲變形。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求6中的任一項(xiàng)所述的粘彈特性測量裝置，其中，所述粘彈特性測量裝置還包括電場施加單元，所述電場施加單元將電場施加至所述測量樣本。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中的任一項(xiàng)所述的粘彈特性測量裝置，還包括：
反射單元，連接至所述樣本變形單元，將外力傳輸至所述測量樣本，反射被透射的聲波，并使所述接收器接收被反射的波；以及
殼體，封裝所述反射單元和所述測量樣本。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中的任一項(xiàng)所述的粘彈特性測量裝置，還包括：
延時(shí)單元，設(shè)置在所述發(fā)射單元與所述測量樣本之間；以及
反射單元，反射被透射的聲波并使所述接收器接收被反射的波，
其中，所述延時(shí)單元的聲阻抗和所述反射單元的聲阻抗具有基本相同的值。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中的任一項(xiàng)所述的粘彈特性測量裝置，還包括：
延時(shí)單元，設(shè)置在所述發(fā)射單元與所述測量樣本之間并與所述測量樣本接觸；
光源，將測量光照射到所述延時(shí)單元和所述測量樣本的接觸表面；
檢測單元，檢測由于所述測量光在所述接觸表面的反射而產(chǎn)生的反射光；以及
計(jì)算單元，基于所述檢測單元中的檢測結(jié)果來計(jì)算所述接觸表面的面積。
11.一種粘彈特性測量方法，所述方法包括：
變形步驟，將外力施加到測量樣本以引起周期性變形；
第一計(jì)算步驟，基于作用在已經(jīng)被樣本變形單元變形的所述測量樣本上的應(yīng)力以及所述測量樣本的扭曲來計(jì)算所述測量樣本的低頻粘彈特性；
發(fā)射步驟，將入射聲波發(fā)射至已經(jīng)被樣本變形單元變形的所述測量樣本；
接收步驟，接收由于已經(jīng)被發(fā)射的所述入射聲波在所述測量樣本中的反射而產(chǎn)生的反射聲波或者由于所述入射聲波穿過所述測量樣本透射而產(chǎn)生的透射聲波；以及
第二粘彈特性計(jì)算步驟，基于已經(jīng)被接收的所述反射聲波或所述透射聲波在所述入射聲波的頻率下計(jì)算所述測量樣本的高頻粘彈特性。