技術(shù)特征：

1.一種干涉測量中成像畸變的標定系統(tǒng)，包括干涉測量裝置、調(diào)整機構(gòu)，其特征在于，還包括球冠網(wǎng)格板和數(shù)據(jù)處理裝置，

所述球冠網(wǎng)格板上分布有標記孔以及由所述標記孔標記而成的坐標軸，所述球冠網(wǎng)格板的曲率半徑與對被檢光學(xué)元件曲率半徑相同，用于對所述被檢光學(xué)元件進行畸變標定；

所述調(diào)整機構(gòu)，用于調(diào)整所述光學(xué)被檢光學(xué)元件處于所述干涉測量裝置共焦干涉檢測位置，所述被檢光學(xué)元件被檢區(qū)域中心、所述球冠網(wǎng)格板的幾何中心與所述干涉測量裝置的光軸重合，并調(diào)整所述球冠網(wǎng)格板的坐標軸與所述干涉測量裝置CCD探測器的坐標軸重合；

所述干涉測量裝置，用于對所述球冠網(wǎng)格板及所述被檢光學(xué)元件進行干涉檢測，獲取所述球冠網(wǎng)格板標記孔的干涉圖和所述被檢光學(xué)元件的干涉圖；

所述數(shù)據(jù)處理裝置，用于根據(jù)所述球冠網(wǎng)格板標記孔的干涉圖數(shù)據(jù)計算畸變坐標和無畸變坐標的函數(shù)關(guān)系，得到畸變函數(shù)模型；還用于根據(jù)所述被檢光學(xué)元件的干涉圖及所述畸變函數(shù)模型，計算得到所述被檢光學(xué)元件的面形誤差；

所述干涉測量裝置與所述調(diào)整機構(gòu)相對設(shè)置，所述被檢光學(xué)元件設(shè)置于所述調(diào)整機構(gòu)上，所述球冠網(wǎng)格板設(shè)置于所述干涉測量裝置與所述被檢光學(xué)元件之間。

2.如權(quán)利要求1所述的干涉測量中成像畸變的標定系統(tǒng)，其特征在于，所述球冠網(wǎng)格板為金屬結(jié)構(gòu)，所述標記孔為錐形通孔。

3.如權(quán)利要求1所述的干涉測量中成像畸變的標定系統(tǒng)，其特征在于，所述調(diào)整結(jié)構(gòu)包括轉(zhuǎn)臺和五維調(diào)整臺，所述轉(zhuǎn)臺設(shè)置于所述五維調(diào)整臺上；

所述五維調(diào)整臺用于調(diào)整所述被檢光學(xué)元件的空間位置，使所述被檢光學(xué)元件及所述球冠網(wǎng)格板被檢區(qū)域中心與所述干涉測量裝置光軸重合；

所述轉(zhuǎn)臺用于調(diào)整所述球冠網(wǎng)格板的幾何中心與所述干涉測量裝置的 光軸重合。

4.如權(quán)利要求1所述的干涉測量中成像畸變的標定系統(tǒng)，其特征在于，所述球冠網(wǎng)格板還包括固定結(jié)構(gòu)，用于將所述球冠網(wǎng)格板固定于所述被檢光學(xué)元件上。

5.如權(quán)利要求1所述的干涉測量中成像畸變的標定系統(tǒng)，其特征在于，所述干涉測量裝置提取球冠網(wǎng)格板中心標記孔與相鄰四個標記孔的平均像素間隔作為理想放大率，并將所有標記孔與中心標記孔的單位像素間隔作為實際放大率，根據(jù)所述球冠網(wǎng)格板標記孔含畸變干涉圖數(shù)據(jù)，計算所述球冠網(wǎng)格板標記孔畸變坐標和無畸變坐標之間的函數(shù)關(guān)系，得到畸變函數(shù)模型。

6.一種干涉測量中成像畸變的標定方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、調(diào)整被檢光學(xué)元件處于干涉測量裝置的共焦干涉檢測位置，并使所述被檢光學(xué)元件表面在CCD探測器上清晰成像，調(diào)整所述被檢光學(xué)元件被檢區(qū)域中心與所述干涉測量裝置光軸重合；

S2、將球冠網(wǎng)格板放置于所述干涉測量裝置與所述被檢光學(xué)元件之間，所述球冠網(wǎng)格板一側(cè)與所述被檢光學(xué)元件表面接觸，調(diào)整所述網(wǎng)格板標記孔的幾何中心與所述干涉測量裝置光軸重合，并使所述球冠網(wǎng)格板標記孔的坐標軸分別與所述干涉測量裝置CCD探測器的坐標軸重合；所述球冠網(wǎng)格板根據(jù)被檢光學(xué)元件的曲率半徑及口徑參數(shù)設(shè)計而成，所述球冠網(wǎng)格板為帶有標記孔及坐標軸的不透光結(jié)構(gòu)；

S3、利用所述干涉測量裝置對所述球冠網(wǎng)格板及所述被檢光學(xué)元件進行干涉檢測，獲取所述球冠網(wǎng)格板標記孔的含畸變干涉圖；

S4、根據(jù)所述球冠網(wǎng)格板標記孔含畸變干涉圖數(shù)據(jù)，并提取球冠網(wǎng)格板中心標記孔與相鄰四個標記孔的平均像素間隔作為理想放大率，將所有標記孔與中心標記孔的單位像素間隔作為實際放大率，計算所述球冠網(wǎng)格板標記孔畸變坐標和無畸變坐標之間的函數(shù)關(guān)系，得到畸變函數(shù)模型；

S5、將所述球冠網(wǎng)格板取下，利用所述干涉測量裝置對所述被檢光學(xué) 元件進行干涉測量，獲得所述被檢光學(xué)元件含畸變干涉圖；

S6、利用所述畸變函數(shù)模型及所述被檢光學(xué)元件含畸變干涉圖，求解所述被檢光學(xué)元件無畸變干涉圖，從而獲得所述被檢光學(xué)元件畸變干涉圖中的面形誤差，完成對所述被檢光學(xué)元件的畸變標定。

7.如權(quán)利要求6所述的干涉測量中成像畸變的標定方法，其特征在于，所述步驟S2中，所述球冠網(wǎng)格板與所述被檢光學(xué)元件接觸的表面曲率半徑與被檢光學(xué)元件曲率半徑相同，同時在X軸和Y軸上制作可以標識坐標軸方向的標記孔。

8.如權(quán)利要求6所述的干涉測量中成像畸變的標定方法，其特征在于，所述步驟S4包括以下步驟：

S41、去除所述球冠網(wǎng)格板標記孔含畸變干涉圖的噪聲點；

S42、通過計算球冠網(wǎng)格板每個標記孔全部像素坐標的算術(shù)平均值，求得球冠網(wǎng)格板每個標記孔含畸變的幾何中心坐標；

S43、以球冠網(wǎng)格板中心標記孔與相鄰四個標記孔的平均像素間隔作為理想放大率，每個標記孔與中心標記孔的單位像素間隔作為實際放大率，根據(jù)理想放大率計算每個標記孔幾何中心的無畸變坐標，從而獲得每個標記孔幾何中心的畸變坐標和無畸變坐標之間的函數(shù)關(guān)系，得到畸變函數(shù)模型。

9.如權(quán)利要求8所述的干涉測量中成像畸變的標定方法，其特征在于，步驟S43中，畸變函數(shù)模型為二階或四階多項式，通過每個標記孔幾何中心的畸變坐標和無畸變坐標之間的函數(shù)關(guān)系表示。

10.如權(quán)利要求9所述的干涉測量中成像畸變的標定方法，其特征在于，步驟S43中，所述畸變函數(shù)模型為二階多項式畸變函數(shù)模型：

u＝a₀+a₁x+a₂y+a₃x²+a₄y²+a₅xy，

v＝b₀+b₁x+b₂y+b₃x²+b₄y²+b₅xy

其中，a₀a₁a₂a₃a₄a₅和b₀b₁b₂b₃b₄b₅是對應(yīng)多項式函數(shù)的系數(shù)。(u,v)為 球冠網(wǎng)格板標記孔幾何中心的含畸變CCD坐標，(x，y)為球冠網(wǎng)格板標記孔幾何中心無畸變坐標。