提升應(yīng)用值指標(biāo)的x射線輻射成像安檢系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種提升應(yīng)用值指標(biāo)的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，包括：X射線源，配置用以發(fā)射X射線輻射束照射被檢查對(duì)象；探測(cè)器，配置成探測(cè)從被檢查對(duì)象散射或透射的X輻射束；檢查通道，布置在X射線源和探測(cè)器之間，被檢查對(duì)象在檢查通道中沿第一方向通過(guò)檢查通道以便接收檢查；其中，X射線源布置在檢查通道的一側(cè)的沿第二方向的中間部位，探測(cè)器布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)，所述第二方向與第一方向正交。本實(shí)用新型的安檢系統(tǒng)不需要對(duì)現(xiàn)有系統(tǒng)作大的調(diào)整即可以提高系統(tǒng)中射線的穿透力，解決現(xiàn)有的安全檢查系統(tǒng)穿透力偏小的難題。
【專利說(shuō)明】提升應(yīng)用值指標(biāo)的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種X射線輻射成像安檢領(lǐng)域，尤其地，涉及一種檢查手提行李的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其中X射線機(jī)和探測(cè)器陣列布置方式提升應(yīng)用值指標(biāo)。

【背景技術(shù)】
[0002]輻射成像檢查是海關(guān)、地鐵、民航機(jī)場(chǎng)和鐵路系統(tǒng)必需的安全檢測(cè)手段。
[0003]目前，以X射線機(jī)作為輻射源的輻射成像系統(tǒng)作為一種成熟的安檢技術(shù)手段被廣泛應(yīng)用?，F(xiàn)有技術(shù)中，檢查手提行李的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其X射線源(即X射線機(jī))大多布置在掃描通道下面，探測(cè)器陣列布置成倒“L”形排布(由橫探測(cè)器陣列和豎探測(cè)器陣列組成)，位于掃描通道上方。在這種成像系統(tǒng)中，X射線機(jī)安裝在豎探測(cè)器陣列的對(duì)面的下方，X射線機(jī)的靶點(diǎn)與橫探測(cè)器陣列的起始位置在同一垂直面。這種X射線機(jī)和探測(cè)器位置布置方式可以使在同樣掃描通道截面尺寸下，探測(cè)器數(shù)量最少，從而降低設(shè)備成本。然而，在這種X射線機(jī)位置和倒“L”形探測(cè)器排布方式下，由于X射線機(jī)靶點(diǎn)靠近掃描通道一側(cè)，使得成像系統(tǒng)的最大穿透力位置(成像系統(tǒng)的典型穿透力位置)在靠近光機(jī)一側(cè)的通道邊附近，這時(shí)靠近掃描通道中心位置(即成像系統(tǒng)的應(yīng)用穿透力位置)由于距離光機(jī)靶點(diǎn)較遠(yuǎn)使得穿透力會(huì)下降，達(dá)不到典型位置的穿透力。而實(shí)際應(yīng)用時(shí)，被掃描物體大多放置在掃描通道中央，即被放置在應(yīng)用值位置。這樣就意味著掃描檢查時(shí)設(shè)備的最強(qiáng)穿透區(qū)域不能掃描到被檢查的行李，即掃描時(shí)被檢查行李不能到達(dá)掃描設(shè)備的最佳穿透區(qū)域，系統(tǒng)指標(biāo)和掃描圖像質(zhì)量必然會(huì)受到較大影響。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]為了克服上述技術(shù)方案中存在的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的是提供一種X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其中X射線機(jī)和探測(cè)器陣列的布置方式使得成像系統(tǒng)的穿透力應(yīng)用值能夠到達(dá)系統(tǒng)的最大穿透力，即系統(tǒng)的穿透力應(yīng)用值和典型值一樣大。
[0005]為了達(dá)到上述的實(shí)用新型目的，解決上述問(wèn)題的關(guān)鍵在于如何使成像系統(tǒng)的穿透力典型值位置和應(yīng)用值位置能夠重合。
[0006]本實(shí)用新型技術(shù)方案以如下方式實(shí)現(xiàn):
[0007]一種X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，包括:X射線源，配置用以發(fā)射X射線輻射束照射被檢查對(duì)象；探測(cè)器，配置成探測(cè)從被檢查對(duì)象散射或透射的X輻射束，檢查通道，布置在X射線源和探測(cè)器之間，被檢查對(duì)象在檢查通道中沿第一方向通過(guò)檢查通道以便接收檢查，其中，X射線源布置在檢查通道的一側(cè)的沿第二方向的中間部位，探測(cè)器布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)，所述第二方向與第一方向正交。
[0008]根據(jù)本實(shí)用新型一方面，所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)并且沿第二方向分布形成至少一列。
[0009]根據(jù)本實(shí)用新型一方面，所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)并且沿第二方向分布形成排列以便覆蓋檢查通道的一側(cè)，收集X射線。
[0010]根據(jù)本實(shí)用新型一方面，所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的一側(cè)，并且在第二方向上分布形成排列以便包圍位于檢查通道中被檢查對(duì)象的三側(cè)面。
[0011]根據(jù)本實(shí)用新型一方面，所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)分布以在與第一方向正交的橫向平面內(nèi)形成“門”形排列或“U”形排列。
[0012]根據(jù)本實(shí)用新型一方面，所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)并且分布在與第一方向正交的橫向平面內(nèi)形成弧形排列。
[0013]根據(jù)本實(shí)用新型一方面，所述探測(cè)器陣列中的每個(gè)探測(cè)器的探測(cè)表面布置成探測(cè)表面的法線方向指向X射線源。
[0014]根據(jù)本實(shí)用新型一方面，X射線源是單一靶點(diǎn)X射線源。
[0015]采用本方案探測(cè)器的排列方式，原設(shè)備的其他分系統(tǒng)結(jié)構(gòu)不需要做大的調(diào)整，能有效的在不提高現(xiàn)有射線源能量的情況下，解決安全檢查系統(tǒng)穿透力偏小的難題。
[0016]試驗(yàn)表明，采用本方案X射線機(jī)和探測(cè)器排列方式，最大穿透力由原來(lái)的40mm鋼板達(dá)到46mm鋼板；很好的解決了高端用戶對(duì)于安全檢查系統(tǒng)穿透力的要求。
[0017]通過(guò)對(duì)射線源的調(diào)整，很好解決了原設(shè)備典型值與應(yīng)用值之間的差距，采用本方案的探測(cè)器排列，使設(shè)備的典型值與應(yīng)用值相同，提升了設(shè)備的性能。
[0018]附圖及其簡(jiǎn)要說(shuō)明
[0019]圖1示出根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)。
[0020]圖2示出根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)。
[0021]圖3示出根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)實(shí)施例的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)。

【具體實(shí)施方式】
[0022]下面參照?qǐng)D1描述根據(jù)本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)。X射線輻射成像安檢系統(tǒng)包括X射線源1、探測(cè)器2以及布置在X射線源1和探測(cè)器2之間的檢查通道3。X射線源1配置用以發(fā)射X射線輻射束照射被檢查對(duì)象。探測(cè)器2配置成探測(cè)從被檢查對(duì)象Μ散射或透射的X輻射束。被檢查對(duì)象Μ被置于檢查通道3中靜止或沿垂直于紙面的方向移動(dòng)通過(guò)檢查通道3。在被檢查對(duì)象Μ處于檢查通道中的時(shí)候，X射線照射被檢查對(duì)象Μ，并且X射線透射通過(guò)被檢查對(duì)象Μ或被被檢查對(duì)象Μ散射。
[0023]探測(cè)器2具有探測(cè)表面4，探測(cè)器2的探測(cè)表面4布置成面向散射或透射的X射線以便散射或透射的X射線以接近垂直的方式入射到探測(cè)表面4。即，每個(gè)探測(cè)器的探測(cè)表面4的法線方向基本上指向X射線源1，或法向方向基本上平行于X射線入射方向。
[0024]如圖1所示，X射線源1布置在檢查通道的下方，即如圖所示的靶點(diǎn)1。從X射線源向上發(fā)射X射線照射被檢查對(duì)象Μ。探測(cè)器2布置在X射線源的相對(duì)側(cè)，即布置在檢查通道的上方接收從被檢查對(duì)象透射或反射的X射線從而完成檢查的目的。在如圖1所示的實(shí)施例中，探測(cè)器是具有多個(gè)探測(cè)器的探測(cè)器列或陣列。在紙面所在的平面內(nèi)，即在沿檢查通道的橫向截面的平面內(nèi)，探測(cè)器陣列布置成“門”形的陣列?！伴T”形探測(cè)器陣列布置成包圍被檢查對(duì)象Μ的三個(gè)側(cè)面。探測(cè)器陣列還可以布置成覆蓋檢查通道的一側(cè)，以便收集X射線。
[0025]在如圖1所示的實(shí)施例中，X射線源是單一靶點(diǎn)源。
[0026]在如圖1所示的實(shí)施例中，探測(cè)器采用“門”形排列，射線源布置在檢查通道的正下方，使射線盡可能垂直通過(guò)檢查通道中的被檢查對(duì)象，并減少射線到達(dá)探測(cè)器的距離，增加了射線到達(dá)探測(cè)器的有效能量。成像系統(tǒng)的最大穿透力位置(成像系統(tǒng)的典型穿透力位置)在通道中心位置附近，從而提高設(shè)備的穿透力，并且成像系統(tǒng)的典型值和成像系統(tǒng)的應(yīng)用值做到基本上相等。
[0027]并且，采用本實(shí)施例的X射線源和探測(cè)器的排列方式，現(xiàn)有的原設(shè)備的其他分系統(tǒng)結(jié)構(gòu)不需要做大的調(diào)整，能有效的在不提高現(xiàn)有X射線源能量的情況下，解決安全檢查系統(tǒng)穿透力偏小的難題。
[0028]試驗(yàn)表明，采用本方案X射線機(jī)和探測(cè)器排列方式，最大穿透力由原來(lái)的40mm鋼板達(dá)到46mm鋼板；很好的解決了高端用戶對(duì)于安全檢查系統(tǒng)穿透力的要求。
[0029]在本實(shí)施例中，可以提供例如成像裝置的系統(tǒng)，其與探測(cè)器耦接以便將探測(cè)器的信號(hào)以圖像的方式輸出。
[0030]根據(jù)本實(shí)用新型的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)操作過(guò)程如下:當(dāng)被檢查對(duì)象被置于檢查通道中，X射線源發(fā)射X射線輻射束照射被檢查對(duì)象，X射線透射被檢查對(duì)象，或者被反射，透射輻射或反射輻射被探測(cè)器陣列收集，從而在配套系統(tǒng)的顯示器中顯示被檢查對(duì)象的X射線像。操作者可以由此觀察被檢查對(duì)象是否攜帶違禁物品。
[0031]圖2示出根據(jù)本實(shí)用新型的另一實(shí)施例。在如圖2所示的實(shí)施例中，安全檢查系統(tǒng)與圖1中的安全檢查系統(tǒng)不同之處在于，探測(cè)器陣列與X射線源的位置互換。在圖2中，X射線源布置在檢查通道的上方，也即是被檢查對(duì)象Μ的上方，而探測(cè)器陣列布置在通道的下方附近。在如圖2所示的實(shí)施例中，探測(cè)器陣列是“U”形的陣列，其包圍被檢查對(duì)象的三個(gè)側(cè)面。探測(cè)器陣列中的每個(gè)探測(cè)器的探測(cè)表面的法線方向基本上指向X射線源。
[0032]圖3示出根據(jù)本實(shí)用新型的還一實(shí)施例。在如圖3所示的實(shí)施例中，安全檢查系統(tǒng)與圖1中的安全檢查系統(tǒng)類似。不同之處在于，探測(cè)器陣列布置在檢查通道的上方，并且呈弧形排列，每個(gè)探測(cè)器的探測(cè)表面的法線方向基本上指向X射線源。
【權(quán)利要求】
1.一種X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其特征在于，包括: X射線源，配置用以發(fā)射X射線輻射束照射被檢查對(duì)象； 探測(cè)器，配置成探測(cè)從被檢查對(duì)象散射或透射的X輻射束， 檢查通道，布置在X射線源和探測(cè)器之間，被檢查對(duì)象在檢查通道中靜止放置或沿第一方向通過(guò)檢查通道以便接收檢查， 其中，X射線源布置在檢查通道的一側(cè)的沿第二方向的中間部位，探測(cè)器布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)，所述第二方向與第一方向正交。
2.如權(quán)利要求1所述的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其特征在于， 探測(cè)器是探測(cè)器陣列，所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)并且沿第二方向分布形成至少一列。
3.如權(quán)利要求2所述的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其特征在于， 所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)并且沿第二方向分布形成排列以便覆蓋檢查通道的一側(cè)，以便收集X射線。
4.如權(quán)利要求2所述的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其特征在于，所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的一側(cè)，并且在第二方向上分布形成排列以便包圍位于檢查通道中被檢查對(duì)象的三側(cè)面。
5.如權(quán)利要求2所述的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其特征在于， 所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)分布以在與第一方向正交的橫向平面內(nèi)形成“門”形排列或“U”形排列。
6.如權(quán)利要求2所述的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其特征在于， 所述探測(cè)器陣列布置在檢查通道的與X射線源相對(duì)的一側(cè)并且分布在與第一方向正交的橫向平面內(nèi)形成弧形排列。
7.如權(quán)利要求2所述的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其特征在于， 所述探測(cè)器陣列中的每個(gè)探測(cè)器的探測(cè)表面布置成探測(cè)表面的法線方向指向X射線源。
8.如權(quán)利要求1所述的X射線輻射成像安檢系統(tǒng)，其特征在于， X射線源是單一靶點(diǎn)X射線源。
【文檔編號(hào)】G01N23/04GK204166147SQ201420674591
【公開(kāi)日】2015年2月18日 申請(qǐng)日期:2014年11月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月6日
【發(fā)明者】楊中榮, 王濤, 鄧佳為 申請(qǐng)人:同方威視技術(shù)股份有限公司