一種膜厚測量方法及裝置、涂覆的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及成膜【技術領域】，公開了一種膜厚測量方法及裝置、涂覆機。在涂覆機上設置膜厚測量裝置，所述膜厚測量裝置通過獲取光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，來測量形成的濕膜厚度，由于濕膜厚度對應干燥后的膜厚變化量是一定的，通過測量濕膜的厚度即可快速得到干燥后的膜厚，縮短了測量干燥后的膜厚所需的工藝時間，且在測試基板上形成濕膜所需的物料很少，不會造成大量物料的浪費。
【專利說明】 一種膜厚測里方法及裝直、涂覆機
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及成膜【技術領域】，特別是涉及一種膜厚測量方法及裝置、涂覆機。
【背景技術】
[0002]薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,簡稱TFT-LCD)具有體積小，功耗低，無輻射等特點，近年來得到迅速發(fā)展，在當前的平板顯示器市場中占據主導地位。液晶面板是TFT-1XD的核心部件，包括對盒設置的陣列基板和彩膜基板，以及填充在陣列基板和彩膜基板之間的液晶。其中，彩膜基板上形成有黑矩陣和彩色濾光片，黑矩陣限定多個矩陣區(qū)域，彩色濾光片位于矩陣區(qū)域內，用于實現彩色顯示。
[0003]彩色濾光片的厚度是影響彩膜基板性能的重要因素。目前制備彩膜基板的工藝流程中，涂覆機在透明基板的表面涂覆彩膜樹脂層后，經過曝光顯影，高溫烘烤之后才得以測量彩色濾光片的膜厚，從開始涂覆彩膜樹脂層到測量出干燥后的膜厚結果需要lh，甚至更多的工藝制備時間。若實際測量的膜厚不符合產品標準，則需要重新涂覆光刻膠，并依次經過上述工藝流程，直到測試結果符合標準才可以開始得以量產，目前現有的生產模式會浪費大量的工藝時間，造成產能的損失。且量產過程中無法實時監(jiān)測膜厚的結果，使得測量結果出現偏差時會造成大量物料的損失。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明提供一種膜厚測量方法及裝置、涂覆機，用以解決現有技術中需要在實際生產過程中的膜層制備完成并干燥后，才能對膜厚進行測量，浪費大量的工藝時間，造成大量物料的損失的問題。
[0005]為解決上述技術問題，本發(fā)明提供一種膜厚測量裝置，用于測量測試基板上形成的濕膜厚度，包括:
[0006]光源，發(fā)出的光線經過所述測試基板上的濕膜后射出；
[0007]光感單元，用于接收所述光源射出的光線，輸出相應的感應信號；
[0008]參數檢測值獲取單元，用于接收所述光感單元輸出的感應信號，根據所述感應信號獲取所述光源發(fā)出的光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，所述識別參數檢測值與濕膜的厚度相關；
[0009]計算單元，用于根據所述識別參數檢測值計算出濕膜的厚度。
[0010]本發(fā)明還提供一種涂覆機，包括用于在測試基板上形成濕膜的噴嘴，還包括如上所述的膜厚測量裝置。
[0011]本發(fā)明還提供一種測量基板上形成的濕膜厚度的方法，包括:
[0012]打開一光源，所述光源發(fā)出的光線經過測試基板上的濕膜后射出；
[0013]感應所述光源射出的光線，輸出相應的感應信號；
[0014]根據所述感應信號獲取所述光源發(fā)出的光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，所述識別參數檢測值與濕膜的厚度相關；[0015]根據所述識別參數檢測值計算出濕膜的厚度。
[0016]本發(fā)明的上述技術方案的有益效果如下:
[0017]上述技術方案中，在涂覆機上設置膜厚測量裝置，所述膜厚測量裝置通過獲取光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，來測量形成的濕膜厚度，由于濕膜厚度對應干燥后的膜厚變化量是一定的，通過測量濕膜的厚度即可快速得到干燥后的膜厚，縮短了測量干燥后的膜厚所需的工藝時間，且在測試基板上形成濕膜所需的物料很少，不會造成大量物料的浪費。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0019]圖1表示本發(fā)明實施例中涂覆機的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0020]現有技術中的成膜工藝包括濕膜涂覆和干燥兩個工藝，相對于濕膜的厚度，干燥后的膜厚會降低15%?20%，而對于某種材料的膜層，其干燥前后的膜厚變化量是一定的。因此，通過測量濕膜的厚度，即可得出干燥后的膜厚。而本發(fā)明中測量的膜厚就是濕膜的厚度，由于不需要經過干燥工藝，就可以得出干燥后的膜厚是否符合產品標準，大大縮短了測量膜厚的工藝時間。對應的，可以根據干燥后的膜厚標準得到濕膜的厚度標準。
[0021]本發(fā)明就是利用上述原理，提供一種膜厚測量方法及裝置、涂覆機，用于測量測試基板上形成的濕膜厚度，若測量的濕膜厚度不符合標準，可以改變涂覆機中噴嘴的流量，以及噴嘴與測試基板的相對運動速度等參數，再次涂覆濕膜，直至形成的濕膜厚度符合標準，并將對應的參數設定用于實際量產。由于只需在測試基板上形成面積較小的濕膜，不會造成大量物料的浪費。
[0022]下面將結合附圖和實施例，對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。
[0023]實施例一
[0024]結合圖1所示，本發(fā)明實施例中提供一種膜厚測量裝置，用于測量測試基板100上形成的濕膜101的厚度。其中，測試基板100為透明基板，如石英基板、玻璃基板或有機樹脂基板。
[0025]所述膜厚測量裝置包括光源1、光感單元2、參數檢測值獲取單元3和計算單元4。其中，光源I發(fā)出的光線經過測試基板100上的濕膜101后射出；光感單元2用于接收光源I射出的光線(經過測試基板100上的濕膜101后射出的光線)，并輸出相應的感應信號；參數檢測值獲取單元3用于接收光感單元2輸出的感應信號，并根據所述感應信號獲取光源I發(fā)出的光線經過測試基板100上的濕膜101后的識別參數檢測值，所述識別參數檢測值與濕膜101的厚度相關；計算單元4用于根據所述識別參數檢測值計算出濕膜的厚度。
[0026]上述技術方案中，膜厚測量裝置通過獲取光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，來測量形成的濕膜厚度，由于濕膜厚度對應干燥后的膜厚變化量是一定的，通過測量濕膜的厚度即可快速得到干燥后的膜厚，缺省了干燥工藝，縮短了測量干燥后的膜厚所需的工藝時間，且在測試基板上形成濕膜所需的物料很少，不會造成大量物料的浪費。
[0027]其中，光源I可以為激光源，因其具有單色性好、方向性強、光亮度高等優(yōu)點，可以提高檢測靈敏度和精度。
[0028]所述識別參數檢測值至少包括一種參數值。
[0029]為了根據獲取的識別參數檢測值計算出濕膜101的厚度，可以設置計算單元4包括數據庫41、匹配模塊42和確定模塊43。具體的:
[0030]首先，對于某一材料的濕膜，預設設置多個濕膜厚度，并獲取與每個濕膜厚度對應的識別參數統(tǒng)計值，最好設置所述識別參數統(tǒng)計值與識別參數檢測值的參數種類相同且個數相同。并將獲取的多組識別參數統(tǒng)計值，以及與每組識別參數統(tǒng)計值對應的濕膜厚度，存儲到數據庫41中。
[0031]然后，通過匹配模塊42將獲取的識別參數檢測值與數據庫41中的多組識別參數統(tǒng)計值分別進行比較，從所述多組識別參數統(tǒng)計值中確定與所述識別參數檢測值匹配的一組識別參數統(tǒng)計值；
[0032]最后，確定模塊43確定所述識別參數檢測值對應的膜層厚度為:與所述識別參數檢測值匹配的一組識別參數統(tǒng)計值對應的濕膜厚度。
[0033]需要說明的是，上述只是計算單元4的一種實現方式，并不是一種限定。例如:也可以預先獲取識別參數檢測值與膜層厚度的函數關系，計算單元4根據該函數關系來計算識別參數檢測值對應的濕膜厚度。
[0034]進一步地，光線經過濕膜后、并與濕膜厚度相關的識別參數檢測值，可以為光透過率(光強的變化量)。
[0035]相應地，光感單元2為感應光強的傳感器，如:光敏電阻。參數檢測值獲取單元3根據光源I的光強和光感單元2感應的光強，即可獲取光線經過濕膜101后的光透過率。計算單元4根據所述光透過率計算出濕膜101的厚度。
[0036]為了便于實際應用，設置所述膜厚測量裝置還包括光偏轉單元5，用于接收光源I射出的光線(經測試基板100上的濕膜101后射出的光線)，并將接收到的光線進行投射，實現對光路的改變，將光源I射出的光線投射到光感單元2。具體的，光偏轉單元5可以由至少一個平面鏡組成，所述平面鏡用于接收光源I射出的光線，并將接收到的光線進行投射。
[0037]下面以液晶顯示器的彩膜基板上的彩膜樹脂層制備過程為例，來具體說明本發(fā)明實施例中膜厚測量裝置的工作過程:
[0038]由于彩膜樹脂層在自然光及紫外光照射下，會發(fā)生固化交聯(lián)反應，因此，光源I選擇紅外激光源。
[0039]獲取多個光透過率統(tǒng)計值，以及光透過率統(tǒng)計值與彩膜樹脂層(濕膜)厚度的對應關系:
[0040]在彩膜基板上形成的彩膜樹脂層的濕膜厚度范圍為2?4μπι，設置多個濕膜厚度:2 μ m、2.1 μ m、2.2 μ m、......、3.8 μ m、3.9 μ m、4.0 μ m。
[0041]在測試基板100上形成2 μ m厚度的彩膜樹脂層101 ；[0042]當光感單元2和光源I位于測試基板100的同側時，如圖1所示，打開光源1，發(fā)出的光線經過彩膜樹脂層101后，射出至第一平面鏡51，第一平面鏡51將光線反射至第二平面鏡52，第二平面鏡52將光線反射至光感單元2 ;當光感單元2和光源I位于測試基板100的相對側時，打開光源1，發(fā)出的光線經過彩膜樹脂層101后，射出至第一平面鏡51，第一平面鏡51將光線直接反射至光感單元2。
[0043]光感單元2輸出光強信號至參數檢測值獲取單元3，參數檢測值獲取單元3根據光源I的光強和接收的光強，獲取光線經過彩膜樹脂層101后的光透過率統(tǒng)計值；
[0044]重復上述步驟，獲取2.1 μ m、2.2 μ nr..3.8 μ m、3.9 μ m、4.0ym厚度的彩膜樹脂層101對應的光透過率統(tǒng)計值；
[0045]將上述得到的多個光透過率統(tǒng)計值，以及與每個光透過率統(tǒng)計值對應的濕膜厚度存儲到數據庫41中。
[0046]本實施例中膜厚測量裝置的具體工作過程為:
[0047]按照用于實際量產的參數設定噴嘴的流量以及噴嘴和測試基板的相對運動速度等，然后在測試基板100上形成彩膜樹脂層101 ；
[0048]打開光源1，發(fā)出的光線經過彩膜層101后，射出至第一平面鏡51，第一平面鏡51將光線反射至第二平面鏡52，第二平面鏡52將光線反射至光感單元2，光感單元2輸出光強信號至參數檢測值獲取單元3，參數檢測值獲取單元3根據光源I的光強和接收的光強，獲取光線經過彩膜層101的光透過率檢測值；
[0049]匹配模塊42將獲取的光透過率檢測值與數據庫41中的多個光透過率統(tǒng)計值分別進行比較，從所述多個光透過率統(tǒng)計值中確定與光透過率檢測值匹配的一個光透過率統(tǒng)計值；
[0050]確定模塊43確定光透過率檢測值對應的濕膜厚度為:與光透過率檢測值匹配的一個光透過率統(tǒng)計值對應的濕膜厚度。
[0051]如果確定的濕膜厚度不符合濕膜的厚度標準(根據干燥后的膜厚標準得出)，調整噴嘴的流量，以及噴嘴和測試基板的相對運動速度等參數，直至確定的濕膜厚度符合濕膜的厚度標準，并將調整后的參數值用于實際量產。
[0052]實施例二
[0053]結合圖1所示，本發(fā)明實施例中還提供一種涂覆機，包括用于在測試基板100上形成濕膜101的噴嘴10，通過控制噴嘴10噴出物料的流量，以及測試基板100和噴嘴10的相對運動速度，可以在測試基板100上形成一定厚度的濕膜。所述涂覆機可以為實際量產中使用的涂覆機，也可以為單獨設計的涂覆機。
[0054]所述涂覆機還包括實施例一中的膜厚測量裝置，從而可以通過對濕膜厚度的測量，得到干燥后的膜厚是否符合標準，缺省了干燥工藝，縮短了測量干燥后的膜厚所需的工藝時間，且在測試基板上形成濕膜所需的物料很少，不會造成大量物料的浪費。
[0055]其中，所述膜厚測量裝置與噴嘴10的位置相對固定，在濕膜涂覆過程中，同時相對測試基板100運動，能夠實現對濕膜厚度的實時測量。
[0056]在一個具體的實施方式中，所述膜厚測量裝置的光源I和光感單元2位于測試基板100的相對側，且位置對應，使得光源I發(fā)出的光線經過濕膜101后，直接射出至光感單元2。[0057]進一步地，為了實現對濕膜厚度的實時測量，在噴嘴10相對測試基板100運動的方向上，設置光源I和光感單兀2位于噴嘴10的后方。
[0058]在另一個具體的實施方式中，所述膜厚測量裝置還包括光偏轉單元5，實現光路的改變，便于實際應用。其中，光源I和光感單兀2位于測試基板100的同側。光源I和光偏轉單元5位于測試基板100的相對側，且位置對應，使得光源I發(fā)出的光線經過濕膜101后，射出至光偏轉單元5，光偏轉單元5再將光線投射至光感單元2。
[0059]進一步地，為了實現對膜厚的實時測量，設置光源I和光感單元2位于噴嘴10的兩側，并在噴嘴10相對測試基板100運動的方向上，設置光源I和光偏轉單元5位于噴嘴10的后方。
[0060]當光感單元2和光源I位于測試基板100的同側時，為了實現光路改變，比較簡單的一種形式為:光偏轉單元5包括第一平面鏡51和第二平面鏡52。其中，第一平面鏡51與光源I的位置對應，用于接收光源I射出的光線(經測試基板100上的濕膜101后射出的光線)，并進行反射；第二平面鏡52用于接收第一平面鏡51反射的光線，并進行反射。光感單元2用于接收第二平面鏡52反射的光線，具體的光路圖參見圖1中的箭頭方向。
[0061]當光感單元2和光源I位于測試基板100的相對側時，為了實現光路改變，比較簡單的一種形式為:光偏轉單元5包括第一平面鏡51，第一平面鏡51和光源I位于測試基板100的相對側，且位置對應。第一平面鏡51用于接收光源I射出的光線(經測試基板100上的濕膜101后射出的光線)，并進行反射，光感單元2用于接收第一平面鏡51反射的光線。
[0062]結合圖1所示，下面以涂覆機為用于實際量產的涂覆機為例，來具體說明本發(fā)明實施例中涂覆機的工作過程:
[0063]將一測試基板100固定在噴嘴10下方；
[0064]控制噴嘴10和測試基板100相對運動；
[0065]打開噴嘴10，在測試基板100上形成一定長度的濕膜101 ；
[0066]打開光源1，發(fā)出的光線經過測試基板100上的濕膜101后射出；
[0067]第一平面鏡51接收光源I射出的光線(經過測試基板100上的濕膜101后射出的光線)，并進行反射，第二平面鏡52接收第一平面鏡51反射的光線，并進行反射；
[0068]光感單兀2接收第二平面鏡52反射的光線,并輸出感應的光強信號；
[0069]參數檢測值獲取單元3接收光強信號，并根據光源I的光強信號和接收的光強信號，獲取光源I發(fā)出的光線經過測試基板100上的濕膜101后的光透過率檢測值；
[0070]匹配模塊42將獲取的光透過率檢測值與數據庫41中預先存儲的多個光透過率統(tǒng)計值分別進行比較，從所述多個光透過率統(tǒng)計值中確定與光透過率檢測值匹配的一個光透過率統(tǒng)計值；
[0071]確定模塊43確定光透過率檢測值對應的濕膜厚度為:與所述光透過率檢測值匹配的一個光透過率統(tǒng)計值對應的獲取厚度。
[0072]如果確定的濕膜厚度不符合濕膜的厚度標準，調整噴嘴10的流量，以及噴嘴10和測試基100的相對運動速度等參數，直至確定的濕膜厚度符合濕膜的厚度標準；
[0073]進行實際的量產。
[0074]實施例三[0075]本發(fā)明實施例中提供一種測量測試基板上形成的濕膜厚度的方法，包括:
[0076]打開一光源，發(fā)出的光線經過測試基板上的濕膜后射出；
[0077]感應所述光源射出的光線，輸出相應的感應信號；
[0078]根據所述感應信號獲取所述光源發(fā)出的光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，所述識別參數檢測值與濕膜的厚度相關；
[0079]根據所述識別參數檢測值計算出濕膜的厚度。
[0080]對于某種材料的濕膜，濕膜厚度對應干燥前后的膜厚變化量是一定的。因此，通過測量濕膜的厚度，即可得出干燥后的膜厚。對應的，可以根據干燥后的膜厚標準得到濕膜的厚度標準。
[0081]通過上述步驟來測量濕膜的厚度，就可以得到干燥后的膜厚是否符合標準，缺省了干燥工藝，縮短了測量干燥后的膜厚所需的工藝時間。同時，由于只需在測試基板上形成面積較小的濕膜，不會造成大量物料的浪費。
[0082]具體的，所述根據所述識別參數檢測值計算出膜層的厚度的步驟包括:
[0083]預先設置多組識別參數統(tǒng)計值，以及與每個識別參數統(tǒng)計值對應的濕膜厚度；
[0084]將所述識別參數檢測值與所述數據庫中的多組識別參數統(tǒng)計值分別進行比較，從所述多組識別參數統(tǒng)計值中確定與所述識別參數檢測值匹配的一組識別參數統(tǒng)計值；
[0085]確定所述識別參數檢測值對應的濕膜厚度為:與所述識別參數檢測值匹配的一組識別參數統(tǒng)計值對應的濕膜厚度。
[0086]需要說明的是，上述步驟并不是一種限定。例如:也可以預先設置識別參數檢測值與濕膜厚度的函數關系，然后根據該函數關系來計算識別參數檢測值對應的膜層厚度。
[0087]本發(fā)明的技術方案中，在涂覆機上設置膜厚測量裝置，所述膜厚測量裝置通過獲取光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，來測量形成的濕膜厚度，由于濕膜厚度對應干燥后的膜厚變化量是一定的，通過測量濕膜的厚度即可快速得到干燥后的膜厚，缺省了干燥工藝，縮短了測量干燥后的膜厚所需的工藝時間，且在測試基板上形成濕膜所需的物料很少，不會造成大量物料的浪費。
[0088]本發(fā)明適用于具有較高光透過率的濕膜厚度的測量。
[0089]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本【技術領域】的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明技術原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應視為本發(fā)明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種膜厚測量裝置，用于測量測試基板上形成的濕膜厚度，其特征在于，包括: 光源，發(fā)出的光線經過所述測試基板上的濕膜后射出； 光感單元，用于接收所述光源射出的光線，輸出相應的感應信號； 參數檢測值獲取單元，用于接收所述光感單元輸出的感應信號，根據所述感應信號獲取所述光源發(fā)出的光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，所述識別參數檢測值與濕膜的厚度相關； 計算單元，用于根據所述識別參數檢測值計算出濕膜的厚度。
2.權利要求1所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述計算單元包括: 數據庫，用于存儲多組識別參數統(tǒng)計值，以及與每組識別參數統(tǒng)計值對應的膜層厚度； 匹配模塊，將所述識別參數檢測值與所述數據庫中的多組識別參數統(tǒng)計值分別進行比較，從所述多組識別參數統(tǒng)計值中確定與所述識別參數檢測值匹配的一組識別參數統(tǒng)計值； 確定模塊，用于確定所述識別參數檢測值對應的濕膜厚度為:與所述識別參數檢測值匹配的一組識別參數統(tǒng)計值對應的濕膜厚度。
3.權利要求1所述 的膜厚測量裝置，其特征在于，還包括: 光偏轉單元，用于接收所述光源射出的光線，并將接收到的光線進行投射； 所述光感單元用于接收所述光偏轉單元投射的光線。
4.根據權利要求3所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述光偏轉單元由至少一個平面鏡組成，所述平面鏡用于接收所述光源射出的光線，并將接收到的光線進行投射。
5.根據權利要求1-4任一項所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述光源為激光源。
6.根據權利要求5所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述濕膜為彩膜樹脂層； 所述光源為紅外激光源。
7.根據權利要求1-4任一項所述的膜厚測量裝置，其特征在于，所述識別參數檢測值為光透過率。
8.一種涂覆機，包括用于在測試基板上形成濕膜的噴嘴，其特征在于，還包括權利要求1-7任一項所述的膜厚測量裝置。
9.根據權利要求8所述的涂覆機，其特征在于，所述膜厚測量裝置與所述噴嘴的位置相對固定。
10.根據權利要求9所述的涂覆機，其特征在于，所述膜厚測量裝置的光源和光感單元位于所述測試基板的相對側，且位置對應。
11.根據權利要求10所述的涂覆機，其特征在于，在噴嘴相對測試基板運動的方向上，所述光源和光感單元位于噴嘴的后方。
12.根據權利要求9所述的涂覆機，其特征在于，所述膜厚測量裝置還包括光偏轉單元; 所述膜厚測量裝置的光源和光感單元位于所述測試基板的同側； 所述光源和光偏轉單元位于所述測試基板的相對側，且位置對應。
13.根據權利要求12所述的涂覆機，其特征在于，所述光源和光感單元位于所述噴嘴的兩側；在噴嘴相對測試基板運動的方向上，所述光源和光偏轉單元位于噴嘴的后方。
14.根據權利要求12所述的涂覆機，其特征在于，所述光偏轉單元包括: 第一平面鏡，與所述光源的位置對應，用于接收所述光源射出的光線，并進行反射； 第二平面鏡，用于接收所述第一平面鏡反射的光線，并進行反射； 所述光感單元用于接收所述第二平面鏡反射的光線。
15.一種測量基板上形成的濕膜厚度的方法，其特征在于，包括: 打開一光源，所述光源發(fā)出的光線經過測試基板上的濕膜后射出； 感應所述光源射出的光線，輸出相應的感應信號； 根據所述感應信號獲取所述光源發(fā)出的光線經過測試基板上的濕膜后的識別參數檢測值，所述識別參數檢測值與濕膜的厚度相關； 根據所述識別參數檢測值計算出濕膜的厚度。
16.根據權利要求15所述的方法，其特征在于，所述根據所述識別參數檢測值計算出濕膜的厚度的步驟包括: 預先設置多組識別參數統(tǒng)計值，以及與每個識別參數統(tǒng)計值對應的膜層厚度； 將所述識別參數檢測值與所述數據庫中的多組識別參數統(tǒng)計值分別進行比較，從所述多組識別參數統(tǒng)計值中確定與所述識別參數檢測值匹配的一組識別參數統(tǒng)計值； 確定所述識別參數檢測值對應的濕膜厚度為:與所述識別參數檢測值匹配的一組識別參數統(tǒng)計值對應的濕膜厚度。
【文檔編號】G01B11/06GK103983200SQ201410184440
【公開日】2014年8月13日 申請日期:2014年5月4日 優(yōu)先權日:2014年5月4日
【發(fā)明者】肖宇, 袁劍峰, 吳洪江, 董明, 馮賀 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司