電波暗室的制作方法
【專利摘要】一種電波暗室，包括一周壁及一頂壁，該周壁及頂壁的內(nèi)表面鋪設(shè)有若干正六邊形的鐵氧體板，這些鐵氧體板緊密排列呈蜂窩狀，每一鐵氧體板的邊長小于待吸收電磁波的波長的四分之一。所述電波暗室的鐵氧體板呈正六邊形，邊長小于待吸收電磁波的波長的四分之一，相鄰的兩鐵氧體板的對應(yīng)邊之間形成的縫隙的長度小于四分之一電磁波的長度，使大部分射入縫隙內(nèi)的電磁波被吸收，提高了電波暗室的吸波率，確保測試結(jié)果的準(zhǔn)確性。
【專利說明】電波暗室
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種電波暗室。
【背景技術(shù)】
[0002]電磁兼容(Electromagnetic Compatibility, EMC)測試需要使用電波暗室作為測試場地。通常電腦及手機等電子產(chǎn)品的電磁波頻率范圍一般為30MHz至IGHz (波長范圍為10米至0.3米)。現(xiàn)有電波暗室的周壁及頂壁的內(nèi)表面上通常鋪設(shè)若干方形的鐵氧體板，以便于吸收電磁波，但這些鐵氧體板之間形成的縫隙連接起來的長度有可能大于0.075米(即大于最短波的波長的四分之一)。在進(jìn)行電磁兼容測試時，部分電磁波射入這些較長的縫隙，經(jīng)電波暗室周壁及頂壁的反射，再沿縫隙反射至暗室內(nèi)，降低了該電波暗室的吸收率，影響測試精度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]有鑒于此，有必要提供一種具有較高吸波率的電波暗室。
[0004]—種電波暗室，包括一周壁及一頂壁，該周壁及頂壁的內(nèi)表面鋪設(shè)有若干正六邊形的鐵氧體板，這些鐵氧體板緊密排列呈蜂窩狀，每一鐵氧體板的邊長小于待吸收電磁波的波長的四分之一。
[0005]相較現(xiàn)有技術(shù)，所述電波暗室的鐵氧體板呈正六邊形，邊長小于待吸收電磁波的波長的四分之一，相鄰的兩鐵氧體板的對應(yīng)邊之間形成的縫隙的長度小于四分之一電磁波的長度，使大部分射入縫隙內(nèi)的電磁波被吸收，提高了電波暗室的吸波率，確保測試結(jié)果的準(zhǔn)確性。`【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]圖1為本發(fā)明電波暗室的較佳實施方式立體組裝圖。
[0007]圖2為圖1中的II部分的放大圖。
[0008]主要元件符號說明

電波暗室I ι?ο

屏蔽室_TF

狽!l試臺 30

天線_50

底壁 _TF
周壁 TF
頂壁 f
鐵氧體板
縫隙 302
待測物 1500
如下【具體實施方式】將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說明本發(fā)明。
【具體實施方式】[0009]請一并參閱圖1及圖2，本發(fā)明電波暗室100的較佳實施方式包括一屏蔽室10、一測試臺30及一天線50。該屏蔽室10包括一底壁12、自該底壁12的四周向上延伸的一周壁14及一設(shè)置在周壁14的頂部的頂壁16。
[0010]該周壁14及頂壁16的內(nèi)表面緊密排列若干鐵氧體材料制成的鐵氧體板300。每一鐵氧體板300的呈正六邊形,這些鐵氧體板300不易連接形成較長縫隙。鐵氧體板300的每一邊的長度小于四分之一待吸收的電磁波的波長。因此，相鄰的兩鐵氧體板300的對應(yīng)邊之間形成的縫隙302的長度小于四分之一待吸收的電磁波的波長。本實施方式中，每一鐵氧體板300的邊長小于7.5厘米，即縫隙302的長度也小于7.5厘米。
[0011]使用時，將一待測物500安裝于該測試臺30上，該待測物500正對天線50，該電波暗室100對該待測物500進(jìn)行測試。待測物500發(fā)出的電磁波射入縫隙302時，由于每一縫隙302的長度小于四分之一電磁波的波長，使射入縫隙302的電磁波大部分被吸收，降低電磁波的非必要反射率，提高了電波暗室100的吸波率，確保測試結(jié)果的準(zhǔn)確性。本實施方式中，該待測物500為電腦及手機等電子產(chǎn)品。
[0012]在其他實施方式中，該電波暗室100的底壁12的上表面也緊密排列若干鐵氧體板300。
【權(quán)利要求】
1.一種電波暗室,包括一周壁及一頂壁,該周壁及頂壁的內(nèi)表面鋪設(shè)有若干正六邊形的鐵氧體板，這些鐵氧體板緊密排列呈蜂窩狀，每一鐵氧體板的邊長小于待吸收電磁波的波長的四分之一。
2.如權(quán)利要求1所述的電波暗室，其特征在于:每相鄰的兩鐵氧體板的對應(yīng)邊之間形成一縫隙，該縫隙的長度小于四分之一待吸收的電磁波的長度。
3.如權(quán)利要求1或2所述的電波暗室,其特征在于:每一鐵氧體板的邊長小于7.5厘米。
【文檔編號】G01R1/18GK103728475SQ201210382910
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2012年10月11日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月11日
【發(fā)明者】何等乾 申請人:鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司