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用于在多個(gè)腔室中的顆粒吸引的磁系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):5939520閱讀:135來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:用于在多個(gè)腔室中的顆粒吸引的磁系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及磁性樣本處理設(shè)備,具體而言涉及一種生物傳感器,所述生物傳感器包括用于在彼此相鄰定位地第一樣本腔室和第二樣本腔室中生成磁場(chǎng)的器件。此外,本發(fā)明涉及用于在這樣的設(shè)備中處理樣本的方法。
背景技術(shù)
從W01993/013400A1中可知,一種用于磁性顆粒的清洗/吸出系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括多個(gè)永磁體,所述多個(gè)永磁體的磁極以陣列的方式設(shè)置。樣本容器具有以與磁極相同模式設(shè)置的多個(gè)相鄰的孔,將所述樣本容器移動(dòng)通過(guò)磁極的陣列以連續(xù)地在所述孔中執(zhí)行特定的磁操作。

發(fā)明內(nèi)容
基于這種背景,本發(fā)明的目標(biāo)是提供用于磁力地處理樣本的替代的器件,特別是用于在生物測(cè)定中將磁性顆粒吸引至感測(cè)表面。這一目標(biāo)通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求1的磁性樣本處理設(shè)備和根據(jù)權(quán)利要求2的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。從屬權(quán)利要求中公開了優(yōu)選的實(shí)施例。本發(fā)明的磁性樣本處理設(shè)備將包括用于在第一樣本腔室和第二樣本腔室中生成磁場(chǎng)(“致動(dòng)場(chǎng)”)的器件,其中,將所述腔室在下文稱作“X方向”的方向上彼此相鄰定位。樣本腔室通常為空腔,特別是開放腔、閉合腔或通過(guò)流體連接通道與其他腔連接的腔。所述磁性樣本處理設(shè)備將包括以下部件:a)具有第一對(duì)磁極的第一電磁體,所述第一對(duì)磁極能夠被設(shè)置于第一樣本腔室下方從而使所述磁極在基本垂直于X方向的方向上排列,所述垂直方向在下文中稱作“y方向”。在此以及在下文中,術(shù)語(yǔ)“下方”等將指示部件的相對(duì)布置,而并不意味相對(duì)于重力的特定取向。b)具有第二對(duì)磁極的第二電磁體,所述第二對(duì)磁極能夠在所述I方向上彼此靠近地被設(shè)置在第二樣本腔室下方(其中,當(dāng)所述第一電磁體如上述條目a中所描述地設(shè)置時(shí),這種設(shè)置將是可能的)。c)用于單獨(dú)地控制所述第一電磁體和所述第二電磁體的控制單元。所述控制單元可以實(shí)現(xiàn)為,例如,在專用電子硬件、具有相關(guān)聯(lián)的軟件的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)處理硬件或者兩者的結(jié)合。它通常通過(guò)線纜連接到所述電磁體,雖然無(wú)線通信也是可行的。應(yīng)該注意到,所述磁性樣本處理設(shè)備的設(shè)計(jì)原則當(dāng)然也適用于超過(guò)兩個(gè)的樣本腔室和相關(guān)聯(lián)的電磁體。此外,可以將所述樣本腔室認(rèn)為是所述設(shè)備的部分或者認(rèn)為是單獨(dú)的部件。本發(fā)明還涉及用于使用樣本處理設(shè)備在X方向上彼此相鄰地定位的第一樣本腔室和第二樣本腔室中處理樣本的相應(yīng)的方法,特別是通過(guò)前述種類的設(shè)備。所述方法包括以下步驟,能夠以列出的順序或任何其他適當(dāng)?shù)捻樞驁?zhí)行這些步驟:
a)在所述第一樣本腔室下方設(shè)置具有第一對(duì)磁極的第一電磁體,所述第一對(duì)磁極在I方向上彼此靠近地設(shè)置,所述I方向基本上垂直于X方向。b)在所述第二樣本腔室下方設(shè)置具有第二對(duì)磁極的第二電磁體,所述第二對(duì)磁極在y方向上彼此靠近地設(shè)置。c)單獨(dú)地控制所述第一和第二電磁體以在第一樣本腔室和/或第二樣本腔室中生成磁場(chǎng)。所描述的磁性樣本處理設(shè)備和所述方法具有如下的優(yōu)勢(shì):通過(guò)使用具體分配給不同樣本腔室并且可以被單獨(dú)地控制的電磁體,他們?cè)试S在樣本腔室中同時(shí)執(zhí)行不同的驅(qū)動(dòng)方案。在下文中,將描述本發(fā)明的多個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例,它們涉及以上所描述的樣本處理設(shè)備以及以上所描述的方法。所述樣本腔室通常會(huì)填充將被處理的樣本。為了方便這種填充并且為了允許污染的樣本腔室的處理,所述第一和第二樣本腔室優(yōu)選地存放于可更換的盒中。在本發(fā)明的另一優(yōu)選實(shí)施例中,所述第一樣本腔室和第二樣本腔室物理地彼此分隔,例如,通過(guò)防止流體在兩個(gè)腔室之間自由交換的中間屏障或中間壁。這樣的物理隔離提供了在兩個(gè)樣本腔室中執(zhí)行完全隔離地處理的額外手段。通常,所述電磁體的設(shè)計(jì)可以是隨意的,只要能提供可以在樣本腔室下方定位的兩個(gè)磁極即可。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中,第一電磁體和/或第二電磁體包括具有馬蹄形的磁芯,其中,所述馬蹄的自由端構(gòu)成了能夠定位在樣本腔室下方的磁極。所述磁芯的材料通常是諸如鐵的鐵磁材料。所述磁芯允許引導(dǎo)磁場(chǎng)到達(dá)將要施加所述場(chǎng)的位置,所述磁場(chǎng),例如由在適當(dāng)位置纏繞所述磁芯的線圈,在所述磁芯中生成。在由X方向和y方向定義的xy平面中,所述電磁體的四個(gè)磁極布置的模式通常構(gòu)造成梯形。優(yōu)選地,在y方向上的一對(duì)的兩個(gè)磁極之間距離對(duì)于兩個(gè)電磁體是相同的,這產(chǎn)生了平行四邊形的、最優(yōu)選為矩形的特定布置。關(guān)于在X方向上所述電磁體間的距離,更準(zhǔn)確地說(shuō)是關(guān)于所述電磁體的磁極對(duì)之間的距離,有兩種優(yōu)選的可選設(shè)計(jì):在第一種設(shè)計(jì)中,所述第一電磁體的磁極對(duì)與所述第二電磁體的磁極對(duì)在X方向上相隔距離“D”,所述距離“D”大于在y方向上測(cè)量的一對(duì)磁極之間的距離“A”(如果這一磁極內(nèi)距離A對(duì)于兩個(gè)電磁體具有不同的值,那么這種關(guān)系采用平均值)。在一個(gè)具體的優(yōu)選實(shí)施例中,磁極對(duì)之間的在X方向上的距離D應(yīng)該大于大約1.2mmο這種第一布置具有這樣的優(yōu)勢(shì):在同一個(gè)電磁體的磁極之間的磁相互作用強(qiáng)于不同電磁體的兩個(gè)磁極之間的相互作用。因此將在不同樣本腔室中的磁場(chǎng)之間的磁串?dāng)_減小到了實(shí)際能夠被忽略的水平。在第二種設(shè)計(jì)中,所述第一電磁體的磁極對(duì)與所述第二電磁體的磁極對(duì)在X方向上相隔距離“D”,所述距離“D”小于一對(duì)磁極之間的距離“A”的大約一半(如果這一磁極內(nèi)距離A對(duì)于兩個(gè)電磁體具有不同的值,那么這種關(guān)系采用平均值)。在一個(gè)具體的優(yōu)選實(shí)施例中,磁極對(duì)之間的在X方向上的距離D小于大約0.5mm。在這種布置中,相比其自己的對(duì)磁極,所述第一電磁體的一個(gè)磁極更靠所述第二電磁體的一個(gè)磁極。因此,在兩個(gè)電磁體的磁場(chǎng)間存在相當(dāng)大的串?dāng)_。然而,使用提及的設(shè)計(jì)參數(shù),能夠補(bǔ)償這種缺點(diǎn),因?yàn)樗龃當(dāng)_具有良好定義的影響,能夠有目的性的地使用所述影響。
在本發(fā)明的進(jìn)一步發(fā)展中,操作不同電磁體的(緊密)鄰近的磁極以具有,在時(shí)間上平均的、在預(yù)先確定的時(shí)間百分比上的相反極性。以這種方式,能夠調(diào)節(jié)在“邊緣效應(yīng)”和在兩個(gè)電磁體間中間發(fā)生的“串?dāng)_”之間的相互作用以獲得期望的總體行為。這種方法結(jié)合之前提到的實(shí)施例特別有用,在所述實(shí)施例中,將電磁體彼此靠近地設(shè)置從而在鄰近磁極間存在相當(dāng)大的串?dāng)_。應(yīng)該注意,所述“預(yù)先確定的時(shí)間百分比”可以覆蓋從0% (即不同電磁體的鄰近磁極總是以相同的極性操作)到100% (即不同電磁體的鄰近磁極總是以相反的極性操作)的整個(gè)范圍。此外,如果期望,所述百分比可以在測(cè)定過(guò)程中動(dòng)態(tài)地改變。在之前提到的實(shí)施例中,針對(duì)所述第一電磁體和第二電磁體的操作協(xié)議優(yōu)選地關(guān)于磁的極性的交替同步。對(duì)于其他參數(shù),例如生成的磁場(chǎng)的大小,可以不同步地操作兩個(gè)電磁體??偟貋?lái)說(shuō),所述磁性樣本處理設(shè)備和所述方法可以服務(wù)于需要在兩個(gè)樣本腔室中的磁場(chǎng)的任何目的。一個(gè)特別優(yōu)選的應(yīng)用為檢測(cè)在樣本中的磁顆粒,在所述樣本中,這樣的顆粒在各自的樣本腔室中由磁場(chǎng)移動(dòng)(致動(dòng)),具體地吸引至(或遠(yuǎn)離)感測(cè)表面。在該實(shí)施例中,所述樣本處理設(shè)備包括傳感器模塊,所述傳感器模塊用于檢測(cè)在樣本腔室中(特別是在鄰近所述電磁體的感測(cè)表面處)的顆粒。在之前提到的情況中,所述傳感器模塊可以包括光學(xué)、磁、機(jī)械、聲學(xué)、熱和/或電傳感器元件。磁傳感器元件可以具體包括線圈、霍爾傳感器、平面霍爾傳感器、磁通門傳感器、SQUID (超導(dǎo)量子干涉儀)、磁共振傳感器、磁阻傳感器或者在W02005/010543A1或W02005/010542A2中描述的類型的磁阻傳感器,特別是GMR (巨磁阻)、TMR (隧道磁阻)或AMR (各向異性磁阻)。光學(xué)傳感器兀件可以具體適配為探測(cè)輸出光束中的變化,所述輸出光束的變化由于磁性顆粒在感測(cè)表面引起的受抑全內(nèi)反射而發(fā)生。在光學(xué)傳感器模塊的情況中,這可以具體包括光源,所述光源能夠同時(shí)照射第一樣本腔室和第二樣本腔室的感測(cè)區(qū)域。類似地,光學(xué)傳感器模塊可以優(yōu)選地包括光探測(cè)器,所述光探測(cè)器能夠同時(shí)測(cè)量來(lái)自第一樣本腔室和第二樣本腔室感測(cè)區(qū)域的光。這樣的光學(xué)傳感器具體可以是圖像傳感器,例如數(shù)字照相機(jī)。在分別具有光源和光探測(cè)器的上述實(shí)施例中,一個(gè)部件用于同時(shí)對(duì)兩個(gè)樣本腔室進(jìn)行光學(xué)處理(即照射或成像)。為此,這個(gè)部件的視場(chǎng)必須足夠大。這種需求能夠在上述備選的第二設(shè)計(jì)中更容易地實(shí)現(xiàn),在備選的第二設(shè)計(jì)中,將所述電磁體彼此鄰近地定位。本發(fā)明還涉及以上描述的設(shè)備在分子診斷、生物樣本分析、化學(xué)樣本分析、食品分析和/或法醫(yī)分析中的用途。分子診斷可以,例如,通過(guò)借助于直接或間接附著到靶分子的熒光顆粒或磁珠來(lái)實(shí)現(xiàn)。


參考下文中描述的(一個(gè)或多個(gè))實(shí)施例,本發(fā)明的這些和其他方面將會(huì)是顯而易見的,并且將得到闡述。將通過(guò)范例的方式借助附圖描述這些實(shí)施例,其中:圖1示出了切過(guò)根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的、電磁體之間具有在較大距離的樣本處理設(shè)備的示意性切面圖;圖2示出了圖1的電磁體的頂視圖3的透視圖分別示出了圖1的電磁體;圖4示出了圖1的布置的磁場(chǎng)和其梯度的記錄;圖5示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的、電磁體間具有較小距離的樣本處理設(shè)備的頂視圖;圖6的透視圖分別示出了圖5的電磁體;圖7示出了圖5的布置的磁場(chǎng)以及它的梯度的記錄;圖8示出了在相鄰磁極具有相同極性的情況下,在X方向上作用于磁顆粒上的磁力;圖9示出了在相鄰的磁極具有相反極性的情況下,在X方向上作用于磁顆粒上的磁力。相似的附圖標(biāo)記或相差100的倍數(shù)的附圖標(biāo)記在附圖中代表相同或相似的部件。
具體實(shí)施例方式以下將關(guān)于在生物傳感器中的應(yīng)用描述本發(fā)明,然而本發(fā)明也能夠在其他設(shè)置中以及針對(duì)其他目的而使用。圖1示出了切過(guò)根據(jù)本發(fā)明設(shè)計(jì)的生物傳感器100的截面圖。傳感設(shè)備100包括(通常是可更換的/ 一次性的)容器或盒101,容器或盒101具有(至少)兩個(gè)樣本腔室SCl和SC2,兩個(gè)樣本腔室SCl和SC2由壁103隔開。所述樣本腔室的底部由感測(cè)表面102構(gòu)成,這產(chǎn)生了在兩個(gè)樣本腔室中的兩個(gè)分離的感測(cè)區(qū)域SRl和SR2。能夠在所述樣本腔室中提供具有磁顆粒I的樣本(或,替代地,兩種不同樣本)。感測(cè)設(shè)備100還包括兩個(gè)電磁體110和120,兩個(gè)電磁體110和120具有磁極111、121 (和111’、112’,不可見),磁芯112、122,以及線圈113、123,用于在樣本腔室SC1、SC2中生成磁場(chǎng)B。此外,它包括具有光源150和光探測(cè)器的傳感器模塊,例如圖像傳感器160,用于在感測(cè)表面102測(cè)量輸入光束LI的受抑全內(nèi)反射(FTIR)。FTIR測(cè)量程序的進(jìn)一步細(xì)節(jié)可以在W02008/155723A1中找到,通過(guò)引用將其并入本文。替代使用FTIR,也可以使用其他局域探測(cè)器件,例如應(yīng)用感測(cè)表面處的楔狀結(jié)構(gòu)(沒有示出)(參見W02009/125339A2)。在電磁體110、120的工作過(guò)程中,磁性顆粒I (例如超順磁性珠)由通過(guò)在z方向上的場(chǎng)梯度Grad Bz施加的吸引力從樣本體積收集。當(dāng)?shù)竭_(dá)傳感器表面102時(shí),磁性顆粒I能夠特異性地結(jié)合于結(jié)合部位,例如結(jié)合至表面上的特異性抗體(至少特定的磁性顆粒,例如之前已經(jīng)結(jié)合至樣本中靶分子的那些)。在此,顆粒密度的增加造成光探測(cè)器160中光信號(hào)的增加?!N同時(shí)探測(cè)多個(gè)不同靶分子的可能方式是使用在傳感器表面上的多個(gè)分別的探測(cè)位點(diǎn)(spot),所述多個(gè)分別的探測(cè)位點(diǎn)由不同的特異性抗體覆蓋。靶分子在所述探測(cè)位點(diǎn)上的存在然后由結(jié)合至靶分子的磁性標(biāo)記指示。通過(guò)在照相機(jī)傳感器上對(duì)所述位點(diǎn)成像,能夠針對(duì)各獨(dú)立位點(diǎn)中的每個(gè)光學(xué)地測(cè)量磁珠的濃度。由于使用磁致動(dòng)通過(guò)將顆粒吸引至所述傳感器表面來(lái)加速測(cè)定并且來(lái)執(zhí)行磁清洗步驟,因而必須將所述探測(cè)位點(diǎn)定位于磁體的“最有效點(diǎn)”中。這可以通過(guò)針對(duì)每個(gè)樣本腔室的使用分別的磁體來(lái)實(shí)現(xiàn),如在圖1的傳感器設(shè)備100中所實(shí)現(xiàn)的那樣。在完全分離的測(cè)量腔室中具有獨(dú)立的探測(cè)位點(diǎn)從而能夠針對(duì)每個(gè)測(cè)定獨(dú)立地進(jìn)行優(yōu)化是有利的。
圖2示出了所述第一電磁體的磁極111和111’以及所述第二電磁體120的磁極121和121’的頂視圖,這些磁極被定位在感測(cè)表面102的下方(見圖1中指示觀察平面的虛線11-11)。這些磁極在xy平面中布置為矩形模式,其中,在同一電磁體的各磁極,例如磁極111和111’,之間的距離(在y方向上)表示為“A”,并且不同電磁體的鄰近磁極,例如磁極111和121,之間的距離(在X方向上)表示為“D”。圖3示出了電磁體110和120各自的透視圖,電磁體110和120安裝在公用的平臺(tái)上。此外,該圖示出了電磁體140、141,電磁體140、141能夠被定位在所述樣本腔室的上方以用于磁清洗程序。兩個(gè)電磁體110、120的緊密鄰近意味著必須考慮生成的磁場(chǎng)間的串?dāng)_效應(yīng)。這可以通過(guò)提到的距離A和D的合適選擇來(lái)實(shí)現(xiàn),如將在下文中更加詳細(xì)地解釋。在圖1到4中圖示的本發(fā)明的第一實(shí)施例中,選擇足夠大的在不同電磁體110和120的磁極之間的在X方向上的距離D,從而使在各自的樣本腔室SCl和SC2中生成的磁場(chǎng)B是(至少對(duì)于實(shí)用的目的)完全獨(dú)立的。在典型的實(shí)施例中,在同一電磁體的磁極之間在y方向上的距離A可以大約為Imm,并且單個(gè)磁極的長(zhǎng)度L (x方向)可以為大約5mm。對(duì)于這些值,在各電磁體的磁極之間的距離D可以選為大約1.6mm或更大,因?yàn)樵谶@種情況中,各電磁體的互相的磁影響是可忽略的。應(yīng)該注意到,在這種實(shí)施例中需要具有大約12_視場(chǎng)的寬的光學(xué)系統(tǒng)以完全地覆蓋兩個(gè)樣本腔室SCl和SC2。圖4示出了針對(duì)所描述的實(shí)施例的根據(jù)橫向位置X的在所述樣本腔室中磁場(chǎng)參數(shù)的示范性測(cè)量結(jié)果,即磁通量B的絕對(duì)值(左上)和它在X方向上(右上)和z方向上(底部)的梯度。在圖5和圖6中,分別以頂視圖和透視示了具有更緊密間隔的電磁體210、220的替代性實(shí)施例。這里,電磁體之間的距離D (在X方向上)小于磁極末端之間距離A (在y方向上)的大約一半。對(duì)于以上描述的A (大約Imm)和L (大約5mm)的典型值,距離D可以優(yōu)選地為大約0.2_。這種實(shí)施例的優(yōu)勢(shì)是光學(xué)器件的視場(chǎng)可以更小,例如大約7mm。然而,電磁體210、220的串?dāng)_(或相互的磁影響)將不再能夠被忽略,必須考慮這一點(diǎn)并且進(jìn)行適當(dāng)?shù)奶幚?。這能夠例如,通過(guò)相反地操作不同電磁體的(緊接)近鄰的磁極來(lái)完成,如在圖5中由針對(duì)磁極末端北磁極的符號(hào)“N”和針對(duì)磁極末端南磁極的符號(hào)“S”指示的。兩個(gè)電磁體210、220的操作因此應(yīng)該相應(yīng)地同步。圖7示出了兩個(gè)曲線圖,它們表示當(dāng)只有右側(cè)電磁體220打開時(shí),針對(duì)圖5和圖6的配置的根據(jù)橫向位置X的磁通量密度B (左)和其X方向的梯度(右)。圖8示出了在操作相鄰的磁極211和221 (以及211’和221’)具有相同極性的情況下,針對(duì)圖5和圖6配置的、在X方向上作用于磁性顆粒的磁力F。圖9,相反地,示出了在操作相鄰的磁極211和221 (同時(shí)211’和221’)具有相反極性的情況下,在X方向上作用于磁性顆粒的磁力F。在這種情況下,沿X軸的力大約為零。由于圖9的“相反極性模式”產(chǎn)生磁珠的均勻分布,因而在檢測(cè)中它通常是優(yōu)選的。然而,如果期望磁珠的排斥,也可以使用圖8的“相同極性模式”。通常,可以以預(yù)先確定的(時(shí)間的)比例混合兩種模式,以產(chǎn)生效應(yīng)的任意組合。實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)指示對(duì)于使用樣本進(jìn)行的每個(gè)特定測(cè)定,應(yīng)該使用專門設(shè)計(jì)的協(xié)議以提高敏感性。這意味著,為了增加敏感性,需要在提供了獨(dú)立致動(dòng)區(qū)域的分別的樣本腔室中執(zhí)行不同分析物的分析。這一需求通過(guò)以上描述的公開有利地實(shí)現(xiàn),這允許在兩個(gè)或更多獨(dú)立區(qū)域中吸引磁性顆粒(例如超順磁性磁珠)。由于樣本腔室的分隔,可以避免交互作用效應(yīng),并且能夠獨(dú)立地優(yōu)化測(cè)定條件。最后需要指出,在本申請(qǐng)中,術(shù)語(yǔ)“包括”不排除其他元件或步驟,“一”并不排除多個(gè),并且單個(gè)處理器或其他單元可以實(shí)現(xiàn)若干器件的功能,本發(fā)明存在于每個(gè)和全部新穎的特性特征中和特性特征的每個(gè)和全部的結(jié)合中。此外,在權(quán)利要求中的附圖標(biāo)記不應(yīng)解釋為限制它們的范圍。
權(quán)利要求
1.一種樣本處理設(shè)備(100,200),其具有用于在第一樣本腔室(SCl)和第二樣本腔室(SC2)中生成磁場(chǎng)(B)的器件,所述第一樣本腔室(SCl)和所述第二樣本腔室(SC2)在X方向上彼此相鄰定位,所述設(shè)備包括: a)第一電磁體(110、210),其具有能夠設(shè)置于所述第一樣本腔室(SCl)下方的、在與所述X方向基本垂直的y方向上彼此靠近的第一磁極對(duì)(111、111’、211、211’ ); b)第二電磁體(120、220),其具有能夠設(shè)置于所述第二樣本腔室(SC2)下方的、在所述y方向上彼此靠近的第二磁極對(duì)(121、121’、221、221’ ); c )控制單元(130 ),其用于單獨(dú)地控制所述第一電磁體和第二電磁體。
2.一種方法,其用于在第一樣本腔室(SCl)和第二樣本腔室(SC2)中,通過(guò)樣本處理設(shè)備(100、200 )處理樣本,所述第一樣本腔室(SCl)和所述第二樣本腔室(SC2 )在X方向上彼此相鄰定位,所述方法包括: a)將具有在與所述X方向基本垂直的y方向上彼此靠近地布置的第一磁極對(duì)(111、111’、211、211’ )的第一電磁體(110、210)設(shè)置在所述第一樣本腔室(SCl)的下方; b)將具有在所述y方向上彼此靠近地布置的第二磁極對(duì)(121、121’、221、221’)的第二電磁體(120、220)設(shè)置在所述第二樣本腔室(SC2)的下方; c)單獨(dú)地控制所述第一電磁體和所述第二電磁體以在所述第一樣本腔室(SCl)和/或所述第二樣本腔室(SC2)中生成磁場(chǎng)(B)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(100、200)或根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,` 其特征在于,可更換盒(101)容納所述第一樣本腔室(SCl)和第二樣本腔室(SC2)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(100、200)或根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法, 其特征在于,所述第一樣本腔室(SCl)和所述第二樣本腔室(SC2)物理地彼此分隔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(100、200)或根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法, 其特征在于,所述第一電磁體(110、210)和/或所述第二電磁體(120、220)包括具有馬蹄形的磁芯(112、122)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(100)或根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法, 其特征在于,以在X方向上的距離D分別分隔所述第一電磁體(110)和第二電磁體(120)的所述磁極對(duì)(111、111’、121、121’),所述距離(D)大于一對(duì)所述磁極之間的距離(A),優(yōu)選地,距離(D)大于大約1.2mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(200)或根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法, 其特征在于,以在X方向上的距離D分別分隔所述第一電磁體(210)和所述第二電磁體(220)的所述磁極對(duì)(211、211’、221、221’),所述距離(D)小于一對(duì)所述磁極之間的距離(A)的一半,優(yōu)選地,距離(D)小于大約0.5mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(200)或根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法, 其特征在于,操作不同電磁體(210、220)的鄰近磁極(211、221 ;211’、221’ )以使它們?cè)陬A(yù)先確定的時(shí)間百分比上具有平均相反的極性。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備(200)或方法, 其特征在于,操作不同電磁體(210、220)的鄰近磁極(211、211’ ;221、221’ )以使它們總是具有相反的極性。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(100、200)或根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述設(shè)備(100,200)包括傳感器模塊(150、160),所述傳感器模塊(150、160)用于在所述樣本腔室(SC1、SC2)中的至少一個(gè)中探測(cè)顆粒(1),特別是在鄰近所述電磁體(110、120、210、220)的感測(cè)表面(102)處探測(cè)顆粒(I)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備(100、200)或方法, 其特征在于,通過(guò)光學(xué)、磁、機(jī)械、聲學(xué)、熱或電傳感器模塊(150、160)來(lái)探測(cè)所述顆粒(I)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備(100、200)或方法, 其特征在于,所述傳感器模塊包括光源(150),所述光源(150)照射所述第一樣本腔室(SCl)和所述第二樣本腔室(SC2)兩者的感測(cè)區(qū)域(SRl、SR2)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備(100、200)或方法, 其特征在于,所述傳感器模塊包括光探測(cè)器,特別是圖像傳感器(160),其測(cè)量來(lái)自所述第一樣本腔室(SCl)和所述第二樣本腔室(SC2)兩者的感測(cè)區(qū)域(SR1、SR2)的光。
14.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(100、200在)在分子診斷、生物樣本分析、化學(xué)樣本分析、食品分析和/或法醫(yī)分析中的用途。
全文摘要
本發(fā)明涉及磁性樣本處理設(shè)備,具體而言涉及一種傳感器設(shè)備(100),所述傳感器設(shè)備(100)包括兩個(gè)電磁體(110、120),所述兩個(gè)電磁體(110、120)用于在在x方向上彼此相鄰定位的第一樣本腔室(SC1)和第二樣本腔室(SC2)中生成磁場(chǎng)(B)。將所述電磁體的磁極在垂直的y方向上彼此靠近地分別設(shè)置在所述第一樣本腔室(SC1)和所述第二樣本腔室(SC2)的下方。此外,所述電磁體由控制單元(130)單獨(dú)地控制。在優(yōu)選的實(shí)施例中,所述電磁體(110、120)之間的距離在x方向上的大到磁串?dāng)_可以被忽略。在另一實(shí)施例中,所述距離是緊密的,并且以同步的方式操作所述電磁體。
文檔編號(hào)G01N33/543GK103109193SQ201180044481
公開日2013年5月15日 申請(qǐng)日期2011年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月17日
發(fā)明者M·M·奧夫揚(yáng)科 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司
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