專利名稱：一種改進光學(xué)比較測角儀裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種光學(xué)測量儀器，尤其是一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置。
技術(shù)背景光學(xué)比較測角儀是利用光學(xué)自準(zhǔn)直原理，用比較的方法測量角度誤差的光學(xué)測量儀器，其結(jié)構(gòu)簡單，使用廣泛。主要用于測量玻璃平板和各種棱鏡的光學(xué)平行差，測量兩個平面的垂直度，或是利用標(biāo)準(zhǔn)角度塊測量棱鏡角度與標(biāo)準(zhǔn)角度的偏差，同時還可以用來測量各種安裝基面之間的角度誤差。例如測量平行平面玻璃的平行差，楔形玻璃的楔形角，直角棱鏡以及各種棱鏡的光學(xué)平行差以及側(cè)面垂直度等等。因此，在光學(xué)冷加工、光學(xué)實驗室、光學(xué)儀器的裝配、檢測、計量等方面得到了廣泛的應(yīng)用。但是，由于光學(xué)比較測角儀是根據(jù)光學(xué)自準(zhǔn)直的原理進行測量，光線從鏡筒中出射，經(jīng)過被測元件以后，必須要返回到鏡筒中才能進行測量。而傳統(tǒng)光學(xué)比較測角儀的量程范圍是1°，對于光束偏轉(zhuǎn)角大于1°的光學(xué)元件，其兩個反射像完全分離，無法測出兩反射像之間的距離。因此，對于光束偏轉(zhuǎn)角大于1°的光學(xué)元件，傳統(tǒng)的光學(xué)比較測角儀就無法進行測量。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型為了克服現(xiàn)有光學(xué)比較測角儀的不足，在傳統(tǒng)光學(xué)比較測角儀的基礎(chǔ)上增加了一個反射裝置，以測量完全分離的兩個反射像之間的距離，從而提供了一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置。本實用新型解決技術(shù)問題采用的技術(shù)方案是一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置，它包括光學(xué)比較測角儀和其工作平臺，以及反射裝置，所述的反射裝置設(shè)置在光學(xué)比較測角儀的工作平臺上。其特點在于(1)所述的反射裝置可以是一個長方體玻璃塊。(2)所述的反射裝置也可以是一個反射鏡。(3)所述的長方體玻璃塊的下表面和其中的一個側(cè)面經(jīng)過拋光處理。其拋光過的側(cè)面位于所述光學(xué)比較測角儀鏡筒的相對方。(4)所述的反射鏡垂直放置于光學(xué)比較測角儀的工作平臺上，其反射面位于所述光學(xué)比較測角儀鏡筒的相對方。本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下的有益效果1、能夠測量光束偏轉(zhuǎn)角大于1°而小于2°的光學(xué)元件，擴大了傳統(tǒng)光學(xué)比較測角儀最大為1°的測量范圍。2、結(jié)構(gòu)簡單，易于實現(xiàn)。

圖1為本實用新型具體實施例俯視圖；[0012]圖2為本實用新型具體實施例右視圖；圖3為本實用新型具體實施例測量視場圖。
具體實施方式
如圖1和圖2所示，1是傳統(tǒng)光學(xué)比較測角儀，5是其工作平臺，2是光學(xué)比較測角儀的鏡筒，3是被測光學(xué)元件，4是反射裝置，為長方體玻璃塊或者反射鏡。將傳統(tǒng)光學(xué)比較測角儀1的鏡筒2調(diào)至水平，把被測光學(xué)元件3、反射裝置4的長方體玻璃塊或反射鏡放在傳統(tǒng)光學(xué)比較測角儀1的工作平臺5上，反射裝置4的長方體玻璃塊的拋光側(cè)面或者反射裝置4的反射鏡的反射面位于傳統(tǒng)光學(xué)比較測角儀1的鏡筒2的相對方。如圖3所示，6為看到的視場，調(diào)整反射裝置4的長方體玻璃塊或反射鏡的位置，用反射裝置4的長方體玻璃塊或反射鏡的表面反射像9量出被測光學(xué)元件3的兩個反射像7和8之間的距離為30'。由此得出被測光學(xué)元件3的出射光與入射光的偏差即為Γ 30'。
權(quán)利要求1.一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置，其特征在于它包括光學(xué)比較測角儀和其工作平臺，以及反射裝置，所述的反射裝置設(shè)置在光學(xué)比較測角儀的工作平臺上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置，其特征在于所述的反射裝置為一個長方體玻璃塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置，其特征在于所述的反射裝置為一個反射鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置，其特征在于所述的長方體玻璃塊的下表面和其中的一個側(cè)面經(jīng)過拋光處理，其拋光過的側(cè)面位于所述光學(xué)比較測角儀鏡筒的相對方。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置，其特征在于所述的反射鏡垂直放置于光學(xué)比較測角儀的工作平臺上，其反射面位于所述光學(xué)比較測角儀鏡筒的相對方。
專利摘要一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改進光學(xué)比較測角儀裝置，本實用新型的技術(shù)方案是它包括光學(xué)比較測角儀和其工作平臺，以及反射裝置，所述反射裝置設(shè)置在光學(xué)比較測角儀的工作平臺上。以反射裝置的表面反射像作為刻度尺，量出被測光學(xué)元件兩個完全分離的反射像之間的距離。本實用新型擴大了普通光學(xué)比較測角儀最大為1°的測量范圍，提供了一種用于測量光束偏轉(zhuǎn)角超出量程范圍的改造光學(xué)比較測角儀裝置。
文檔編號G01B11/26GK202339187SQ20112046532
公開日2012年7月18日 申請日期2011年11月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月22日
發(fā)明者武銳, 趙瑩 申請人:北京創(chuàng)思工貿(mào)有限公司