專利名稱：掩膜缺陷檢測裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的各個方面總體上涉及一種掩膜缺陷檢測裝置，更具體地說，涉及一種 檢測顯示面板制造工藝中用的掩膜是否有缺陷的掩膜缺陷檢測裝置。
背景技術(shù)：
顯示面板制造工藝一般使用各種類型的掩膜。例如，精密工藝使用金屬掩膜。 然而，在某些情況下會產(chǎn)生缺陷，例如細小的外來物質(zhì)附著于金屬掩膜上而導(dǎo)致掩膜的 圖案損壞。使用具有這些缺陷的金屬掩膜將造成整個制造工藝的大量損失。因而，在使用金屬掩膜之前或之后，應(yīng)該定期檢測金屬掩膜的缺陷的存在。一 種檢測金屬掩膜的缺陷的方法是將待檢測的金屬掩膜固定在夾具上，然后使用檢測掩膜 對固定的金屬掩膜的缺陷進行檢測。這時，由于攝像機更緊密地接近待檢測的金屬掩 膜，因此使探測圖案損壞和外來物質(zhì)的能力得到提高。然而，由于固定所述金屬掩膜的邊緣的夾具的夾持器一般具有向上突出的結(jié) 構(gòu)，所以檢測攝像機只能在不與此夾具碰撞的范圍內(nèi)接近固定在夾具上的金屬掩膜。換 句話說，由于固定所述金屬掩膜的夾具的上述結(jié)構(gòu)，攝像機接近待檢測的金屬掩膜或者 檢測金屬掩膜的邊緣部分受到限制。因此，不能精確且穩(wěn)定地檢測金屬掩膜缺陷的存 在。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的各個方面提供一種能夠精確且穩(wěn)定地檢測金屬掩膜缺陷的存在的掩膜 缺陷檢測裝置。根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種掩膜缺陷檢測裝置。該裝置包括張緊夾具 單元，該張緊夾具單元具有之上定位有待檢測的金屬掩膜的支架、設(shè)置在所述支架兩側(cè) 以固定所述金屬掩膜的相對邊緣的夾緊部件、和將張緊力施加到由所述夾緊部件固定的 所述金屬掩膜的張緊部件；以及用于檢測由所述張緊夾具單元固定的所述金屬掩膜的檢 測單元，其中定位在所述支架上的所述金屬掩膜與所述檢測單元之間的垂直距離小于或 等于所述張緊夾具單元與所述檢測單元之間的垂直距離。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，定位在所述支架上的所述金屬掩膜在支架的邊緣處 以預(yù)定角度彎曲，使得所述金屬掩膜能固定到所述夾緊部件上。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，所述預(yù)定角度可以處于10°到30°的范圍內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，固定所述金屬掩膜的所述邊緣的所述夾緊部件的固 定表面可以相對于之上定位有所述金屬掩膜的所述支架的表面具有預(yù)定傾斜角度。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，所述預(yù)定傾斜角度可以處于10°到30°的范圍內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，所述張緊部件可以牽引所述夾緊部件以將所述張緊 力施加到所述金屬掩膜。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，掩膜缺陷檢測裝置可以進一步包括傳送單元，以相對于所述檢測單元和所述張緊夾具單元中的一個沿平行方向傳送所述檢測單元和所述張 緊夾具單元中的另一個。根據(jù)本發(fā) 明的另一個方面，所述檢測單元包括用于檢測定位在所述支架上的所 述金屬掩膜缺陷的存在的攝像機單元和圍繞所述攝像機單元設(shè)置以照明所述金屬掩膜的 照明單元。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，所述金屬掩膜與所述檢測單元之間的所述垂直距離 小于或等于所述夾緊部件與所述檢測單元之間的垂直距離。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，所述金屬掩膜與所述檢測單元之間的所述垂直距離 小于或等于所述張緊部件與所述檢測單元之間的垂直距離。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，所述掩膜缺陷檢測裝置能夠精確且穩(wěn)定地檢測所述 金屬掩膜缺陷的存在。本發(fā)明另外的方面和/或優(yōu)點部分地將在后面的描述中提出，部分地根據(jù)說明 書將變得明顯的，或者可以從對本發(fā)明的實踐中獲悉。


通過結(jié)合附圖下面對實施例所作描述，本發(fā)明的這些和/或其它方面以及優(yōu)點 將變得明顯和更容易理解，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的掩膜檢測裝置的主視圖；圖2是圖1的張緊夾具單元的主視圖；圖3是圖1中的張緊夾具單元的局部俯視圖；圖4是圖1中的張緊夾具單元的局部放大圖。
具體實施例方式接下來將詳細介紹本發(fā)明的實施例，其示例被圖解于附圖中，其中相同的附圖 標記始終是指相同的元件。為了解釋本發(fā)明，下面將參照附圖描述各個實施例。另外，鑒于附圖中示出的組成構(gòu)件的尺寸和厚度是為了更好的理解和容易描述 而任意給出的，本發(fā)明的各方面不限于圖解的尺寸和厚度。在圖中，各層、各區(qū)域等的 厚度是為了清楚和容易地理解而被夸大?？梢岳斫獾氖?，當例如層、薄膜、區(qū)域或基板 等元件被描述成在其它元件“之上”時，它可以是直接在其它元件之上，或者由居間元 件分開。在下文中，將參照圖1-4描述根據(jù)本發(fā)明實施例的掩膜缺陷檢測裝置100。如圖 1所示，掩膜缺陷檢測裝置100包括張緊夾具單元30和檢測單元20。掩膜缺陷檢測裝置 100可進一步包括之上安裝有張緊夾具單元30的基礎(chǔ)構(gòu)件50。根據(jù)本發(fā)明的其它方面， 掩膜缺陷檢測裝置100可以包括另外的組件。如圖2和圖3所示，張緊夾具單元30包括支架31、夾緊部件32和張緊部件33。 待檢測的金屬掩膜(MM)定位在支架31上。夾緊部件32設(shè)置在支架31的兩側(cè)以固定 定位在支架31上的金屬掩膜(MM)的兩個邊緣。張緊部件33牽引固定金屬掩膜(MM) 兩側(cè)的一對夾緊部件32中的任意一個，以將張緊力施加到由夾緊部件32固定的金屬掩膜 (MM)。夾緊部件32和張緊部件33緊緊地將金屬掩膜(MM)固定在支架31上，使得檢測單元20能夠有效地檢測金屬掩膜(MM)。再次參照圖1，檢測單元20包括攝像機單元21和照明單元22。攝像機單元21 檢測定位在張緊夾具單元30的支架31上的金屬掩膜(MM)缺陷的存在。照明單元22圍 繞攝像機單元21設(shè)置以在金屬掩膜(MM)上發(fā)射光線，使得攝像機單元21可以更精確地 檢測金屬掩膜(MM)缺陷的存在。根據(jù)本發(fā)明的其它方面，照明單元22可以省略。 檢測單元20使用攝像機單元21以檢測缺陷的存在，例如附著于金屬掩膜(MM) 的細小的外來物質(zhì)。因此，當攝像機單元21接近待檢測的金屬掩膜(MM)時，檢測可以 更精確地施行。此外，掩膜缺陷檢測裝置100進一步包括傳送單元60，傳送單元60相對于張緊 夾具單元30沿平行方向移動檢測單元20。然而，本發(fā)明的各方面不限于此，而且傳送單 元60可以相對于檢測單元20沿平行方向傳送張緊夾具單元30而不是傳送檢測單元20。另外，定位在張緊夾具單元30的支架31上的金屬掩膜(MM)與檢測單元20之 間的垂直距離(dl)被形成為等于或小于張緊夾具單元30的夾緊部件32和張緊部件33與 檢測單元20之間的垂直距離(d2)。換句話說，夾緊部件32和張緊部件33被設(shè)置為與定 位在支架31上的金屬掩膜(MM)相比在垂直方向上與檢測單元20的距離相等或更遠。因此，盡管檢測單元20最大限度地接近金屬掩膜(MM)，以便精確地觀測金屬 掩膜(MM)，檢測單元20仍能穩(wěn)定地觀測金屬掩膜(MM)的邊緣而不與固定金屬掩膜 (MM)的夾緊部件32和張緊部件33相碰撞，以能夠更準確地檢測缺陷的存在。圖4圖解了張緊夾具單元30的結(jié)構(gòu)，當張緊夾具單元30的夾緊部件32和張緊 部件33被設(shè)置為等于或低于定位在支架31上的金屬掩膜(MM)的高度時，該張緊夾具單 元30穩(wěn)定地固定金屬掩膜(MM)。根據(jù)本發(fā)明的各個方面，張緊部件33被定位在夾緊 部件32之下，因此夾緊部件32將被描述。如圖4所示，定位在支架31上的金屬掩膜(MM)在支架31的邊緣處以預(yù)定角度 彎曲，使得金屬掩膜被固定到夾緊部件32。預(yù)定角度(Θ)處于10°到30°的范圍內(nèi)。如果金屬掩膜(MM)在支架31的邊緣處的彎曲角度(θ )小于10°，夾緊部件 32的高度難于被定位在等于或低于定位在支架31上的金屬掩膜(MM)的高度。另一方 面，如果金屬掩膜(MM)在支架31的邊緣處的彎曲角度(Θ)大于30°，由于通過張緊部 件33 (如圖2所示)施加到金屬掩膜(MM)的張緊力，金屬掩膜(MM)的彎曲部分可能變 形或損壞。此外，如果金屬掩膜(MM)在支架31的邊緣處的彎曲角度(θ )大于30°， 則定位在支架31的中心部分的金屬掩膜(MM)可能未繃緊，使得檢測單元20不能精確地 檢測金屬掩膜(MM)。而且，固定金屬掩膜(MM)的邊緣的夾緊部件32的固定表面325被形成為相對 于之上定位有金屬掩膜(MM)的支架31的表面315成預(yù)定傾斜角度。在這里，預(yù)定傾斜 角度與前面所述的預(yù)定角度(Θ) —樣處于10°到30°的范圍內(nèi)。因此，當夾緊部件32具有等于或低于定位在支架31上的金屬掩膜(MM)的高度 時，該夾緊部件32通過彎曲金屬掩膜(MM) —次可穩(wěn)定地固定該金屬掩膜(MM)。通 過上述配置，所述掩膜缺陷檢測裝置100可以更精確和穩(wěn)定地檢測金屬掩膜(MM)缺陷 的存在。雖然已經(jīng)示出并描述了本發(fā)明的一些實施例，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，在不脫離本發(fā)明的原則和精神、權(quán)利要求所限定的范圍以及它們的等同物的情況下，可以對實施例進行修改。
權(quán)利要求
1.一種掩膜缺陷檢測裝置，包括張緊夾具單元，包括之上定位有待檢測的金屬掩膜的支架、設(shè)置在所述支架兩側(cè)以 固定所述金屬掩膜的相對邊緣的夾緊部件和將張緊力施加到由所述夾緊部件固定的所述 金屬掩膜的張緊部件；以及用于檢測由所述張緊夾具單元固定的所述金屬掩膜的檢測單元，其中定位在所述支架上的所述金屬掩膜與所述檢測單元之間的垂直距離小于或等于 所述張緊夾具單元與所述檢測單元之間的垂直距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜缺陷檢測裝置，其中定位在所述支架上的所述金屬掩膜在所述支架的邊緣處以預(yù)定角度彎曲，使得所述 金屬掩膜被固定到所述夾緊部件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜缺陷檢測裝置，其中所述預(yù)定角度處于10°到30°的 范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜缺陷檢測裝置，其中 固定所述金屬掩膜的所述邊緣的所述夾緊部件的固定表面相對于之上定位有所述金 屬掩膜的所述支架的表面具有預(yù)定傾斜角度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜缺陷檢測裝置，其中所述預(yù)定傾斜角度處于10°到 30°的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜缺陷檢測裝置，其中所述張緊部件牽引所述夾緊部件以將所述張緊力施加到所述金屬掩膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜缺陷檢測裝置，進一步包括傳送單元，用于相對于所述檢測單元和所述張緊夾具單元的一個沿平行方向傳送所 述檢測單元和所述張緊夾具單元中的另一個。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜缺陷檢測裝置，其中所述檢測單元包括用于檢測定位在所述支架上的所述金屬掩膜的缺陷的存在的攝像 機單元和圍繞所述攝像機單元設(shè)置以照明所述金屬掩膜的照明單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜缺陷檢測裝置，其中所述金屬掩膜與所述檢測單元之間 的所述垂直距離小于或等于所述夾緊部件與所述檢測單元之間的垂直距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜缺陷檢測裝置，其中所述金屬掩膜與所述檢測單元之 間的所述垂直距離小于或等于所述張緊部件與所述檢測單元之間的垂直距離。
全文摘要
一種掩膜缺陷檢測裝置，包括張緊夾具單元，該張緊夾具單元具有之上定位有待檢測的金屬掩膜的支架、設(shè)置在該支架兩側(cè)以固定所述金屬掩膜的相對邊緣的夾緊部件和將張緊力施加到由該夾緊部件固定的所述金屬掩膜上的張緊部件；以及用于檢測由該張緊夾具單元固定的所述金屬掩膜的檢測單元。定位在該支架上的所述金屬掩膜與所述檢測單元之間的垂直距離小于或等于所述張緊夾具單元與所述檢測單元之間的垂直距離。
文檔編號G01N21/88GK102023162SQ20101021228
公開日2011年4月20日 申請日期2010年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月11日
發(fā)明者樸時映 申請人:三星移動顯示器株式會社