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電子轟擊樣品加熱架的制作方法

文檔序號:5846197閱讀:475來源:國知局
專利名稱:電子轟擊樣品加熱架的制作方法
技術(shù)領域
本實用新型涉及真空設備領域,特別是樣品加熱架。
背景技術(shù)
超高真空技術(shù)是新材料合成,材料的物理化學性質(zhì)分析和宇宙開 發(fā)的基本環(huán)境。為了實現(xiàn)在超高真空環(huán)境中的各種分析研究,經(jīng)常需 要對樣品進行加熱或冷卻的溫度控制,目前加熱和冷卻一體的裝置, 且在大氣側(cè)進行真空環(huán)境內(nèi)操作的設備尚且空白。 發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是克服上述不足問題,提供一種電子轟擊樣品 加熱架,結(jié)構(gòu)簡單,加熱冷卻方便,操作簡便。
本實用新型為實現(xiàn)上述目的所采用的技術(shù)方案是電子轟擊樣品 加熱架,臺體一面絕緣固定有樣品架, 一面固定有冷卻裝置,樣品架 內(nèi)臺體上裝有加熱絲,加熱絲接通電極,冷卻裝置通過銅導體連接壓 板。
所述樣品架安裝在絕緣臺上,樣品架上裝有樣品壓板。 所述導體為銅導體。
所述樣品架為三面開有定位槽的板框式樣品架。 所述冷卻裝置為冷卻頭固定裝在臺體上,冷卻頭管路連通冷卻源。
本實用新型通過對加熱絲導入電流,可使加熱絲放出熱電子,加 熱絲的發(fā)熱本身就可以通過熱輻射實現(xiàn)對樣品的加熱,熱輻射可以對
樣品加熱到600攝氏度,在樣品架上加正電壓后,熱電子被加速到樣 品架上,實現(xiàn)對樣品架的轟擊,以到達1300攝氏度的更高溫度。樣 品架還備有液氮存儲罐,液氮存儲罐儲備液氮后實現(xiàn)低溫,再通過銅 導體將低溫傳導到樣品加上,可實現(xiàn)負200攝氏度的低溫。所有部件 都是金屬或陶瓷構(gòu)成,可耐高溫烘烤,便于實現(xiàn)超高真空。

圖l是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實有新型主視圖。
圖中1臺體;2管路;3冷卻頭;4壓板;5銅導體;6電極; 7加熱絲;8絕緣臺;9樣品架;10熱電偶;具體實施方式
如圖1、 2所示的電子轟擊樣品加熱架,臺體1 一面通過絕緣臺 8固定安裝三面開有定位槽的板框式樣品架9,樣品架上裝有壓板4, 另一面固定有冷卻裝置的冷卻頭3,冷卻頭通過管路2連通冷卻源一 —氮源,樣品架9內(nèi)臺體上裝有加熱絲7——鴨絲,加熱絲7接通電 極6,冷卻頭3通過銅導體5連接壓板4,壓板上連接熱電偶10檢測溫度。
使用時被加熱的樣品通過壓板被固定在樣品架上,加熱時通過電 極向鎢絲通電流,使鎢絲發(fā)熱并產(chǎn)生熱電子,熱輻射會對被加熱樣品進行初步加熱,通過電極使得被加熱的樣品處于正電位,鎢絲放出的 熱電子被加速到樣品上,實現(xiàn)電子轟擊加熱。
冷卻時外部的液氮通過管路導入到低溫冷卻頭部,通過銅導體使 得樣品也被冷卻,樣品的溫度通過熱電偶來測量,絕緣臺起到電的絕 緣作用,但是對熱不起絕緣作用。本實用新型可以完成對樣品從負
200至1300攝氏度的溫度控制。
權(quán)利要求1、電子轟擊樣品加熱架,其特征是臺體一面絕緣固定有樣品架,一面固定有冷卻裝置,樣品架內(nèi)臺體上裝有加熱絲,加熱絲接通電極,冷卻裝置通過導體連接壓板。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子轟擊樣品加熱架,其特征是樣 品架安裝在絕緣臺上,樣品架上裝有樣品壓板。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電子轟擊樣品加熱架,其特征是導 體為銅導體。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子轟擊樣品加熱架,其特征是樣 品架為三面開有定位槽的板框式樣品架。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電子轟擊樣品加熱架,其特征是冷 卻裝置為冷卻頭固定裝在臺體上,冷卻頭管路連通冷卻源。
專利摘要本實用新型涉及真空設備。電子轟擊樣品加熱架,臺體一面絕緣固定有樣品架,一面固定有冷卻裝置,樣品架內(nèi)臺體上裝有加熱絲,加熱絲接通電極,冷卻裝置通過銅導體連接壓板。本實用新型通過對加熱絲導入電流,可使加熱絲放出熱電子,加熱絲的發(fā)熱本身就可以通過熱輻射實現(xiàn)對樣品的加熱,熱輻射可以對樣品加熱到600攝氏度,在樣品架上加正電壓后,熱電子被加速到樣品架上,實現(xiàn)對樣品架的轟擊,以到達1300攝氏度的更高溫度。樣品架還備有液氮存儲罐,液氮存儲罐儲備液氮后實現(xiàn)低溫,再通過銅導體將低溫傳導到樣品加上,可實現(xiàn)負200攝氏度的低溫。
文檔編號G01N1/36GK201355325SQ200920011038
公開日2009年12月2日 申請日期2009年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月27日
發(fā)明者郭方準 申請人:大連齊維科技發(fā)展有限公司
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