專利名稱：一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)測(cè)量技術(shù)，尤其是涉及一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的 測(cè)量裝置。
背景技術(shù)：
隨著材料科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，人們對(duì)材料的要求也越來(lái)越高。在光電子功能材料和器 件制備、機(jī)械加工和建筑等領(lǐng)域，特別是涉及薄膜材料精密加工的工程應(yīng)用，材料的熱 光效應(yīng)和熱膨脹效應(yīng)均有廣泛的應(yīng)用，熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)成為衡量材料性能的重要 指標(biāo)。因此，研究介質(zhì)的熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置或測(cè)量方法具有重要意義。 目前，測(cè)量介質(zhì)熱光系數(shù)的裝置有Abbe折射儀、橢偏儀、棱鏡耦合儀等。然而，這些 測(cè)量裝置均存在一些缺陷，如使用Abbe折射儀進(jìn)行測(cè)量，必須把待測(cè)介質(zhì)置于某種液 體材料中，且該液體材料的折射率大小必須保持在待測(cè)介質(zhì)的折射率和棱鏡的折射率之 間，這一條件限制了 Abbe折射儀的測(cè)量范圍；橢偏儀是基于橢偏原理的測(cè)量，計(jì)算復(fù) 雜，很難從測(cè)量值直接求得結(jié)果；在棱鏡耦合儀的測(cè)量過(guò)程中，需要非常精確的角度測(cè) 量，角度誤差直接影響到測(cè)量精度，所以棱鏡耦合儀的機(jī)械精密度要求很高，比較昂貴。 對(duì)于材料熱膨脹系數(shù)的測(cè)量，目前多數(shù)采用電阻線圈加熱的接觸式測(cè)量，如把材料制成 約0.5-1.0m長(zhǎng)的棒，置于恒溫電爐加熱然后測(cè)量棒的微小伸長(zhǎng)量，從而求得材料的熱膨 脹系數(shù)，存在很大的局限性。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡(jiǎn)單、測(cè)量精度高的介 質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置。
本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為 一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系 數(shù)的測(cè)量裝置，包括底座、光源組件和條紋觀測(cè)組件，所述的底座上設(shè)置有支架、由金 屬材料制成的中空樣品臺(tái)、加熱裝置和溫度測(cè)量裝置，所述的光源組件和所述的條紋觀 測(cè)組件活動(dòng)連接在所述的支架上，所述的樣品臺(tái)上置放有試樣，所述的加熱裝置包括電 源、恒溫調(diào)節(jié)控制器和電熱器件，所述的恒溫調(diào)節(jié)控制器與所述的電熱器件連接，所述 的電熱器件置放在所述的樣品臺(tái)內(nèi)，所述的溫度測(cè)量裝置分別與所述的樣品臺(tái)和所述的恒溫調(diào)節(jié)控制器連接。
所述的金屬材料為導(dǎo)熱性能良好的金屬材料。
所述的試樣包括襯底薄片和沉積在所述的襯底薄片上的待測(cè)介質(zhì)膜，所述的襯底薄 片與所述的樣品臺(tái)的正表面平整接觸。
所述的襯底薄片為一面為毛面且另一面為拋光面的毛玻璃片，所述的待測(cè)介質(zhì)膜沉 積在所述的拋光面上，所述的毛面與所述的樣品臺(tái)的正表面緊密平整接觸。
所述的光源組件包括第一底盤，所述的第一底盤周邊設(shè)置有角度標(biāo)度值，所述的第 一底盤上設(shè)置有第一可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片，所述的第一可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片上設(shè)置有光源、光擴(kuò)束器、第 一凸透鏡、第一螺旋及第一校準(zhǔn)線，所述的第一校準(zhǔn)線位于所述的光源、所述的光擴(kuò)束 器及所述的第一凸透鏡的光軸上。
所述的條紋觀測(cè)組件包括第二底盤，所述的第二底盤周邊設(shè)置有角度標(biāo)度值，所述 的第二底盤上設(shè)置有第二可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片，所述的第二可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片上設(shè)置有螺旋測(cè)微目鏡、 第二凸透鏡、第二螺旋及第二校準(zhǔn)線，所述的第二校準(zhǔn)線位于所述的螺旋測(cè)微目鏡及所 述的第二凸透鏡的光軸上，所述的螺旋測(cè)微目鏡位于所述的第二凸透鏡的焦平面上。
所述的溫度測(cè)量裝置包括熱敏探頭和與所述的熱敏探頭連接的溫度探測(cè)器，所述的 熱敏探頭連接在所述的樣品臺(tái)的正表面上并靠近所述的試樣，所述的溫度探測(cè)器與所述 的恒溫調(diào)節(jié)控制器連接。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于①測(cè)量裝置由簡(jiǎn)單的機(jī)械部件和電路構(gòu) 成，容易實(shí)現(xiàn)；②測(cè)量過(guò)程中，通過(guò)旋轉(zhuǎn)第一螺旋和第二螺旋精確設(shè)定測(cè)量時(shí)所需的角 度，通過(guò)移動(dòng)光源組件可使光源發(fā)射的光直接照射到待測(cè)介質(zhì)膜上，通過(guò)移動(dòng)條紋觀測(cè) 組件可以觀測(cè)到整個(gè)干涉條紋場(chǎng)，利用加熱器件對(duì)試樣進(jìn)行加熱，觀測(cè)不同溫度下某個(gè) 固定位置上移過(guò)的干涉條紋的數(shù)目，由此測(cè)量介質(zhì)的熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)，操作方便， 可調(diào)性好；③測(cè)量過(guò)程中，只通過(guò)改變角度和溫度，進(jìn)行兩次測(cè)量，就能同時(shí)測(cè)量出待 測(cè)介質(zhì)的熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)，限制因素少；④采用薄膜等傾千涉法測(cè)量條紋的變化， 測(cè)量精度高，計(jì)算過(guò)程簡(jiǎn)單。


圖1為本實(shí)用新型裝置的結(jié)構(gòu)示意圖-,
圖2為光源組件的結(jié)構(gòu)示意圖3為條紋觀測(cè)組件的結(jié)構(gòu)示意圖4a為試樣的結(jié)構(gòu)示意圖4b為樣品臺(tái)與置放在樣品臺(tái)內(nèi)的加熱器件的結(jié)構(gòu)示意圖; 圖5a為加熱裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5b為溫度測(cè)量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖6a為光程差分析光路圖6b為螺旋測(cè)微目鏡觀察到的干涉條紋場(chǎng)的示意圖，圖中l(wèi)r與22'是固定十字線， 3和3，是兩條相鄰的干涉條紋，tf為表觀間距，44，是螺旋測(cè)微目鏡的動(dòng)絲。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
如圖1所示， 一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，該裝置包括底座l、光 源組件2和條紋觀測(cè)組件3，底座1上設(shè)置有支架4、由金屬材料制成的中空樣品臺(tái)5、 加熱裝置7 (如圖5a所示)和溫度測(cè)量裝置6。
支架4與底座1固定連接，支架4包括橫支架41和兩個(gè)豎支架42，橫支架41的一 端與其中一個(gè)豎支架42連接，橫支架41的另一端與另一個(gè)豎支架42連接。光源組件2 和條紋觀測(cè)組件3活動(dòng)連接在橫支架41上，光源組件2和條紋觀測(cè)組件3可在橫支架 41上左右移動(dòng)。
光源組件2如圖2所示，包括第一底盤16，第一底盤16周邊設(shè)置有角度角度值(圖 中未示出)，第一底盤16上設(shè)置有第一可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片10，第一可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片IO上設(shè)置有單 色或準(zhǔn)單色光源11、光擴(kuò)束器12、第一凸透鏡14、第一螺旋13及第一校準(zhǔn)線15，第 一凸透鏡14的作用是產(chǎn)生平行光。第一校準(zhǔn)線15位于光源11、光擴(kuò)束器12及第一凸 透鏡14的光軸上。旋轉(zhuǎn)第一螺旋13，通過(guò)第一校準(zhǔn)線15可以方便的控制第一可旋轉(zhuǎn)動(dòng) 片10旋轉(zhuǎn)的角度。在此實(shí)施例中，要求光源11的光束對(duì)于待測(cè)介質(zhì)是透明的。
條紋觀測(cè)組件3如圖3所示，包括第二底盤22，第二底盤22周邊設(shè)置有角度角度 值(圖中未示出)，第二底盤22上設(shè)置有第二可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片17，第二可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片17上設(shè) 置有螺旋測(cè)微目鏡18、第二凸透鏡19、第二螺旋20及第二校準(zhǔn)線21，第二凸透鏡19 的作用是由于平行光干涉條紋發(fā)生在無(wú)窮遠(yuǎn)處，所以可通過(guò)第二凸透鏡19把干涉條 紋移到螺旋測(cè)微目鏡18處。第二校準(zhǔn)線21位于螺旋測(cè)微目鏡18及第二凸透鏡19的光 軸上。螺旋測(cè)微目鏡18位于第二凸透鏡19的焦平面上，這樣，便于觀測(cè)干涉條紋的移 動(dòng)。旋轉(zhuǎn)第二螺旋20，通過(guò)第二校準(zhǔn)線21可以方便的控制第二可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片17旋轉(zhuǎn)的角 度。在本實(shí)施例中螺旋測(cè)微目鏡18采用現(xiàn)有的技術(shù)，本發(fā)明采用螺旋測(cè)微目鏡18的目 的是為了測(cè)量待測(cè)介質(zhì)膜在初始溫度下的折射率和物理厚度。如果待測(cè)介質(zhì)膜在初始溫 度下的折射率和物理厚度已知，這種情況下，本發(fā)明可以采用任意現(xiàn)有的顯微目鏡替代 本實(shí)施例中的螺旋測(cè)微目鏡18，只需觀測(cè)待測(cè)介質(zhì)膜的任意固定位置上干涉條紋的移 動(dòng)，計(jì)算得到待測(cè)介質(zhì)膜的熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)。
樣品臺(tái)5上置放有試樣8，試樣8如圖4a所示，包括襯底薄片81和沉積在襯底薄片81上的待測(cè)介質(zhì)膜82，襯底薄片81為一單面拋光的毛玻璃片即一面為毛面且另一面 為拋光面的毛玻璃片，采用常規(guī)制膜工藝將待測(cè)介質(zhì)膜82沉積在拋光面上，毛面與樣 品臺(tái)5的正表面緊密平整接觸。
本實(shí)施例的待測(cè)介質(zhì)膜82直接沉積在單面拋光的毛玻璃片上形成試樣8，然后將毛 玻璃片的毛面與樣品臺(tái)5的正表面緊密平整地接觸和固定。這里，待測(cè)介質(zhì)膜82的制 備方式可采用真空蒸鍍和涂覆成膜等常規(guī)制膜工藝，在制膜過(guò)程中，要求待測(cè)介質(zhì)膜82 平整，并準(zhǔn)確控制待測(cè)介質(zhì)膜82的厚度。此外，基于薄膜等傾干涉理論，選擇單面拋 光的毛玻璃片可以避免襯底薄片81產(chǎn)生干涉條紋，提高待測(cè)介質(zhì)膜82產(chǎn)生的干涉條紋 對(duì)比度。
樣品臺(tái)5如圖4b所示，其由導(dǎo)熱性能良好的金屬材料制成，樣品臺(tái)5與底座1固 定連接。本實(shí)施例中的樣品臺(tái)5也可以設(shè)計(jì)成只有一面即正面由導(dǎo)熱性能良好的金屬材 料制成，此時(shí)，試樣8就放置在正面上。
加熱裝置7如圖5a所示，包括電源71、恒溫調(diào)節(jié)控制器72和電熱器件73，恒溫 調(diào)節(jié)控制器72與電熱器件73連接，電熱器件73置放在樣品臺(tái)5內(nèi)，可通過(guò)支柱74將 電熱器件73固定在底座1上(如圖4b所示)。在本實(shí)施例中，恒溫調(diào)節(jié)控制器72采用 現(xiàn)有技術(shù)，電熱器件73可以是現(xiàn)有的電阻絲、電熱片或電熱板等。
溫度測(cè)量裝置6如圖5b所示，包括熱敏探頭61和溫度探測(cè)器62。在本實(shí)施例中， 熱敏探頭61可以采用BaTi03陶瓷PTC熱敏電阻器，熱敏探頭61緊貼連接在樣品臺(tái)5 的正表面上，并靠近試樣8放置，這樣通過(guò)熱敏探頭61獲取的溫度更接近試樣8的溫 度，因此，在本實(shí)施例中，將熱敏探頭61獲取的溫度作為試樣8的溫度。溫度探測(cè)器 62與恒溫調(diào)節(jié)控制器72連接，溫度探測(cè)器62可采用現(xiàn)有技術(shù)。
本實(shí)用新型的工作原理為
根據(jù)薄膜等傾干涉理論，光以^角從折射率為 的介質(zhì)入射至折射率為 的介質(zhì)薄 膜時(shí)，如圖6a所示，介質(zhì)薄膜上下表面的反射光f和g之間的光程差為 A = 2/zV sin2"(!，0)，式中，h為介質(zhì)薄膜的物理厚度，(|,0)的取值有兩種情
況第一情況，當(dāng)介質(zhì)薄膜上下表面反射光之一有半波損失時(shí)，取^;第二情況，當(dāng)介
2
質(zhì)薄膜上下表面反射光都有半波損失或都沒有半波損失時(shí)，取0。半波損失是指當(dāng)反射 光從折射率小的介質(zhì)(即光疏介質(zhì))入射到折射率大的介質(zhì)(即光密介質(zhì))界面上，反
射時(shí)有A的附加光程。 2
由光源11發(fā)出的光經(jīng)光擴(kuò)束器12擴(kuò)束后照射到第一凸透鏡14上，經(jīng)第一凸透鏡 14出射的平行光再入射到待測(cè)介質(zhì)膜82上，經(jīng)待測(cè)介質(zhì)膜82上下表面的反射，反射光
6由于滿足千涉條件而發(fā)生干涉。由于待測(cè)介質(zhì)膜82上下表面的反射光相互平行，所以 待測(cè)介質(zhì)膜82上下表面的反射光應(yīng)該在無(wú)窮遠(yuǎn)處發(fā)生干涉，為此，條紋觀測(cè)組件3通 過(guò)第二凸透鏡19把干涉條紋移到螺旋測(cè)微目鏡18處，螺旋測(cè)微目鏡18處于第二凸透 鏡19的焦平面上，這樣便于觀測(cè)條紋的移動(dòng)。測(cè)量過(guò)程中，通過(guò)加熱器件73改變樣品 臺(tái)5的正表面的溫度，從而改變?cè)嚇?的溫度，使得待測(cè)介質(zhì)膜82的溫度由從室溫變 化到另一溫度，在這個(gè)過(guò)程中，有兩個(gè)因素會(huì)導(dǎo)致待測(cè)介質(zhì)膜82上下表面的反射光之 間的光程差發(fā)生改變 一是由于熱光效應(yīng)，待測(cè)介質(zhì)膜82的折射率發(fā)生改變，從而改 變光程差；二是由于熱膨脹效應(yīng)，待測(cè)介質(zhì)膜82的物理厚度發(fā)生改變，從而改變光程 差。光程差的變化會(huì)直接引起干涉條紋的移動(dòng)，在固定位置上移動(dòng)過(guò)一個(gè)干涉條紋意味 著光程差相應(yīng)改變一個(gè)波長(zhǎng)。因此，可以通過(guò)螺旋測(cè)微目鏡18觀測(cè)在固定位置上移動(dòng) 過(guò)的干涉條紋的數(shù)目來(lái)求得光程差的改變量，得到待測(cè)介質(zhì)膜82的折射率改變量和厚 度改變量?；诒∧さ葍A干涉理論，通過(guò)改變光的入射角度和試樣的溫度，進(jìn)行兩次測(cè) 量，就能同時(shí)測(cè)量得到待測(cè)介質(zhì)的熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)。
在此具體實(shí)施例中，以兩個(gè)特殊入射角的情形，測(cè)量和計(jì)算待測(cè)介質(zhì)膜在溫度T, 時(shí)的折射率 !和物理厚度h,以及待測(cè)介質(zhì)膜在溫度T2時(shí)的折射率^和物理厚度/^ 。具
體過(guò)程為
取第一設(shè)定角度值《=30° ，在溫度Tt下，光源發(fā)出的光以30°角從折射率為"。的 介質(zhì)入射至折射率為巧的待測(cè)介質(zhì)膜，由螺旋測(cè)微目鏡18觀測(cè)待測(cè)介質(zhì)膜上任意兩條
相鄰干涉明條紋或者干涉暗條紋的表觀間距A (如圖6b所示的fl)，再觀察試樣的溫度 從L變化到T2時(shí)，在待測(cè)介質(zhì)膜上的固定位置移動(dòng)過(guò)的干涉條紋的數(shù)目《。
同理，取第二設(shè)定角度值《-45。時(shí)，在溫度T,下，光源發(fā)出的光以45。角從折射 率為《。的介質(zhì)入射至折射率為巧的待測(cè)介質(zhì)膜，由螺旋測(cè)微目鏡18觀測(cè)待測(cè)介質(zhì)膜上
任意兩條相鄰干涉明條紋或者干涉暗條紋的表觀間距A (如圖6b所示的")，再觀察試
樣的溫度從l變化到T2時(shí)，在待測(cè)介質(zhì)膜上的固定位置移動(dòng)過(guò)的干涉條紋的數(shù)目A2 。
此處固定位置是指當(dāng)觀察者通過(guò)螺旋測(cè)微目鏡能夠觀察到干涉條紋時(shí)，由觀察者主 觀確定的某個(gè)位置，在觀察過(guò)程中均以這個(gè)位置為參照。綜合上述，可得到<formula>formula see original document page 8</formula> ，其中，M為螺旋測(cè)微目鏡的放大
倍數(shù)，；i為光源波長(zhǎng)；
最后由熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的定義計(jì)算待測(cè)介質(zhì)膜的熱光系數(shù)"和熱膨脹系數(shù)
<formula>formula see original document page 8</formula>式中，^為待測(cè)介質(zhì)膜在溫度T,時(shí)的折射率， 為待測(cè)<formula>formula see original document page 8</formula>介質(zhì)膜在溫度T2時(shí)的折射率，^為待測(cè)介質(zhì)膜在溫度T,時(shí)的物理厚度，；^為待測(cè)介質(zhì) 膜在溫度T2時(shí)的物理厚度，Ti為試樣的初始溫度，T2為試樣的最后溫度。
權(quán)利要求1、一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在于包括底座、光源組件和條紋觀測(cè)組件，所述的底座上設(shè)置有支架、由金屬材料制成的中空樣品臺(tái)、加熱裝置和溫度測(cè)量裝置，所述的光源組件和所述的條紋觀測(cè)組件活動(dòng)連接在所述的支架上，所述的樣品臺(tái)上置放有試樣，所述的加熱裝置包括電源、恒溫調(diào)節(jié)控制器和電熱器件，所述的恒溫調(diào)節(jié)控制器與所述的電熱器件連接，所述的電熱器件置放在所述的樣品臺(tái)內(nèi)，所述的溫度測(cè)量裝置分別與所述的樣品臺(tái)和所述的恒溫調(diào)節(jié)控制器連接。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在 于所述的金屬材料為導(dǎo)熱性能良好的金屬材料。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在 于所述的試樣包括襯底薄片和沉積在所述的襯底薄片上的待測(cè)介質(zhì)膜，所述的襯底薄片 與所述的樣品臺(tái)的正表面平整接觸。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在 于所述的襯底薄片為一面為毛面且另一面為拋光面的毛玻璃片，所述的待測(cè)介質(zhì)膜沉積 在所述的拋光面上，所述的毛面與所述的樣品臺(tái)的正表面緊密平整接觸。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在 于所述的光源組件包括第一底盤，所述的第一底盤周邊設(shè)置有角度標(biāo)度值，所述的第一 底盤上設(shè)置有第一可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片，所述的第一可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片上設(shè)置有光源、光擴(kuò)束器、第一 凸透鏡、第一螺旋及第一校準(zhǔn)線，所述的第一校準(zhǔn)線位于所述的光源、所述的光擴(kuò)束器 及所述的第一凸透鏡的光軸上。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在 于所述的條紋觀測(cè)組件包括第二底盤，所述的第二底盤周邊設(shè)置有角度標(biāo)度值，所述的 第二底盤上設(shè)置有第二可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片，所述的第二可旋轉(zhuǎn)動(dòng)片上設(shè)置有螺旋測(cè)微目鏡、第 二凸透鏡、第二螺旋及第二校準(zhǔn)線，所述的第二校準(zhǔn)線位于所述的螺旋測(cè)微目鏡及所述 的第二凸透鏡的光軸上，所述的螺旋測(cè)微目鏡位于所述的第二凸透鏡的焦平面上。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，其特征在 于所述的溫度測(cè)量裝置包括熱敏探頭和與所述的熱敏探頭連接的溫度探測(cè)器，所述的熱 敏探頭連接在所述的樣品臺(tái)的正表面上并靠近所述的試樣，所述的溫度探測(cè)器與所述的 恒溫調(diào)節(jié)控制器連接。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種介質(zhì)熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)的測(cè)量裝置，包括底座、光源組件和條紋觀測(cè)組件，底座上設(shè)置有支架、由金屬材料制成的中空樣品臺(tái)、加熱裝置和溫度測(cè)量裝置，光源組件和條紋觀測(cè)組件活動(dòng)連接在支架上，樣品臺(tái)上置放有試樣，加熱裝置包括電源、恒溫調(diào)節(jié)控制器和電熱器件，電熱器件置放在樣品臺(tái)內(nèi)，溫度測(cè)量裝置分別與樣品臺(tái)和恒溫調(diào)節(jié)控制器連接，通過(guò)旋轉(zhuǎn)第一、第二螺旋設(shè)定所需的角度，移動(dòng)光源組件可使光源發(fā)射的光照射到介質(zhì)膜上，移動(dòng)條紋觀測(cè)組件可觀測(cè)到整個(gè)干涉條紋，利用加熱器件對(duì)試樣加熱，觀測(cè)不同溫度下固定位置上移過(guò)的干涉條紋數(shù)目，由此測(cè)得介質(zhì)的熱光系數(shù)和熱膨脹系數(shù)；此外，裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、測(cè)量精度高。
文檔編號(hào)G01N21/71GK201314897SQ20082017079
公開日2009年9月23日 申請(qǐng)日期2008年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月18日
發(fā)明者駿 周, 徐丙振, 諸躍進(jìn), 金嫦香, 馬佑橋 申請(qǐng)人:寧波大學(xué)