專利名稱：工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，特別是一種安裝在生產(chǎn)現(xiàn)場的 工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置。
背景技術(shù)：
在使用光譜分析儀進(jìn)行測量時(shí)，要求它的測量探頭光路表面潔凈，因?yàn)?，如果光譜分 析儀探頭光路表面不潔凈，會對分析光譜造成影響，以致影響測量的結(jié)果。安裝在生產(chǎn)現(xiàn) 場的工業(yè)在線光譜分析儀，為防止物料等的泄漏，對探頭的安裝要求比較嚴(yán)謹(jǐn)，如果靠人 工清潔探頭，則需要拆卸和重新安裝探頭，不僅增加人工成本，而且不利于環(huán)保和安全生 產(chǎn)。此外，在線光譜分析儀在工業(yè)應(yīng)用上常采用樣品預(yù)處理系統(tǒng)(Sample Conditional System,以下簡稱SCS)對經(jīng)過探頭的介質(zhì)進(jìn)行提前清潔，如過濾雜質(zhì)，去除介質(zhì)含的水、 氣體氣泡等。但是由于測量介質(zhì)本身的復(fù)雜性和SCS性能的局限性，如過濾器為過濾過 小的雜質(zhì)微粒而目數(shù)太密，會影響分析樣品流動的速率，造成測量過分的滯后，但目數(shù)不 密會影響過濾雜質(zhì)的效果；水的去除功能并不徹底等等；同時(shí)安裝在生產(chǎn)現(xiàn)場的探頭常連 續(xù)或大量地測量介質(zhì)，遺留在探頭中的雜質(zhì)會逐漸積累，為使工業(yè)在線光譜分析儀能夠精 確測量，探頭表面的清潔工作仍然不可避免。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷或不足，提供一種安裝在生產(chǎn)現(xiàn)場的工業(yè)在線 光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，采用該裝置能夠自動地清潔工業(yè)在線光譜分析儀探頭， 而且無需人工地拆除和重新安裝探頭，減少因此而產(chǎn)生的污染，減低人工成本并促進(jìn)生產(chǎn)
安全，而且克服了scs性能的局限性，保證工業(yè)在線光譜分析儀探頭的清潔性。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下
一種工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，包括探頭、安裝探頭的采樣池、工業(yè) 控制器、測量介質(zhì)入口管和出口管，其特征在于還包括氮?dú)馄?，所述氮?dú)馄客ㄟ^帶氮?dú)?電磁閥的管道與采樣池連通，所述測量介質(zhì)入口管上設(shè)置有測量介質(zhì)電磁閥，所述氮?dú)怆?磁閥和測量介質(zhì)電磁閥均連接工業(yè)控制器，所述工業(yè)控制器控制氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電 磁閥的開啟與關(guān)閉。還包括清洗液罐，所述清洗液罐通過帶清洗液電磁閥的管道與采樣池連通，所述清洗 液電磁閥連接工業(yè)控制器，所述工業(yè)控制器控制清洗液電磁閥的開啟與關(guān)閉。
上述氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電磁閥為單路單通電磁閥或二位三通電磁閥或多路多通 電磁閥。
上述清洗液電磁閥為單路單通電磁閥或二位三通電磁閥或多路多通電磁閥。 上述帶清洗液電磁閥的管道設(shè)置于清洗液罐底部，所述清洗液罐底部至水平地面的垂 直距離高于采樣池底部至水平地面的垂直距離。 上述帶清洗液電磁閥的管道上設(shè)置液體泵。
上述帶氮?dú)怆姶砰y的管道與采樣池的連通處與探頭光路表面相對設(shè)置。 本實(shí)用新型的技術(shù)效果如下-
本實(shí)用新型工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，包括氮?dú)馄浚⑶以摰獨(dú)馄客?過帶氮?dú)怆姶砰y的管道與采樣池連通，在測量介質(zhì)入口管上設(shè)置有測量介質(zhì)電磁閥，氮?dú)?電磁閥和測量介質(zhì)電磁閥均連接工業(yè)控制器，工業(yè)控制器控制氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電磁 閥的開啟與關(guān)閉。通過帶氮?dú)怆姶砰y的管道與采樣池連通有氮?dú)馄?，在測量介質(zhì)入口管上 設(shè)置測量介質(zhì)電磁閥，并通過工業(yè)控制器控制氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電磁閥的開啟和關(guān) 閉，在需要清潔工業(yè)在線光譜分析儀探頭時(shí)，暫停工業(yè)在線光譜分析儀正常測量，工業(yè)控 制器控制測量介質(zhì)電磁閥關(guān)閉，切斷測量介質(zhì)流入采樣池，并將氮?dú)怆姶砰y開啟，引入氮 氣瓶中的氮?dú)獯祾咛筋^光路表面，達(dá)到清潔探頭的目的后，工業(yè)控制器控制氮?dú)怆姶砰y關(guān) 閉，測量介質(zhì)電磁閥開啟，恢復(fù)工業(yè)在線光譜分析儀正常工作狀態(tài)，從而實(shí)現(xiàn)工業(yè)在線光 譜分析儀探頭的自動清潔。本實(shí)用新型能夠通過自動控制的方式清潔探頭光路表面，無需 拆裝探頭本身，采用該裝置能夠方便、及時(shí)而無污染地實(shí)現(xiàn)工業(yè)在線光譜分析儀的現(xiàn)場維 護(hù)。
帶清洗液電磁閥的管道與采樣池連通有清洗液罐，并通過工業(yè)控制器控制清洗液電磁 閥的開啟和關(guān)閉，在需要清潔工業(yè)在線光譜分析儀探頭時(shí)，工業(yè)控制器控制測量介質(zhì)電磁 閥關(guān)閉，并將清洗液電磁閥開啟，將清洗液罐中的清潔液引入采樣池，浸泡探頭表面，再 關(guān)閉清洗液電磁閥，并將氮?dú)怆姶砰y開啟，引入氮?dú)馄恐械牡獨(dú)鈱⑶鍧嵰捍党霾蓸映?，?吹掃探頭光路表面，能夠?qū)⑦z留在探頭中的各種雜質(zhì)(尤其包括只憑氮?dú)獯挡坏舻纳倭款B 固雜質(zhì))徹底溶解去除，從而使得工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔更加徹底。
將帶清洗液電磁閥的管道設(shè)置于清洗液罐底部，且清洗液罐底部至水平地面的垂直距 離高于采樣池底部至水平地面的垂直距離，或者在帶清洗液電磁閥的管道上設(shè)置液體泵，均能保證清洗液罐中的清洗液順利地流動到采樣池中。帶氮?dú)怆姶砰y的管道與采樣池的連 通處與探頭光路表面相對設(shè)置，能保證氮?dú)馄恐械牡獨(dú)庵苯訌氐椎卮祾咛筋^光路表面，清 潔探頭。


圖1為本實(shí)用新型工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。 附圖標(biāo)記列示如下
l-清洗液罐，2-測量介質(zhì)電磁閥，3-氮?dú)怆姶砰y，4-清洗液電磁閥，5-采樣池，6-探頭， 7-氮?dú)馄浚?-工業(yè)控制器，9—電纜，10-測量介質(zhì)入口管，11-出口管。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)行說明。
圖1為本實(shí)用新型工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。一種工業(yè) 在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，包括探頭6、安裝探頭的采樣池5、工業(yè)控制器8、 測量介質(zhì)入口管10和出口管11，還包括氮?dú)馄?，氮?dú)馄?通過帶氮?dú)怆姶砰y3的管道 與采樣池5連通，測量介質(zhì)入口管10上設(shè)置有測量介質(zhì)電磁閥2，還設(shè)置有清洗液罐1， 清洗液罐1通過帶清洗液電磁閥4的管道與采樣池5連通，氮?dú)怆姶砰y3、測量介質(zhì)電磁 閥2和清洗液電磁闊4均通過電纜9連接工業(yè)控制器8，工業(yè)控制器8還可以控制氮?dú)怆?磁閥3、測量介質(zhì)電磁閥2和清洗液電磁閥4的開啟與關(guān)閉。
其中，工業(yè)控制器8為工業(yè)在線光譜分析儀的現(xiàn)有部件，可以選擇PLC控制器或者 DCS控制器，氮?dú)怆姶砰y3、測量介質(zhì)電磁閥2和清洗液電磁閥4可以選用單路單通電磁 閥或二位三通電磁閥或多路多通電磁閥，如果是要求防爆的場所則應(yīng)選用防爆電磁闊。
清洗液罐1中的清潔液可根據(jù)實(shí)際工況選用或配制無機(jī)溶劑，它可溶解沾附在探頭6 表面的各種雜物，還應(yīng)該不與測量介質(zhì)有劇烈的化學(xué)反應(yīng)。清潔液存放在清洗液罐l中， 為保證清潔液能順利地流動到采樣池5中，可以將帶清洗液電磁閥4的管道設(shè)置于清洗液 罐1底部，且清洗液罐1底部至水平地面的垂直距離高于采樣池5底部至水平地面的垂直 距離，即將清洗液罐1放置在一定的高度并具有一定勢能；或者在帶清洗液電磁閥4的管 道上設(shè)置液體泵，如果是要求防爆的場所，液體泵應(yīng)選用防爆電機(jī)驅(qū)動。
根據(jù)探頭6光路表面的實(shí)際情況，帶氮?dú)怆姶砰y3的管道與采樣池5的接口應(yīng)盡量與 探頭6光路表面相對或相切設(shè)置，這樣能保證氮?dú)馄?中的氮?dú)庵苯訌氐椎卮祾咛筋^6光路表面，清潔探頭6，氮?dú)馄?中存放的是工業(yè)常用并且容易得到的氮?dú)饣蛘呤莾x表風(fēng)， 如果是要求防爆的場所，則只能采用氮?dú)?。本?shí)施例中選擇氮?dú)膺M(jìn)行描述。
清潔的周期可以采用固定時(shí)間周期或根據(jù)工業(yè)在線光譜分析儀分析數(shù)據(jù)崎變時(shí)吹掃， 及其它方法定義清潔周期。
在工業(yè)在線光譜分析儀正常測量時(shí)，工業(yè)控制器8通過電纜9打開測量介質(zhì)電磁閥2， 關(guān)閉氮?dú)怆姶砰y3和清洗液電磁閥4，測量介質(zhì)經(jīng)過測量介質(zhì)電磁閥2和測量介質(zhì)入口管 10流進(jìn)采樣池5，并經(jīng)過出口管ll流出。
在需要清潔工業(yè)在線光譜分析儀探頭6時(shí)，需暫停工業(yè)在線光譜分析儀正常測量，工 業(yè)控制器8通過電纜9關(guān)閉測量介質(zhì)電磁閥2，切斷測量介質(zhì)流入采樣池5，并將氮?dú)怆?磁閥3開啟，引入具有一定壓力的氮?dú)馄?中的氮?dú)膺M(jìn)入采樣池5，吹掃探頭6光路表面， 達(dá)到清潔探頭6的目的。
探頭清潔完畢后，工業(yè)控制器8通過電纜9關(guān)閉氮?dú)怆姶砰y3，并開啟測量介質(zhì)電磁 閥2，恢復(fù)工業(yè)在線光譜分析儀正常工作狀態(tài)，從而實(shí)現(xiàn)工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動 清潔。
平時(shí)在需要清潔工業(yè)在線光譜分析儀探頭時(shí)，只需直接引入氮?dú)膺M(jìn)入采樣池5，吹掃 探頭6光路表面來進(jìn)行探頭自動清潔，但是會有少許的氮?dú)獯挡坏舻念B固雜質(zhì)遺留在探頭 中，多次吹掃清潔后，這些雜質(zhì)將會越來越多，可先由清洗液罐中的清洗液對探頭浸泡清 洗。
具體地，在需要清潔工業(yè)在線光譜分析儀探頭時(shí)，工業(yè)控制器通過電纜9關(guān)閉測量介 質(zhì)電磁閥2，打開清洗液電磁閥4，關(guān)閉氮?dú)怆姶砰y3，清洗液罐1中的清潔液流進(jìn)采樣 池5，經(jīng)過一定時(shí)間后，再關(guān)閉清洗液電磁閥4，清洗液浸泡探頭6—段時(shí)間。
清洗液浸泡探頭6—段時(shí)間后，工業(yè)控制器8通過電纜9打開氮?dú)怆姶砰y3，引入具 有一定壓力的氮?dú)馄?中的氮?dú)膺M(jìn)入采樣池5，將清潔液吹出采樣池5，并吹掃探頭6光 路表面，能夠?qū)⑦z留在探頭中的各種雜質(zhì)(尤其包括只憑氮?dú)獯挡坏舻念B固雜質(zhì))徹底溶 解去除，從而使得工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔更加徹底。
應(yīng)當(dāng)指出，以上所述具體實(shí)施方式
可以使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更全面地理解本發(fā)明創(chuàng) 造，但不以任何方式限制本發(fā)明創(chuàng)造。因此，盡管本說明書參照附圖和實(shí)施例對本發(fā)明創(chuàng) 造已進(jìn)行了詳細(xì)的說明，但是，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，仍然可以對本發(fā)明創(chuàng)造進(jìn)行修 改或者等同替換，總之， 一切不脫離本發(fā)明創(chuàng)造的精神和范圍的技術(shù)方案及其改進(jìn)，其均 應(yīng)涵蓋在本發(fā)明創(chuàng)造專利的保護(hù)范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求1、一種工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，包括探頭、安裝探頭的采樣池、工業(yè)控制器、測量介質(zhì)入口管和出口管，其特征在于還包括氮?dú)馄?，所述氮?dú)馄客ㄟ^帶氮?dú)怆姶砰y的管道與采樣池連通，所述測量介質(zhì)入口管上設(shè)置有測量介質(zhì)電磁閥，所述氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電磁閥均連接工業(yè)控制器，所述工業(yè)控制器控制氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電磁閥的開啟與關(guān)閉。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，其特征在于，還 包括清洗液罐，所述清洗液罐通過帶清洗液電磁閥的管道與采樣池連通，所述清洗液電磁 閥連接工業(yè)控制器，所述工業(yè)控制器控制清洗液電磁閥的開啟與關(guān)閉。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，其特征在于，所 述氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電磁閥為單路單通電磁閥或二位三通電磁閥或多路多通電磁閥。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，其特征在于，所 述清洗液電磁閥為單路單通電磁閥或二位三通電磁閥或多路多通電磁閥。
5、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，其特征在于，所 述帶清洗液電磁閥的管道設(shè)置于清洗液罐底部，所述清洗液罐底部至水平地面的垂直距離 高于釆樣池底部至水平地面的垂直距離。
6、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，其特征在于，所 述帶清洗液電磁閥的管道上設(shè)置液體泵。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，其特征 在于，所述帶氮?dú)怆姶砰y的管道與采樣池的連通處與探頭光路表面相對設(shè)置。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種工業(yè)在線光譜分析儀探頭的自動清潔裝置，包括探頭、安裝探頭的采樣池、工業(yè)控制器、測量介質(zhì)入口管和出口管，還包括氮?dú)馄?，氮?dú)馄客ㄟ^帶氮?dú)怆姶砰y的管道與采樣池連通，測量介質(zhì)入口管上設(shè)置有測量介質(zhì)電磁閥，氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電磁閥均連接工業(yè)控制器，工業(yè)控制器控制氮?dú)怆姶砰y和測量介質(zhì)電磁閥的開啟與關(guān)閉。本實(shí)用新型能夠自動地清潔工業(yè)在線光譜分析儀探頭，而且無需人工地拆除和重新安裝探頭，減少因此而產(chǎn)生的污染，減低人工成本并促進(jìn)生產(chǎn)安全，而且克服了SCS性能的局限性，保證工業(yè)在線光譜分析儀探頭的清潔性。
文檔編號G01N21/15GK201259491SQ20082012255
公開日2009年6月17日 申請日期2008年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月18日
發(fā)明者李艷義, 李蘇安, 王銀輝, 剛 謝 申請人:北京中科誠毅科技發(fā)展有限公司