專利名稱：圖案缺陷檢查方法、光掩模制造方法以及圖案轉(zhuǎn)印方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及圖案缺陷檢査方法，檢查具備單位圖案被周期性排列的重 復圖案的被檢查體的、重復圖案中產(chǎn)生的缺陷。
背景技術(shù)：
例如，在用于液晶顯示裝置、等離子顯示裝置、EL顯示裝置、LED 顯示裝置、DMD顯示裝置等顯示裝置(Flat Panel Display; FPD)的顯示 器件用基板的表面、在用于CCD攝像裝置的攝像器件用基板的表面、以 及用于該顯示攝像器件用基板的制造工序的光掩模的表面，有形成單位圖 案被周期性排列的重復圖案的情況。該單位圖案是按照規(guī)定的規(guī)則排列的 圖案。但是，由于制造工序上的某種原因， 一部分單位圖案有時包含按照 與規(guī)定規(guī)則不同的規(guī)則排列的缺陷。所述缺陷也可以稱為不規(guī)則缺陷 (irregularity defect)。在日本特開2005—233869號公報(以下，稱為"專利文獻l")中， 公開有向光掩模的檢査區(qū)域照明以產(chǎn)生衍射光，使上述衍射光中的規(guī)定次 數(shù)以上的高次衍射光選擇性入射的技術(shù)。另外，作為上述規(guī)定的次數(shù)，記 載有采用+11次或一11次。所述缺陷就算是作為各個圖案形狀處于許可范圍內(nèi)，但是由于按照一 定的規(guī)則(例如，周期性)排列，所以在通過顯示器件或攝像器件形成圖 像時，有容易被人看出的傾向。例如，在描繪圖案時由于描繪裝置的性能、或描繪環(huán)境的變動，有時 產(chǎn)生一定的規(guī)則性的描繪錯誤。進一步，根據(jù)發(fā)明人的研究，如果圖案的 面積變大，則由于在面內(nèi)的圖案形成(包括蝕刻、抗蝕圖案顯影等工序) 的不均勻，有時還產(chǎn)生在一定區(qū)域內(nèi)的鄰接的多個所述單位圖案中產(chǎn)生的形狀異?；蚺帕挟惓?gòu)成的缺陷。在發(fā)生此種缺陷的情況下，由于形狀異 ?；蚺帕挟惓Ｃ芗嬖谟谀硡^(qū)域，所以在通過顯示器件或攝像器件形成攝 像圖像時，也容易被看出。這些缺陷通常不是給器件的動作帶來異常的形 狀、排列異常，是極細微的缺陷，是通常釆用掩模的曝光光學系統(tǒng)的析像 限度以下的缺陷。但是，由于如上所述可以被檢測感知，因此有必要將這 些形狀異常、排列異常作為缺陷，與其他識別。但是，就算為了檢測感知 這些缺陷于未然，實施個別測定各單位圖案的尺寸和坐標的微觀檢查，由 于單位圖案的個數(shù)非常多，從時間、成本的觀點來看很困難。根據(jù)上述專利文獻1，因為高次的衍射光包含著物體構(gòu)造的細微的信 息，所以使高次的衍射光再衍射(合成)而得到的像，與只使低次的衍射 光再衍射而得到的像相比，細微部分的再現(xiàn)性優(yōu)良。但是，根據(jù)本發(fā)明人 的研究，發(fā)現(xiàn)為了高精度地檢測出圖案的缺陷，只選擇高次衍射光是不夠 的。即，發(fā)現(xiàn)為了高精度地判斷缺陷的存在，在接收向重復圖案照射光而 得到的衍射光并進行觀察時，能夠明確區(qū)分起因于缺陷的信息和起因于無 缺陷的原有的重復圖案的信息的SN比是必要的。發(fā)明內(nèi)容因此本發(fā)明的目的在于，提供一種圖案缺陷檢查方法以及圖案缺陷檢 査裝置，在觀察從重復圖案產(chǎn)生的衍射光來檢査缺陷時，能夠明確區(qū)分起 因于缺陷的信息和起因于無缺陷的重復圖案的信息。本發(fā)明的第一方式，是一種圖案缺陷檢查方法，對具備單位圖案被周 期性排列的重復圖案的被檢査體的，在所述重復圖案產(chǎn)生的缺陷進行檢 查，對在具有規(guī)則性的多個所述單位圖案產(chǎn)生的或在一定區(qū)域的鄰接的多 個單位圖案產(chǎn)生的缺陷進行檢査，其中，其具備以規(guī)定的入射角將光照 射向所述重復圖案，產(chǎn)生衍射光的工序；接收來自所述重復圖案的衍射光 并使其成像的工序；以及通過觀察使所述衍射光成像后的像，對在所述重 復圖案產(chǎn)生的所述缺陷引起的信號與所述重復圖案的信號進行識別而檢 測出的工序，所述單位圖案的排列間距為lpm 8^im。本發(fā)明的第二方式，是如第一方式所述的圖案缺陷檢查方法，在接收 所述衍射光并使其成像的工序中，選擇接收來自所述重復圖案的衍射光中的次數(shù)的絕對值為1 10的衍射光。本發(fā)明的第三方式，是如第一與第二方式的任意一項所述的圖案缺陷檢査方法，向所述重復圖案照射的光的波長為380nm至780nm。本發(fā)明的第四方式，是如第一至第三方式的任意一項所述的圖案缺陷 檢查方法，來自所述重復圖案的衍射光的接收是相對于所述重復圖案的主 面呈90。的受光角進行的。本發(fā)明的第五方式，是如第一至第四方式的任意一項所述的圖案缺陷 檢査方法，向所述重復圖案的光的照射是相對于所述重復圖案的主面呈 30。 60。的入射角進行的。本發(fā)明的第六方式，是如第一至第五方式的任意一項所述的圖案缺陷 檢査方法，所述被檢查體具備透明性基板，所述重復圖案在所述透明性基 板的主面上由遮光性材料或半遮光性材料構(gòu)成。本發(fā)明的第七方式，是如第六方式所述的圖案缺陷檢查方法，所述重 復圖案是測試用圖案，與具有和該重復圖案以不同周期排列的重復圖案的 主圖案被同時描繪在所述透明基板上。本發(fā)明的第八方式，是一種圖案缺陷檢查方法，其檢查具備單位圖案 被周期性排列的重復圖案的被檢查體的、在所述重復圖案產(chǎn)生的缺陷，其 中，具備以規(guī)定的入射角將光照射向所述重復圖案，產(chǎn)生衍射光的工序； 接收來自所述重復圖案的衍射光并使其成像的工序；以及通過觀察使所述 衍射光成像后的像，檢測出在所述重復圖案產(chǎn)生的缺陷的工序，在接收所 述衍射光并使其成像的工序中，選擇接收來自所述重復圖案的衍射光中的 次數(shù)的絕對值為1 10的衍射光。本發(fā)明的第九方式，是一種圖案缺陷檢查方法，其檢查具備單位圖案 被周期性排列的重復圖案的被檢査體的、在所述重復圖案產(chǎn)生的缺陷，其 中，具備通過在所述重復圖案以外的區(qū)域與所述重復圖案同時描繪，形 成以與所述單位圖案不同的間距周期性排列了測試用單位圖案的測試用 圖案的工序；以規(guī)定的入射角將光照射向所述測試用圖案，產(chǎn)生衍射光的 工序；接收來自所述測試用圖案的衍射光并使其成像的工序；以及通過觀 察使所述衍射光成像后的像，檢測出在所述重復圖案產(chǎn)生的缺陷的工序， 所述測試用單位圖案的排列間距為1 , 8 ,。本發(fā)明的第十方式，是如第九方式所述的圖案缺陷檢査方法，在接收 所述衍射光并使其成像的工序中，選擇接收來自所述測試用圖案的衍射光 中的次數(shù)的絕對值為1 10的衍射光。本發(fā)明的第十一方式，是如第九或第十方式中所述的圖案缺陷檢查方法，向所述測試用圖案照射的光的波長為380nm至780nm。本發(fā)明的第十二方式，是如第九至第十一方式的任意一項所述的圖案缺陷檢査方法，來自所述測試用圖案的衍射光的接收是相對于所述測試用圖案的主面呈90。的受光角進行的。本發(fā)明的第十三方式，是如第九至第十二方式的任意一項所述的圖案缺陷檢查方法，向所述測試用圖案的光的照射是相對于所述測試用圖案的主面呈30。 60。的入射角進行的。本發(fā)明的第十四方式，是如第九至第十三方式的任意一項所述的圖案缺陷檢査方法，所述被檢查體具備透明性基板，所述重復圖案以及所述測試用圖案在所述透明性基板的主面上，由遮光性材料或半遮光性材料構(gòu)成。本發(fā)明的第十五方式，是如第一至第十四方式的任意一項所述的圖案 缺陷檢查方法，所述衍射光是照射向所述重復圖案的光的反射光引起的衍 射光。本發(fā)明的第十六方式，是如第一至第十五方式的任意一項所述的圖案 缺陷檢查方法，所述被檢查體是對365nm 436nm的波長范圍內(nèi)的規(guī)定波 長范圍的光進行曝光的光掩模。本發(fā)明的第十七方式，是如第十六方式所述的圖案缺陷檢査方法，所 述光掩模是液晶顯示裝置制造用的光掩模。本發(fā)明的第十八方式，是一種光掩模的制造方法，具有利用第一方式 至第十七方式的任意一項所述的圖案缺陷檢査方法檢查缺陷的工序。本發(fā)明的第十九方式，是一種光掩模的制造方法，具有利用第一至第 十七方式的任意一項所述的圖案缺陷檢查方法檢查缺陷，并根據(jù)所述檢查 的結(jié)果對描繪所述重復圖案的描繪機的描繪精度進行評價的工序。本發(fā)明的第二十方式，是一種圖案轉(zhuǎn)印方法，在利用第十八或第十九 方式所述的光掩模的制造方法制造的光掩模上，對365mn 436nm的波長范圍內(nèi)的規(guī)定波長范圍的光進行曝光，將在所述光掩模上形成的圖案轉(zhuǎn)印 到被轉(zhuǎn)印體上。根據(jù)本發(fā)明所述的圖案缺陷檢査方法以及圖案缺陷檢查裝置，能夠明 確區(qū)分起因于缺陷的信息和起因于原來的重復圖案的信息。


圖1是例示作為本發(fā)明的一個實施方式的被檢査體的光掩模構(gòu)成的概 略圖，(a)表示光掩模的俯視圖；(b)表示光掩模的橫截面圖；圖2是例示具備作為本發(fā)明的一個實施方式的被檢查體的光掩模的重 復圖案的構(gòu)成的概略圖；圖3是表示本發(fā)明的一個實施方式的圖案缺陷檢查裝置的構(gòu)成的概略圖；圖4是表示以入射角ei向重復圖案照射光，以受光角90。接收衍射光 的狀態(tài)的概略圖，(a)表示單位圖案的間距為l(Him時的衍射光的狀態(tài)， (b)表示間距為10pm時的衍射光的次數(shù)與入射角的關(guān)系，(c)表示單 位圖案的間距為lpm時的衍射光的狀態(tài)，(d)表示間距為lpm時的衍射 光的次數(shù)與入射角的關(guān)系；圖5是例示在重復圖案中產(chǎn)生的缺陷的概略圖，(a)以及(b)例示 坐標位置變動系列的缺陷，(c)以及(d)例示尺寸變動系列的缺陷；圖6 (a)表示產(chǎn)生了缺陷的重復圖案，圖6 (b)表示接收從該重復 圖案產(chǎn)生的衍射光并使其成像的區(qū)域圖像，圖6 (c)表示對該區(qū)域圖像的 光強度進行微分，強調(diào)了光強度分布變動的微分圖像，圖6(d)表示顯示 該光強度變化的變動的坐標圖。圖7 (a)是摘要了本發(fā)明的實施例以及比較例的缺陷檢測能力的坐標 圖，圖7 (b)是表示間距d為4pm時(實施例1)的光強度變化率分布的 坐標圖，圖7 (c)是表示間距d為8pm時(實施例2)的光強度變化率分 布的坐標圖，圖7 (d)是表示間距d為12pm時(比較例l)的光強度變 化率分布的坐標圖，圖7 (e)是表示間距d為20(am時(比較例2)的光 強度變化率分布的坐標圖。圖8是例示作為本發(fā)明的其他實施方式的被檢查體的光掩模構(gòu)成的概略圖，(a)表示光掩模的俯視圖；(b)表示光掩模的橫截面圖。
具體實施方式
(A)本發(fā)明的一個實施方式以下，作為本發(fā)明的一個實施方式，按順序說明(1)作為被檢查體的光掩模的構(gòu)成；(2)光掩模產(chǎn)生的缺陷；(3)圖案缺陷檢査裝置的構(gòu) 成；(4)本實施方式的圖案缺陷檢查方法。 (1)光掩模的構(gòu)成在本實施方式的圖案缺陷檢查裝置以及圖案缺陷檢查方法中，例如， 用于液晶顯示裝置、等離子顯示裝置、EL顯示裝置、LED顯示裝置、DMD 顯示裝置等的顯示器件用基板，或用于CCD等的攝像器件用基板，進而 在該顯示攝像用元件用基板的制造工序使用的光掩模，可以作為被檢査體 使用。此外，半導體器件用基板、以及在該半導體器件用基板的制造工序 使用的光掩模，也可以作為被檢查體使用。以下，關(guān)于作為被檢查體的光掩模50的構(gòu)成參照附圖來進行說明。 在參照的附圖中，圖1是例示作為本發(fā)明的一個實施方式的被檢查體的光 掩模構(gòu)成的概略圖，(a)模式地表示光掩模的俯視圖；(b)模式地表示 光掩模的橫截面圖。另外，圖2是例示作為本發(fā)明的一個實施方式的被檢 査體的光掩模所具備的重復圖案的結(jié)構(gòu)的模式概略圖。所謂光掩模50是指用光刻技術(shù)制造細微構(gòu)造時使用的曝光用掩模。 例如，在顯示器件基板用的光掩模的情況下，如圖1 (a)的例示所示，大 多情況下作為具備邊L1、邊L2的基板構(gòu)成。如上所述，在顯示器件用基 板的制造工序中使用的光掩模50，大多情況下邊Ll或邊L2超過300mm， 有時也會作為超過lm的大型基板構(gòu)成。并且，利用該種大型光掩模50 進行全面曝光，由于光量優(yōu)先于析像度，所以作為曝光用光源，大多情況 下使用發(fā)出包含365nm 436nm的波長的規(guī)定波長區(qū)域的光的光源。如圖1 (b)所示，光掩模50具備作為透明支承體的透明基板57、和 由形成于透明基板57的主表面上的薄膜(遮光膜或半遮光膜)構(gòu)成的重 復圖案56。作為透明基板57的材料，例如使用合成石英玻璃等。另外，作為構(gòu)成重復圖案56的薄膜的材料，例如使用鉻等具有遮光性的材料、或具有 半透光性的材料等。另外，薄膜不限于單層，也可以層疊構(gòu)成。該種情況 下，除遮光膜以外還可以伴有半透光性的膜，另外還可以伴有蝕刻阻止等 功能性的膜。進一步，在上述薄膜上也可以伴有抗蝕劑膜。顯示器件用的光掩模50的重復圖案56的形狀，例如如圖2所示，呈 格子狀的單位圖案53被周期性排列的形狀。以下，稱單位圖案53的排列 周期為單位圖案53的間距d。并且，單位圖案53的形狀不僅限于格子狀， 也可以是線與空間(line and space)形狀、矩形或其他形狀的單位圖案等， 還可以作為其他形狀的重復圖案構(gòu)成。(2)光掩模產(chǎn)生的缺陷 在上述中，單位圖案53應(yīng)該按照規(guī)定的規(guī)則排列。但是，由于制造 工序等的某種原因，有時會產(chǎn)生一部分單位圖案按照與上述規(guī)則不同的規(guī) 則排列的缺陷，或產(chǎn)生鄰接的多個單位圖案中產(chǎn)生的缺陷(所謂不規(guī)則缺 陷)的情況。本發(fā)明在以下缺陷的檢査中產(chǎn)生顯著效果。即，在表面具有單位圖案 被規(guī)則性排列的重復圖案的光掩模中，缺陷包含具有與所述單位圖案排 列的規(guī)則不同的規(guī)則性的在多個所述單位圖案中產(chǎn)生的形狀異?；蚺帕?異常；或鄰接的多個所述單位圖案中產(chǎn)生的形狀異?；蚺帕挟惓?，異常的 尺寸為采用所述光掩模的曝光光學系統(tǒng)的析像限度以下的形狀異常或排 列異常。本發(fā)明尤其是在相對于曝光光學系統(tǒng)的析像限度，缺陷量(作為 單位圖案的錯位或線寬偏離的量)為1/10以下的情況下有用。以下，對于在重復圖案56中產(chǎn)生的缺陷，與光掩模50的制造方法一 起說明。另外，如上所述，線與空間狀的單位圖案中的線寬異常以及位置 偏離也屬于本實施方式的檢查對象的缺陷。在制造光掩模50時，大多數(shù)情況下，實施以下[1] [5]的工序。[1]首先，在透明基板57上形成薄膜(遮光膜等)，進一步在該薄膜 上形成抗蝕劑膜。[2]接著，在形成的抗蝕劑膜上，利用描繪機通過例如光柵描繪方法 等描繪方法照射激光等，對規(guī)定的圖案進行曝光。[3]接著進行顯影，選擇性除去描繪部或非描繪部的抗蝕劑膜，在薄膜上形成抗蝕圖案。[4]之后，通過蝕刻選擇性除去沒有被抗蝕圖案覆蓋的薄膜，形成重 復圖案56。[5]接著，除去重復圖案56上的殘留抗蝕劑。并且，如果是多層膜的情況下，可以對應(yīng)膜的材料設(shè)置追加工序。此處，在上述的[2]工序中，由于激光的掃描精度突然惡化，或光束直 徑突然變化，或環(huán)境因素變動等，重復圖案56中有產(chǎn)生缺陷的情況。另 外，上述[3]、 [4]的工序中，當在顯影或蝕刻中產(chǎn)生面內(nèi)不均時，在某區(qū)域， 相鄰的多個單位圖案有可能同時產(chǎn)生形狀異?；蚺帕挟惓?。圖5是例示重 復圖案中產(chǎn)生的具有不同規(guī)則性的缺陷的概略圖，(a)以及(b)例示坐 標位置變動系列的缺陷，(c)以及(d)例示尺寸變動系列的缺陷。另外， 在圖5中，用符號54表示產(chǎn)生缺陷的部位。例如，圖5 (a)表示由于在激光的描繪的銜接處發(fā)生了錯位，使得單 位圖案53的間距d局部變寬的缺陷。另外，圖5 (b)表示由于在激光的 描繪銜接處發(fā)生了錯位，使得單位圖案53'的位置相對于其他單位圖案53 發(fā)生了相對偏移的缺陷。這些缺陷可以稱為坐標位置變動系列的缺陷。另外，圖5 (c)以及圖5 (d)表示由于描繪機的光束強度或光束直 徑發(fā)生變動等，使得單位圖案53'的大小、即格子框53a'的寬度發(fā)生變動 的缺陷。這些缺陷可以稱為尺寸變動系列的缺陷。并且，這些缺陷的產(chǎn)生原因，不一定限定于上述，也有由于其他種種 原因而產(chǎn)生的情況。但是這些缺陷的特征是，由于在映像器件(顯示器件 或攝像器件)的制造中使用的圖案中產(chǎn)生，所以大多數(shù)情況下，是在掩模 使用時采用的曝光機的析像限度以下的缺陷量(錯位量、尺寸變動量)， 雖然不會給器件的動作帶來異常，但是有必要作為缺陷，與正常圖案識別開。(3)圖案缺陷檢査裝置的構(gòu)成 接著，關(guān)于本發(fā)明的一個實施方式的圖案缺陷檢査裝置10的構(gòu)成例， 參照圖3進行說明。圖案缺陷檢查裝置IO具有作為保持裝置的工作臺11、 作為照明裝置的光源裝置12、作為受光裝置的攝像裝置14、以及作為解 析裝置的圖像解析裝置16。[工作臺〗作為保持裝置的工作臺11構(gòu)成為對作為被檢查體的光掩模50進行保持。工作臺U保持掩模50，使得能夠相對于重復圖案56的主平面從斜下 方照射光。例如，工作臺11可以以保持光掩模50外周部的框狀形狀構(gòu)成， 也可以相對于照射的光由透明構(gòu)件構(gòu)成。另外，工作臺11例如作為在X方向以及Y方向上可以移動的X—Y 工作臺構(gòu)成。而且，通過使在工作臺11上保持的光掩模50相對于后述的 光源裝置12以及攝像裝置14進行相對移動，可以移動檢查視野。并且， 在工作臺11構(gòu)成為不可以自由移動的情況下，也可以將光源裝置12以及 攝像裝置14構(gòu)成為相對于工作臺11可以自由移動。在這種情況下，能夠 使光源裝置12以及攝像裝置同步相對于被檢查體移動。此時，相對于被 檢查體將光源裝置12以及攝像裝置14配置在相同一側(cè)并構(gòu)成為一體，并 且形成接收來自于被檢查體的反射光的裝置結(jié)構(gòu)是有利的。這是因為，如 此構(gòu)成，在防止光源裝置12與攝像裝置14的光軸錯開的同時，同步移動 也變得容易。[光源裝置]作為照明裝置的光源裝置12構(gòu)成為，向保持于工作臺11的光掩模50 的重復圖案56，以一定的入射角照射光，并產(chǎn)生衍射光。光源裝置12優(yōu)選使用具有足夠的輝度(例如，照度為1萬Lx 60萬 Lx以上，優(yōu)選30萬Lx以上)，平行性高的(平行度為2。以內(nèi)的)光源 12a。而且，來自于光源裝置12的光的波長人，為了能夠廉價地得到上述 輝度，并且為了廉價地實現(xiàn)后述的攝像裝置14，優(yōu)選采用波長380nm 780nm (可見光域)。作為可以滿足這樣的條件的光源12a，例如可以列 舉超高壓水銀燈、氙氣燈、金屬鹵素燈等。光源裝置12具備含有透鏡的照射光學系統(tǒng)12b。照射光學系統(tǒng)12b 被配置于工作臺11的支承面(即重復圖案56的主平面)與光源12a之間， 將來自于光源12a的光平行化。通過照射光學系統(tǒng)12b被平行化了的光，從斜下方以入射角ei照射重 復圖案56的主平面，產(chǎn)生衍射光。另外，此處所說的入射角ei，指的是工作臺11的支承面的法線與照射光的光軸所夾的角度。另外在圖1中， 光源裝置12相對于工作臺11的支承面被配置于斜下方，后述的受光裝置 接收來自于重復圖案的透過光，其也可以相對于工作臺11的支承面被配 置在斜上方。此時的受光裝置接收重復圖案產(chǎn)生的反射光。并且，根據(jù)利 用反射光的方法，也可以適用在透明以外的基板上形成圖案的基板作為被 檢査體。進而，如上所述，利用反射光的方法，由于可以將照射光學系統(tǒng) 和攝像裝置相對于被檢査體設(shè)置在同一側(cè)，所以可以構(gòu)成一體，在穩(wěn)定保 持檢查時的光軸這一點上有利。進一步，在利用反射光的方法中，與接收 透過光的情況相比，在受光光量大(不必考慮基板吸收光造成的光量減 弱)、光學系統(tǒng)的角度控制容易(不必考慮基板厚度引起的折射的影響) 的方面，有檢查精度上的優(yōu)點。并且，入射角ei優(yōu)選采用30° 60°。如果入射角ei過大，在后述的攝像裝置14處接收的衍射光的次數(shù)的絕對值變大，衍射光的光量減少， 缺陷的檢測變得困難。還有，如前所述，雖然重復圖案56形成在透明基 板57上，但如果入射角0i過大，在被檢查區(qū)域中難以以均勻的照度照射光，并不優(yōu)選。另一方面，如果入射角ei過小，則在攝像裝置i4處接收透過了重復圖案56的透過光，高強度的透過光(0次光)中埋入含有缺陷信號的衍射光，缺陷的檢測變得困難。 [攝像裝置]作為受光裝置的攝像裝置14，接收來自于重復圖案56的衍射光，使 其結(jié)像。攝像裝置14具備例如CCD相機等能夠拍攝二維圖像的區(qū)域相機(area camera) 14a。區(qū)域相機14a的受光面被設(shè)置成與工作臺11的支承面(即 重復圖案56的主平面)相對。攝像裝置14還具有帶有物鏡的受光光學系統(tǒng)14b。受光光學系統(tǒng)14b 從重復圖案56接收規(guī)定次數(shù)的衍射光，使其在區(qū)域相機14a的受光面上 成像。另外，如圖4所示，受光光學系統(tǒng)14b具有集中衍射光的物鏡14c 和光圈14d。而且，物鏡14c的開口 NA構(gòu)成為通過對物光圈14d，要小 于波長X/間距d。另外，通過受光光學系統(tǒng)14b的攝像裝置14的視野構(gòu)成 為，例如一邊為10mm 50mm的正方形或長方形。攝像裝置14相對于工作臺11的支承面被配置在上方，以受光角0r接收衍射光。此處所說的受光角er，指的是工作臺11的支承面(即重復 圖案56的主平面)與受光光學系統(tǒng)14b的光軸所夾的角度。并且，優(yōu)選 使受光角0r實質(zhì)上為90°。這是因為，在攝像裝置14被配置于工作臺11 的支承面的法線上的情況下，與攝像裝置14相對于工作臺11的支承面被 配置于傾斜方向的情況相比，不容易產(chǎn)生變形(離區(qū)域相機14a的受光面 遠的一方像變小，同時近的一方像變大，像成為梯形的變形)。即，在同 一檢查視野內(nèi)，容易得到均勻的像。另外其構(gòu)成為，在區(qū)域相機14a的受光面上成像的衍射光的像(以下， 稱為區(qū)域圖像)，可以作為圖像數(shù)據(jù)向圖像解析裝置16輸出。[圖像解析裝置]作為解析裝置的圖像解析裝置16構(gòu)成為，通過觀察從攝像裝置14輸 出的區(qū)域圖像，檢測出區(qū)域圖像內(nèi)的光強度分布的異常，能夠檢測出重復 圖案56有無產(chǎn)生缺陷。另外，關(guān)于通過檢測出光強度分布的異常而能夠 檢測出缺陷的理由，在(4)圖案缺陷檢査方法一項后述。艮口，圖像解析裝置16構(gòu)成為，在從攝像裝置14接收了區(qū)域圖像的圖 像數(shù)據(jù)后，生成將區(qū)域圖像的光強度分布進行了數(shù)值化后的數(shù)值數(shù)據(jù)。然 后，圖像解析裝置16通過將所述數(shù)值數(shù)據(jù)與基于無缺陷情況的區(qū)域圖像 的數(shù)值數(shù)據(jù)(基準數(shù)據(jù))進行定量比較，從而客觀地檢測出光強度分布的 異常。另外，圖像解析裝置16構(gòu)成為，在接收了區(qū)域圖像的圖像數(shù)據(jù)后， 對區(qū)域圖像進行微分，生成表示光強度變化率的分布的微分圖像，并且生 成將光強度變化率的分布進行了數(shù)值化的數(shù)值數(shù)據(jù)。然后，圖像解析裝置 16通過將所述數(shù)值數(shù)據(jù)與對無缺陷情況的區(qū)域圖像進行微分后得到的數(shù) 值數(shù)據(jù)(基準數(shù)據(jù))進行定量比較，從而提高光強度分布的異常的檢測靈 敏度。(4)圖案缺陷檢查方法 接著，對于本發(fā)明的一個實施方式的圖案缺陷檢查方法進行說明。本 圖案缺陷檢查方法，通過上述的圖案缺陷檢查裝置實施。本圖案缺陷檢查方法，具有以下工序以規(guī)定的入射角將光照射向重復圖案56，產(chǎn)生衍射光的工序(Sl);接收來自重復圖案56的衍射光，使其成像的工序(S2);通過觀察使衍射光成像的像，檢測出重復圖案56 有無產(chǎn)生缺陷的工序(S3)。以下，按順序說明各工序。 [產(chǎn)生衍射光的工序(Sl)]首先，將具備重復圖案56的光掩模50保持在圖案檢查裝置的工作臺 11上。然后利用光源裝置12，相對于重復圖案56的主平面從斜下方以入 射角9i照射光。于是，在重復圖案56的透過光側(cè)以及反射光側(cè)，發(fā)生衍射光。然后， 當單位圖案53的間距為d、從光源裝置12入射的光的波長為X、入射角 為ei時，在滿足d (sinei士sin0n) =nX的關(guān)系的衍射角0n的方向，觀測 到n次的衍射光。圖4是表示以入射角0i向重復圖案56照射光，以受光角90°接收衍 射光的狀態(tài)的概略圖，(a)表示單位圖案的間距d為10pm時的衍射光的 狀態(tài)，(b)表示所述情況時的衍射光的次數(shù)與入射角的關(guān)系。還有，(c) 表示單位圖案的間距d為lpm時的衍射光的狀態(tài)，(d)表示所述情況時 的衍射光的次數(shù)與入射角的關(guān)系。根據(jù)圖4可以得知，單位圖案53的間距d越大，鄰接的衍射光彼此的衍射角之差Ae (即，enii與en之差)越小。[接收衍射光并使其成像的工序(S2)]接著通過攝像裝置14接收來自重復圖案56的衍射光并使其成像。即， 通過受光光學系統(tǒng)14b接收來自于重復圖案56的衍射光，使其向區(qū)域相 機14a的受光面上成像，得到區(qū)域圖像。此處，在無缺陷的重復圖案56中，因為各單位圖案53的間距d均勻， 所以只要波長人、入射角ei、衍射角en相同，使特定次數(shù)的折射光成像的 像就應(yīng)該具有一定的規(guī)則性。相對于此，產(chǎn)生了缺陷的重復圖案56'的間 距d'，與無缺陷的重復圖案56的間距d不同。因此，在波長X、入射角6i、 衍射角en相同的情況下，基于產(chǎn)生了缺陷的重復圖案56'的區(qū)域圖像，與 基于無缺陷的重復圖案56的區(qū)域圖像，會產(chǎn)生某種不同。具體來說，在 前者的區(qū)域圖像內(nèi)，會出現(xiàn)起因于缺陷的光強度分布的異常。并且，該光 強度分布的異常，不會出現(xiàn)于后者的區(qū)域圖像中。然后，攝像裝置14將區(qū)域圖像的圖像數(shù)據(jù)向圖像解析裝置16輸出。 另外，在上述中，以從重復圖案56的斜下方照射光，并在透過面接收衍射光的情況作為例子進行了說明，關(guān)于從重復圖案56的斜上方照射光，并在反射面接收衍射光的情況，也可以得到相同的結(jié)果。[檢測缺陷有無的工序(S3)]如上所述，來自產(chǎn)生了缺陷的重復圖案56，的區(qū)域圖像，會出現(xiàn)表示 缺陷存在的光強度分布的異常。因此，利用圖像解析裝置16觀察區(qū)域圖 像，檢查在重復圖案56中有無產(chǎn)生缺陷。具體來說，圖像解析裝置16接受從攝像裝置14輸出的區(qū)域圖像的圖 像數(shù)據(jù)，對區(qū)域圖像的光強度分布進行微分，生成強調(diào)其變化的微分圖像， 通過觀察光強度分布的變化(異常)，檢測有無缺陷。并且如上所述，優(yōu)選入射光的波長X為380nm 780nm、入射角6i為 30° 60°、受光角0r實質(zhì)為90。。而且，此時，單位圖案53的間距d優(yōu)選 lpm 8^m。此時，觀察上述區(qū)域圖像或其微分圖像，起因于缺陷的信號 相對于起因于原有重復圖案(無缺陷的重復圖案)的信號，SN比為1.2 以上，可以明確區(qū)別。進而，根據(jù)上述d (sin9n士sinei) 二n入的關(guān)系式， 波長人、入射角ei、受光角0r、間距d如果為上述條件，則在攝像裝置14 能夠接收次數(shù)的絕對值為1 10的衍射光。次數(shù)的絕對值為1 10的衍射 光的光量多，可以得到明亮的區(qū)域圖像，能夠高可靠性地檢測出表示缺陷 存在的光強度分布的變動(異常)。 (5)本實施方式的效果根據(jù)本實施方式，能夠起到以下的[1] [4]效果。[l]根據(jù)本實施方式，在重復圖案56產(chǎn)生的細微的缺陷，在區(qū)域圖像 內(nèi)作為光強度分布的異常被明顯地表現(xiàn)。因此，就算不實施個別測定各單 位圖案53的尺寸或坐標的檢查(微觀檢査)，通過觀察區(qū)域圖像內(nèi)的光 強度分布的異常，就能夠檢查重復圖案56的缺陷。而且，如果對包含多 個單位圖案53的微觀區(qū)域(即一邊為10mm 50mm的正方形或長方形的 檢查視野)進行所述檢查，可以縮短光掩模50的檢查時間，使生產(chǎn)率提 咼°例如，在高清TV用的顯示器件用基板(42V型、面積約為0.5m2)的制造中使用的光掩模50具有1920 (垂直)X 1080 (水平)=2， 073， 600個單位圖案53。此處，如果用激光測長儀或顯微鏡等要對所有的單位 圖案53的尺寸或坐標進行微觀檢査，在設(shè)每個單位圖案所需的測定時間 為約10秒的情況下，大約需要240天。相對于此，根據(jù)本實施方式，例 如微觀檢査的視野為一邊25mm (但是，估計與鄰接視野的重復為1成)， 設(shè)一個視野的檢査時間(即，上述的S1 S3的執(zhí)行時間)為2.5秒左右， 用40多分鐘的檢査時間就能夠完成檢査。g卩，可以大幅度縮短光掩模50 的檢査時間，大幅度提高光掩模50的生產(chǎn)率。[2]根據(jù)本實施方式，在入射光的波長人為380nm 780nm、入射角9i 為30° 60°、受光角0r實質(zhì)為90。的情況下，通過使單位圖案53的間距d 為l|im 8|im，能夠用攝像裝置14明顯地觀察到缺陷引起的光強度異常。 此時，能夠接收次數(shù)的絕對值為1 10的衍射光，由于次數(shù)的絕對值為l IO的衍射光的光量多，可以得到明亮的區(qū)域圖像，因此能夠高可靠性地檢 測出表示缺陷存在的光強度分布的變動(異常)。[3]根據(jù)本實施方式，圖像解析裝置16通過對區(qū)域圖像的光強度分布 進行了數(shù)值化后的數(shù)值數(shù)據(jù)與基于無缺陷情況的區(qū)域圖像的數(shù)值數(shù)據(jù)進 行定量比較，由此檢測光強度分布的異常(缺陷)。即，通過將光強度分 布數(shù)值化而進行定量解析，可以不依賴于操作者的目視印象，而能夠客觀 地檢測出有無缺陷。由此，檢查結(jié)果的偏差得到抑制，可以提高檢查的可 靠性。[4]根據(jù)本實施方式，對區(qū)域圖像進行微分，生成強調(diào)光強度分布變 化的微分圖像，通過將該微分圖像的光強度變化分布進行數(shù)值化后的數(shù)值 數(shù)據(jù)與對無缺陷情況的區(qū)域圖像進行微分而得到的數(shù)值數(shù)據(jù)進行定量比 較，能夠進一步提高光強度分布的異常(缺陷)的檢測精度。〈B〉本發(fā)明的其他實施方式接著，說明本發(fā)明的其他實施方式。如上所述，優(yōu)選使入射光的波長X為380nm 780nm、入射角9i為 30° 60°、受光角0r實質(zhì)為90。。而且，此時通過使單位圖案53的間距d 為1(im 8^im，能夠明確區(qū)別起因于缺陷的信息以及起因于無缺陷的重復 圖案的信息。但是，單位圖案53的間距d是根據(jù)被檢查體的用途及規(guī)格等決定的，實際中單位圖案53的間距d有超過8pm的情況。此處，在單位圖案53的間距d大時，鄰接的衍射光彼此的衍射角之差Ae變小。因此，在波長x、入射角ei、受光角er、間距d為上述條件時，在攝像裝置14處接收的衍射光的次數(shù)的絕對值，要遠遠大于1 10。由于 這樣的高次衍射光的光量少，所以區(qū)域圖像變暗，有時難以高可靠性地檢 測出表示缺陷存在的光強度分布的變動(異常)。但是，在單位圖案53的間距d超過8pm的情況下，通過在重復圖案 56以外的區(qū)域上與重復圖案56同時描繪，形成以與單位圖案53不同的間 距并周期性排列測試用單位圖案的測試用圖案56t，同時通過使測試用單 位圖案53t的間距d為lpm ^m，能夠解決上述問題。另外，本發(fā)明的 測試用圖案的間距不到1^m也沒關(guān)系，但是出于確保測試圖案的描繪精度 的目的，以及防止描繪數(shù)據(jù)的容量過大的目的，優(yōu)選liim以上的間距。尤 其對于后者做一下說明，由于本發(fā)明的被檢査體是一邊為300mm以上、 效果更高的達到一邊為lm以上的大型被檢查體，因此抑制描繪容量的意 義十分重大。以下，按順序說明有關(guān)本實施方式的(1)作為被檢査體的光掩模的 構(gòu)成，(2)圖案缺陷檢查裝置的構(gòu)成，(3)有關(guān)本實施方式的圖案缺陷 檢查方法。(1)光掩模的構(gòu)成作為有關(guān)本實施方式的被檢查體的光掩模，如圖8所示，在作為透明 支承體的透明基板57的主表面上，具有與重復圖案56同時形成的薄膜(遮 光膜)構(gòu)成的測試用圖案56t，這一點與上述實施方式不同。測試用圖案 56t設(shè)于重復圖案56以外的區(qū)域，例如，透明基板57的主表面上的重復 圖案56的周圍等。還有，測試用圖案56t的形狀，例如是格子狀的測試用單位圖案53t 被周期性排列的形狀。此處，測試用單位圖案53t的間距d可以與單位圖 案53的間距d獨立決定，例如可以構(gòu)成為lnm 8pm。并且，測試用圖 案56t的形狀不僅限于格子狀，也可以形成線與空間形狀等，或其他形狀 的重復圖案。此處，測試用圖案56t的描繪，與重復圖案56的描繪同時進行。艮P,對于在透明基板57上形成的抗蝕劑膜，利用同一描繪機，連續(xù)描繪測試用圖案56t和重復圖案56。因此，在由于描繪機的掃描異常等而在重復圖 案56產(chǎn)生缺陷時，測試用圖案56t也會產(chǎn)生相同的缺陷。 其他構(gòu)成與上述實施方式的光掩模相同。(2) 圖案缺陷檢查裝置的構(gòu)成接著，對于有關(guān)本發(fā)明其他實施方式的圖案缺陷檢查裝置10的構(gòu)成 例進行說明。本實施方式中的作為照明裝置的光源裝置12構(gòu)成為，向保持于工作 臺11的光掩模50的測試用圖案56t以規(guī)定的入射角照射光，產(chǎn)生衍射光， 這一點與上述實施方式所述的圖案缺陷檢查裝置10不同。另外，本實施 方式中的作為受光裝置的攝像裝置14構(gòu)成為，接收來自測試用圖案56t 的衍射光，使其成像，這一點與上述實施方式所述的圖案缺陷檢查裝置IO 不同。另外，本實施方式中的作為解析裝置的圖像解析裝置16構(gòu)成為， 通過觀察使來自測試用圖案56t的衍射光成像的像(攝像裝置14接收并使 其成像的區(qū)域圖像)，能夠間接檢測出在重復圖案56有無產(chǎn)生缺陷，這 一點與上述實施方式所述的圖案缺陷檢査裝置IO不同。其他構(gòu)成與上述實施方式所述的圖案缺陷檢查裝置IO相同。(3) 圖案缺陷檢査方法接著，對于有關(guān)本發(fā)明的一個實施方式的圖案缺陷檢查方法進行說 明。本圖案缺陷檢査方法通過上述圖案缺陷檢查裝置實施。首先，在重復圖案56以外的區(qū)域，與重復圖案56同時描繪形成上述 測試用圖案56t。接著，將具備重復圖案56以及測試用圖案56t的光掩模50保持在圖 案檢査裝置的工作臺11上。然后，利用光源裝置12，對于測試用圖案56t的主平面，從斜下方以入射角ei照射光。接著，利用攝像裝置14接收來自測試用圖案56t的衍射光并使其成像。 即，利用受光光學系統(tǒng)14b接收來自測試用圖案56t的衍射光，使其向區(qū) 域相機14a的受光面上成像，得到區(qū)域圖像。接著，圖像解析裝置16接收測試用圖案56t的區(qū)域圖像的圖像數(shù)據(jù)， 對區(qū)域圖像的光強度分布進行微分，生成強調(diào)其變化的微分圖像，通過觀察光強度分布的變化(異常)，檢測在重復圖案56有無產(chǎn)生缺陷。 其他構(gòu)成與上述實施方式所述的圖案缺陷檢查方法相同。 (4)本實施方式的效果根據(jù)本實施方式，除了取得上述本發(fā)明的一個實施方式中的[1] [4]效果以外，還起到以下效果。[5]根據(jù)本實施方式，就算在單位圖案53的間距d超過8pm的情況 下，也能利用衍射光在短時間內(nèi)高可靠性地檢測在重復圖案56產(chǎn)生的缺 陷。即，根據(jù)本實施方式，對以與單位圖案53不同的間距周期性排列了 測試用單位圖案的測試用圖案56t，在重復圖案56以外的區(qū)域，與重復圖 案56同時進行描繪。在重復圖案56產(chǎn)生缺陷時，由于同時描繪的測試用 圖案56t也產(chǎn)生缺陷，因此可以通過檢查測試用圖案56t間接檢查重復圖 案56。[6]根據(jù)本實施方式，測試用單位圖案53t的間距d，可以獨立于單位 圖案53的間距d來決定，可以是lpm 8^im。因此，在使入射光的波長人 為380nm 780nm、入射角9i為30° 60°、受光角9r實質(zhì)為90°時，能夠 利用攝像裝置14接收次數(shù)的絕對值是1 10的衍射光。因此，可以得到 明亮的區(qū)域圖像，能夠清楚、高可靠性地檢測出表示缺陷存在的光強度分 布的變動(異常)。[實施例]以下，關(guān)于本發(fā)明的實施例，與比較例進行對比說明。在參照圖中， 圖7 (a)是摘要了有關(guān)本發(fā)明的實施例以及比較例的缺陷檢測能力的坐標 圖，圖7 (b)是間距d為4(im時(實施例1)的光強度變化率分布的坐標 圖，圖7 (c)是間距d為8pm時(實施例2)的光強度變化率分布的坐標 圖，圖7 (d)是間距d為12pm時(比較例l)的光強度變化率分布的坐 標圖，圖7 (e)是間距d為20pm時(比較例2)的光強度變化率分布的 坐標圖。首先，作為實施例1，設(shè)單位圖案53的間距d為4pm。準備光掩模 50作為被檢查體，光掩模50具備故意使其排列中的一列產(chǎn)生線寬增大 10nm左右的缺陷的重復圖案56，。然后，通過光源裝置12，將波長人為 546nm的光相對于重復圖案56'以45°入射角進行照射。然后，通過在受光角6r為90。的方向上設(shè)置的攝像裝置14，得到次數(shù)絕對值相當于5的衍射光的區(qū)域圖像，之后生成微分圖像，將其光強度變化分布數(shù)值化，表示在坐標圖中。其結(jié)果如圖7 (b)所示，表示缺陷存在的光強度分布的異 常(脈沖狀的峰值)，S/N比很容易(1.7以上)被分辨。接著，作為實施例2，設(shè)單位圖案53的間距d為8pm。然后，相對于 重復圖案56'以45°入射角0i照射。然后，通過攝像裝置14得到次數(shù)絕對 值相當于10的衍射光的區(qū)域圖像，之后生成微分圖像，將其光強度變化 分布數(shù)值化，表示在坐標圖中。其結(jié)果如圖7 (c)所示，表示缺陷存在的 光強度分布的異常(脈沖狀的峰值)，S/N比很容易(1.5以上)被分辨。接著，作為比較例1，設(shè)單位圖案53的間距d為12pm。然后，相對 于重復圖案56，以45°入射角0i照射。然后，通過攝像裝置14得到次數(shù)絕 對值相當于15的衍射光的區(qū)域圖像，之后生成微分圖像，將其光強度變 化分布數(shù)值化，表示在坐標圖中。其結(jié)果如圖7 (d)所示，表示缺陷存在 的光強度分布的異常(脈沖狀的峰值)，難于清楚確認S/N比(S/N比不 到1.1)。接著，作為比較例2，設(shè)單位圖案53的間距d為20pm。然后，相對 于重復圖案56'以45°入射角0i照射。然后，通過攝像裝置14得到次數(shù)絕 對值相當于25的衍射光的區(qū)域圖像，之后生成微分圖像，將其光強度變 化分布數(shù)值化，表示在坐標圖中。其結(jié)果如圖7 (e)所示，難以確認(S/N 比不到O.Ol)表示缺陷存在的光強度分布的異常(脈沖狀的峰值)。
權(quán)利要求
1.一種圖案缺陷檢查方法，所述缺陷是在具備單位圖案被周期性排列的重復圖案的被檢查體的所述重復圖案產(chǎn)生的缺陷，所述圖案缺陷檢查方法對在具有規(guī)則性的多個所述單位圖案產(chǎn)生的或在一定區(qū)域的鄰接的多個單位圖案產(chǎn)生的缺陷進行檢查，其特征在于，其具備以規(guī)定的入射角將光照射向所述重復圖案，產(chǎn)生衍射光的工序；接收來自所述重復圖案的衍射光并使其成像的工序；以及通過觀察使所述衍射光成像后的像，對在所述重復圖案產(chǎn)生的所述缺陷引起的信號與所述重復圖案的信號進行識別而檢測出所述缺陷引起的信號的工序，所述單位圖案的排列間距為1μm～8μm。
2. 如權(quán)利要求l所述的圖案缺陷檢査方法，其特征在于， 在接收所述衍射光并使其成像的工序中，選擇接收來自所述重復圖案的衍射光中的次數(shù)的絕對值為1 10的衍射光。
3. 如權(quán)利要求l所述的圖案缺陷檢査方法，其特征在于， 向所述重復圖案照射的光的波長為380nm至780nm。
4. 如權(quán)利要求l所述的圖案缺陷檢査方法，其特征在于， 來自所述重復圖案的衍射光的接收是以相對于所述重復圖案的主面呈90。的受光角進行的。
5. 如權(quán)利要求l所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于， 向所述重復圖案的光的照射是以相對于所述重復圖案的主面呈30° 60。的入射角進行的。
6. 如權(quán)利要求l所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于， 所述被檢查體具備透明性基板，所述重復圖案在所述透明性基板的主面上由遮光性材料或半遮光性 材料構(gòu)成。
7. 如權(quán)利要求6所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于，所述重復圖案是測試用圖案，其與具有和該重復圖案以不同周期排列 的重復圖案的主圖案被同時描繪在所述透明基板上。
8. —種圖案缺陷檢査方法，其檢查具備單位圖案被周期性排列的重 復圖案的被檢査體的、在所述重復圖案產(chǎn)生的缺陷，其特征在于，具備以規(guī)定的入射角將光照射向所述重復屈案，產(chǎn)生衍射光的工序； 接收來自所述重復圖案的衍射光并使其成像的工序；以及通過觀察使所述衍射光成像后的像，檢測出在所述重復圖案產(chǎn)生 的缺陷的工序，在接收所述衍射光并使其成像的工序中，選擇接收來自所述重復圖案的衍射光中的次數(shù)的絕對值為1 10的衍射光。
9. 一種圖案缺陷檢査方法，其檢查具備單位圖案被周期性排列的重復圖案的被檢査體的、在所述重復圖案產(chǎn)生的缺陷，其特征在于，具備通過在所述重復圖案以外的區(qū)域與所述重復圖案同時描繪，形成以與 所述單位圖案不同的間距周期性排列了測試用單位圖案的測試用圖案的工序；以規(guī)定的入射角將光照射向所述測試用圖案，產(chǎn)生衍射光的工序； 接收來自所述測試用圖案的衍射光并使其成像的工序； 以及通過觀察使所述衍射光成像后的像，檢測出在所述重復圖案產(chǎn)生 的缺陷的工序，其中，所述測試用單位圖案的排列間距為1(am 8pm。
10. 如權(quán)利要求9所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于， 在接收所述衍射光并使其成像的工序中，選擇接收來自所述測試用圖案的衍射光中的次數(shù)的絕對值為1 10的衍射光。
11. 如權(quán)利要求9或IO所述的圖案缺陷檢査方法，其特征在于， 向所述測試用圖案照射的光的波長為380nm至780nm。
12. 如權(quán)利要求9所述的圖案缺陷檢査方法，其特征在于， 來自所述測試用圖案的衍射光的接收是以相對于所述測試用圖案的主面呈90。的受光角進行的。
13. 如權(quán)利要求9至12中的任意一項所述的圖案缺陷檢査方法，其 特征在于，向所述測試用圖案的光的照射是以相對于所述測試用圖案的主面呈30。 60。的入射角進行的。
14. 如權(quán)利要求9所述的圖案缺陷檢査方法，其特征在于， 所述被檢查體具備透明性基板，所述重復圖案以及所述測試用圖案在所述透明性基板的主面上由遮 光性材料或半遮光性材料構(gòu)成。
15. 如權(quán)利要求l所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于， 所述衍射光是由照射在所述重復圖案上的光的反射光引起的衍射光。
16. 如權(quán)利要求l所述的圖案缺陷檢查方法，其特征在于， 所述被檢查體是對365nm 436nm的波長范圍內(nèi)的規(guī)定波長范圍的光進行曝光的光掩模。
17. 如權(quán)利要求16所述的圖案缺陷檢査方法，其特征在于， 所述光掩模是液晶顯示裝置制造用的光掩模。
18. —種光掩模的制造方法，其特征在于，具有利用權(quán)利要求1至權(quán)利要求17中的任意一項所述的圖案缺陷檢 查方法檢査缺陷的工序。
19. 一種光掩模的制造方法，其特征在于，具有利用權(quán)利要求1至權(quán)利要求17中的任意一項所述的圖案缺陷檢 查方法檢查缺陷，并根據(jù)所述檢査的結(jié)果對描繪所述重復圖案的描繪機的 描繪精度進行評價的工序。
20. —種圖案轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，在利用權(quán)利要求18所述的光掩模的制造方法制造的光掩模上，對 365nm 436nm的波長范圍內(nèi)的規(guī)定波長范圍的光進行曝光，將在所述光 掩模上形成的圖案轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上。
21. —種圖案轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，在利用權(quán)利要求19所述的光掩模的制造方法制造的光掩模上，對 365nm 436nm的波長范圍內(nèi)的規(guī)定波長范圍的光進行曝光，將在所述光 掩模上形成的圖案轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上。
全文摘要
提供一種圖案缺陷檢查方法，對具備單位圖案被周期性排列的重復圖案的被檢查體的，在重復圖案產(chǎn)生的缺陷進行檢查，其中，其具備以規(guī)定的入射角將光照射向重復圖案，產(chǎn)生衍射光的工序；接收來自重復圖案的衍射光并使其成像的工序；以及通過觀察使衍射光成像后的像，檢測出在重復圖案產(chǎn)生的缺陷的工序，單位圖案的排列間距為1μm～8μm。
文檔編號G01N21/956GK101275920SQ20081008658
公開日2008年10月1日 申請日期2008年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月30日
發(fā)明者山口升 申請人:Hoya株式會社