專利名稱：用于防止在微陣列掃描中的過分曝光和光泄漏的掩模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于諸如核酸和蛋白質(zhì)之類生物類微陣列的掃描系統(tǒng)，并且主要 涉及用于任何類型的流程的照明系統(tǒng)，其中這些流程包含以空間陣列所排列的大 量位置的單獨(dú)和順序的照明。
背景技術(shù)：
微陣列是進(jìn)行化學(xué)和生物化學(xué)化驗(yàn)的位置的兩維陣列， 一般來說，各個位置 都具有可進(jìn)行單獨(dú)化驗(yàn)的顯微鏡可見的尺寸并且在各個位置通常會有不同的分子 種類。微陣列可以形成在各種不同的基板上，包括，玻璃片、微滴度板以及隔膜。 微陣列通常用于例如識別、確定未知生物類中的結(jié)合密切關(guān)系或者其基本特性的 結(jié)合化驗(yàn)。在微陣列中的位置尺寸、數(shù)量和間距會有顯著的變化。當(dāng)位置是在標(biāo)準(zhǔn)微滴度板中的阱，則阱以12X8的陣列排列，總共有96個，在阱之間的間距是 9mm。當(dāng)位置是涂覆在玻璃片上的點(diǎn)，玻璃片的典型寬度是25mm，則可以采用自 動微印刷技術(shù)，位置的數(shù)量可以達(dá)到數(shù)千個。對于基因化驗(yàn)而言，則單個玻璃片 一般將包含多達(dá)10,000個基因。用于各個化驗(yàn)的監(jiān)測和檢測目的的微陣列成像是通過掃描來實(shí)現(xiàn)的，并且在 許多方法中，掃描過程包括微陣列的各個位置采用激發(fā)的光進(jìn)行照明。為了完成 這一步驟，掃描儀的頭在微陣列上往返移動，每一進(jìn)程都具有速度輪廓，該速度 輪廓包括在每一進(jìn)程結(jié)束和在方向反轉(zhuǎn)之前的減速，緊跟著在方向反轉(zhuǎn)之后的加 速使得頭維持適合于下一進(jìn)程的速度。激發(fā)一般是采用激光來實(shí)現(xiàn)的，激光可以 作為一個穩(wěn)定光源，較佳的是在掃描的整個過程中都是點(diǎn)亮著的。如果微陣列的 位置延伸到掃描儀的頭行進(jìn)路徑的端點(diǎn)，則連續(xù)的激光光束就會使得一些位置接 受到比其它位置更大的曝光。這會導(dǎo)致這些位置容物的過分曝光或者光致漂白。 另外，無論激光光速在每一進(jìn)程的端點(diǎn)是連續(xù)還是關(guān)閉，當(dāng)激光聚焦在任何單個 阱時，都會發(fā)生一定程度的光通過擴(kuò)散、反射或者衍射中的任一方式泄漏到相鄰 的阱中。光泄漏的這一屬性可以發(fā)生在各行之間以及在一行中，特別是當(dāng)掃描儀的頭的行進(jìn)路徑超出行的寬度時。當(dāng)單一進(jìn)程僅僅只覆蓋一行中的一部分時，也 會發(fā)生光泄漏，會泄漏到?jīng)]有被掃描的行的那部分。在所有的情況下，泄漏都會 引起不希望的過分曝光或者在掃描信號中產(chǎn)生背景噪聲，或者兩者兼之。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中的這些或者其它限制，適用于微陣列掃描照明系統(tǒng)， 該系統(tǒng)包括樣品支架、往返移動掃描頭，以及定位置樣品支架和掃描頭之間的掩 模，該掩模阻止所有從掃描頭不是通過掩模中的窗口到達(dá)樣品支架的光，這樣僅 僅只曝光在一個單次進(jìn)程或者一系列并行回返中所需掃描的位置，將沿著一個單 個行的掃描方向定義為X軸，在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，平行于X軸的窗口寬度 足以曝光一行中的多個但不是所有的樣品位置，并且在長度上小于掃描頭往返移 動的單次進(jìn)程中的掃描頭的行進(jìn)路徑。采用適當(dāng)尺寸和定位的掩模，就能在掃描 頭反轉(zhuǎn)方向而減速或加速的行進(jìn)路徑的兩端，阻止來自掃描頭的光并因此防止到 達(dá)微陣列。同樣，在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，掩模的尺寸和定位也能曝光在微陣 列位置中的僅僅一行，或者僅僅一行中的一部分，從而防止光泄漏到相鄰的行。 當(dāng)掃描頭在一次進(jìn)程中僅僅只通過一行中的一部分并且在完成整行掃描的成像處 理的后續(xù)階段中將移動到該行的其它部分或者剩余部分時，掩模特別有用。 一般 來說，本發(fā)明適用于將掩模用于防止沒被掃描位置的不需要照明或者防止由于掃 描頭往返移動的端點(diǎn)效應(yīng)而產(chǎn)生位置的非均勻曝光，或者防止兩者。在所有的情 況下，掩模都可以相對于微陣列移動，或者反之亦然，從而使得不同組的位置根 據(jù)需要曝光于掃描頭，從而提供微陣列的完整掃描。本發(fā)明的上述以及其它目的、性能、優(yōu)點(diǎn)和實(shí)施例將通過以下描述而變得更 加清晰。


圖1是圖示說明根據(jù)本發(fā)明的微陣列掃描系統(tǒng)的側(cè)面示意圖。 圖2是微陣列和掩模的圖示說明，用于說明本發(fā)明的方法。圖3是用于說明本發(fā)明方法的微陣列和掩模的其它圖示說明。
具體實(shí)施方式
本文將掃描過程中光源所照明的微陣列位置的順序稱之為掃描協(xié)議，并且在往返的過程中是由掃描頭的每一進(jìn)程的長度所決定的(其中掃描頭到光源的長度 是固定的)，例如，掃描頭的背后往前面的移動，其中還結(jié)合了使得掃描頭能夠 對準(zhǔn)在微陣列上的下一行樣品位置的微陣列增量移動以及掃描頭、掩模和完成整 個微陣列掃描所需要的微陣列的所有其它移動。當(dāng)各個協(xié)議能夠根據(jù)微陣列的結(jié) 構(gòu)和尺寸而變化時，所有協(xié)議都包含掃描頭沿著X軸對微陣列各行的往返移動。 當(dāng)均勻的掃描頭速度能夠沿著行進(jìn)路徑在樣品位置之間提供最為均勻的照明分布 時，并不能獲得絕對的均勻性。另外，因?yàn)閽呙桀^的驅(qū)動器必須在它行進(jìn)路徑的 各個端點(diǎn)反轉(zhuǎn)掃描頭的方向，往返的掃描頭會在各個進(jìn)程的各個端點(diǎn)處經(jīng)歷減速 和隨后以相反方向的加速。用于掃描頭的典型驅(qū)動器是運(yùn)動線圈致動器，這是利 用了眾所周知的交流電流通過在磁場中的電氣線圈所產(chǎn)生的勞倫茲力。運(yùn)動線圈 致動器也稱之為音頻線圈致動器，并且目前所使用的這些致動器的實(shí)例是由BEI技術(shù)公司的Kimco Magnetics分部(Kimco Magnetics Divison of BEI Technoloies. Inc., San Marcos, California, USA)和H2W技術(shù)公司(H2W Technologies Inc., Valencia, California, USA)所提供的。音頻線圈致動器的披露可以在專利號 6,894,408、 6,870,285、 6,815,846和6,878,943的美國專利中發(fā)現(xiàn)。Paul J.Patt等人 發(fā)明的、2005年11月1日申請、共同擁有待審批美國專利申請?zhí)?1/265,000、題 為"適用于往返移動且具有可控制力分布的運(yùn)動線圈致動器(Moving Coil Actuator for Reciprocating Motion With Controlled Force Distribution)"禾卩Daniel Y.Chu發(fā)明 的、2005年11月30申請、共同擁有待審批的美國專利申請?zhí)?1/291,423、題為 "具有運(yùn)動的擴(kuò)展范圍的運(yùn)動線圈致動器(Moving Coil Actuator with Expandable Range of Motion)"的美國專利討論了其它音頻線圈致動器。這些文件的內(nèi)容通過 引用合并與此。在結(jié)合了這些致動器的掃描系統(tǒng)中，掃描頭的移動是由線圈自身 響應(yīng)電磁力的運(yùn)動所引起的。當(dāng)線圈的行進(jìn)路徑上的速度輪廓隨著電勢的幅度、 線圈的結(jié)構(gòu)、以及線圈和磁鐵的尺寸和相對位置而變化時，正如以上所提及的那 樣，所有這些線圈的輪廓包括在各行的行進(jìn)限制處的減速和加速。掃描頭在往返移動的一個進(jìn)程中的行進(jìn)路徑如圖1所示，其中，顯示了微陣 列l(wèi)l定位在掃描頭12和聚焦透鏡13 (這是掃描單元的部件)之下并且由掃描頭 行進(jìn)。為了便于理解，部件并沒有根據(jù)比例來畫且放大了它們之間的間隔。在這 種情況下，微陣列11可以由已經(jīng)被翻轉(zhuǎn)過來的多阱板所表示，以及所要照明的位 置是己經(jīng)沉積在各個阱中的分析物并且在翻轉(zhuǎn)之前變成為粘結(jié)著阱的透明玻璃的 底部。這通過玻璃照明的板的翻轉(zhuǎn)允許掃描頭透鏡13使用較短的聚焦長度，例如，7小于1.7mm，并且當(dāng)掃描頭和透鏡行進(jìn)整個進(jìn)程時可以十分接近各個位置。掃描 頭12和透鏡13安裝了運(yùn)動線圈致動器14，該運(yùn)動線圈致動器作為用于掃描單元 驅(qū)動器的典型實(shí)例。致動器驅(qū)動掃描頭12和透鏡13沿著箭頭15、 16所指示的x 軸進(jìn)行往返移動，正如在行進(jìn)路徑中的多點(diǎn)上的實(shí)線以及在行進(jìn)路徑的兩個極點(diǎn) 17、 18上的虛線所顯示。掃描頭和透鏡的速度輪廓19和加速輪廓20直接顯示在 致動器上，各個輪廓的水平軸表示沿著行進(jìn)路徑的距離且與掃描頭122的行進(jìn)范 圍相一致。(輪廓也就相似)正如速度輪廓19所表示的，在掃描頭軌跡的各個端 點(diǎn)21、 22部分中，速度的范圍從零達(dá)到目標(biāo)速度，并且在兩端點(diǎn)部分之間速度保 持在目標(biāo)水平上的相對常數(shù)。在加速的輪廓20中，左邊往右邊的行進(jìn)是由實(shí)線所 表示，在軌跡的左邊端點(diǎn)21上進(jìn)行正的加速，而在右邊端點(diǎn)22上進(jìn)行負(fù)的加速 (即，減速)。由虛線來表示反轉(zhuǎn)方向的行進(jìn)(右邊往左邊)，這包括在右邊端 點(diǎn)22上的正的加速和在左邊端點(diǎn)21上的負(fù)的加速。掩模23定位在掃描頭12和微陣列11之間，并且較佳的是在掃描頭12和聚 焦透鏡13之間，以便于獲得透鏡短聚焦長度的最大優(yōu)點(diǎn)。掩模具有一個在掃描頭 軌跡的兩個端點(diǎn)21、 22之間為中的窗口或開孔24。在這一實(shí)施例中，窗口的寬度 接近等于速度為目標(biāo)數(shù)值時的軌跡中心部分的寬度。因此，掃描頭12和透鏡13 僅僅只在掃描頭和透鏡以目標(biāo)速度移動時對準(zhǔn)窗口 24，并且沒有被掩模24所阻止 的微陣列的所有位置都可從掃描頭和透鏡以相同速度通過各個位置開始被均勻照 明且持續(xù)均勻的時間。于是，掩模消除了掃描頭行進(jìn)在減速和加速部分的過程中 所發(fā)生的過分曝光。在沿著各行內(nèi)的x軸往返移動時，就可以通過在沿著x軸的進(jìn)程之間沿著y 軸的遞增來獲得不同行的依次掃描。y軸的遞增是通過微陣列或掃描頭中的任一 個、致動器和掩模的移動來實(shí)現(xiàn)的。當(dāng)掃描輪廓變化時，典型的和較佳的輪廓是 沿著x軸以單一方向掃描一行中的位置開始，接著微陣列或者掃描頭沿著y軸遞 增到下一個相鄰行，隨后沿著x軸以與第一行掃描的相反的方向掃描新的一行中 的位置。于是，行的掃描可沿著x軸且采用在各個x軸掃描之間沿著y軸遞增的 方式以交替的方向來進(jìn)行。對于這一掃描協(xié)議而言，掩模窗口 24可以正好大到足 以曝光僅僅只在一行中的位置，且需要掩模和掃描儀在各個單一行掃描之間一起 沿著y軸移動。另外，掩模窗口24可以大些，足以使得兩個或者多個相鄰行的位 置可以同時曝光，在這種情況下，掩模僅僅只需要在窗口已經(jīng)掃描的所有行都曝 光之后才移動。當(dāng)在加速和減速過程中掃描頭的阻止消除了過分曝光時，根據(jù)本發(fā)明的掩模 也能夠減小或者消除光在指定進(jìn)程中對沒有掃描位置的泄漏。在對指定的行進(jìn)行 掃描時，會在相鄰行中出現(xiàn)光泄漏；當(dāng)僅僅只對行中的一部分進(jìn)行掃描時，也會 出現(xiàn)這種光泄漏。圖2和圖3圖示說明了根據(jù)本發(fā)明的掩模23定位在微陣列11之 上。在各圖中也顯示了掃描頭12，但是為了簡化說明卻省略了透鏡。透鏡與掃描 頭一起行進(jìn)且兩者一起連接著致動器的運(yùn)動線圈。另外，透鏡通過沿著掩模開孔 或者圍繞著掩模周邊所延伸的連接部分連接著掃描頭。正如以上所討論的，微陣 列l(wèi)l可以駐留在玻璃片、多阱化驗(yàn)板、隔膜或者其它等等上。圖2和圖3所顯示 的微陣列是以位置16X16的陣列作為實(shí)例來表示的。
在圖2和圖3所示的視圖中，在微陣列中的"行"是水平的，而"列"是垂 直的。掩模窗口 24曝光一行中的一部分，特別是在一行中的16個位置中的8個 位置。在圖2中，所要掃描的位置31是掩模所曝光過的這些位置，并且掩模防止 光泄漏到?jīng)]有被掃描的相鄰行中的位置32和同一行中的位置33。沿著x軸所進(jìn)行 的掃描由箭頭34來指示。在該實(shí)例中的逐行遞增是通過微陣列相對于掩模23和 掃描部件沿著y軸的遞增移動來實(shí)現(xiàn)的，正如箭頭35和36所指示。在各行中的 其余8個位置的掃描時通過移動掩模和掃描單元來實(shí)現(xiàn)的，包括以相對于微陣列 的x方向移動掃描頭、透鏡和致動器，或者通過微陣列相對于掃描單元的移動， 來獲得圖3所示的相對位置。對于不是掃描頭的往返移動之外的所有移動來說， 步進(jìn)電機(jī)、直流電機(jī)和其它常規(guī)的電機(jī)都可以用于移動這些部件，例如，圖2所 示的箭頭35、 36所指示的移動和獲得沿著在圖2和圖3所示位置之間x軸的移動 的運(yùn)動。 一旦這些部件都處于圖3所示的位置，就可以進(jìn)行如同聯(lián)系圖2所討論 的掃描。
在這些各個實(shí)施例中的掩模是由業(yè)內(nèi)熟練技術(shù)人士所熟知的常規(guī)材料制成。 可以使用不透射或者不反射光的任何材料，并且窗口可以是開孔(即，空的)也 可以是透明的材料。掩?？梢岳喂痰毓潭ㄖ鴴呙栩?qū)動器使得兩者一起移動，同時 允許掃描頭和透鏡能相對于掩模移動。另外，掩模也能夠單獨(dú)移動。
正如以上所討論的那樣，運(yùn)動線圈致動器作為掃描頭的驅(qū)動器是較佳的。特 別引人關(guān)注的是如圖2和圖3所說明的那樣具有能夠掃描部分行的相對較短掃描 距離的掃描系統(tǒng)，因?yàn)檫@些系統(tǒng)由于其部件的小尺寸和輕重量所產(chǎn)生的經(jīng)濟(jì)優(yōu)點(diǎn) 被在各個進(jìn)程端點(diǎn)出的過分曝光以及光泄漏到進(jìn)程端點(diǎn)之外位置的缺點(diǎn)所抵消。 將運(yùn)動線圈致動器設(shè)計成采用短掃描方式工作同時又可在微陣列的不同部分中移
9動的一個實(shí)例在Daniel Y.Chu發(fā)明的、2005年11月30申請、共同擁有待審批的 美國專利申請?zhí)?1/291，423、題為"具有運(yùn)動的擴(kuò)展范圍的運(yùn)動線圈致動器(Moving Coil Actuator with Expandable Range of Motion )"的美國專利中進(jìn)行了披露，其內(nèi)
容通過引用而合并與此。Chu申請的致動器包含移動線圈運(yùn)動范圍的可移動磁鐵組 件。 一般來說，在運(yùn)動線圈致動器中，Chu申請的致動器包括成線圈的電導(dǎo)體和磁 鐵組件，且磁鐵組件所具有的磁極采用大到足以容納線圈導(dǎo)體并且允許導(dǎo)體以往 返方式移動的間隙所間隔開。線圈安裝在支架上并且連接著能夠產(chǎn)生以交變方向 流過線圈的電流的電源。磁鐵組件沿著行進(jìn)路徑在兩個或多個位置之間移動，該 行進(jìn)路徑平行于線圈往返運(yùn)動的行進(jìn)路徑。于是，線圈的掃描范圍移動等于在磁 鐵組件的不同位置之間的間隔的距離。線圈和磁鐵組件可以單獨(dú)移動，并且一個 處于工作狀態(tài)而另一個保持固定的狀態(tài)。于是，磁鐵組件可以保持在允許線圈在 微陣列部分上移動同時線圈可以在該部分內(nèi)移動的位置上，隨后再移動到相對于 微陣列的其它部分并且線圈在該部分內(nèi)移動的不同位置上。采用足夠數(shù)量的移動， 就能掃描微陣列的整個寬度。
對于已經(jīng)研究了上述附圖和描述的微陣列掃描的業(yè)內(nèi)熟練技術(shù)人士來說，其 它變型和實(shí)施例都是顯而易見的。例如，除了在掩模、掃描頭和驅(qū)動器的結(jié)構(gòu)和 幾何形狀方面的變型之外，掃描協(xié)議和工作條件的變化都在本發(fā)明的范圍之內(nèi)這 對于熟練的工程師都是顯而易見的。
權(quán)利要求
1. 一種適用于微陣列的掃描照明系統(tǒng)，包括樣品支架，它包括在空間上隔開的、以兩維微陣列方式排列的樣品位置，所述兩維微陣列是由沿x軸具有選定寬度的行以及沿y軸具有選定長度的列所構(gòu)成；包括光源的掃描頭；x軸掃描部件，用于使所述掃描頭沿著平行于所述x軸的行進(jìn)路徑以往返移動的方式相對于所述樣品支架而移動；定位在所述樣品支架和所述掃描頭之間的掩模，所述掩模阻止來自所述光源的光除了通過一個窗口以外就無法到達(dá)所述樣品支架，所述窗口具有平行于所述x軸的寬度，它露出了一行中的多個樣品位置并且在長度上短于所述掃描頭的所述行進(jìn)路徑；以及，移動部件，用于通過(i)使所述掩模相對于所述樣品支架和掃描頭而移動或者(ii)使所述樣品支架和掃描頭相對于所述掩模而移動從而改變通過所述窗口露出的所述樣品位置。
2. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，其特征在于，所述窗口露出了在一行 中的不止一個但小于所有的所述樣品位置，并且所述移動部件是適用于(i)使所 述掩模沿著所述x軸相對于所述樣品支架和掃描頭而移動或者(ii)使所述樣品支 架和掃描頭沿著所述x軸相對于所述掩模而移動的x軸移動部件。
3. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，其特征在于，所述移動部件使所述掩 模沿著所述x軸相對于所述樣品支架和掃描頭而移動。
4. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，其特征在于，所述移動部件使所述樣 品支架和掃描頭沿著所述x軸相對于所述掩模而移動。
5. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，其特征在于，所述窗口具有平行于所 述y軸的長度，它露出了所述行中的僅一行的樣品位置。
6. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，其特征在于，還包括用于使所述樣品支架沿著所述y軸相對于所述掩模和所述掃描頭而移動的部件。
7. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，其特征在于，所述x軸掃描部件使得 所述掃描頭在所述行進(jìn)路徑的多個部分內(nèi)在其每一端處加速和減速，并且當(dāng)所述 掃描頭處于所述多個部分內(nèi)時所述掩模阻止光的通過。
8. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，其特征在于，所述x軸掃描部件是運(yùn) 動線圈致動器。
9. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，其特征在于，所述x軸掃描部件是運(yùn) 動線圈致動器，而所述x軸移動部件是步進(jìn)電機(jī)。
10. 如權(quán)利要求l所述的掃描照明系統(tǒng)，還包括聚焦透鏡，其中，所述掩模 介于所述掃描頭和所述聚焦透鏡之間。
11. 一種適用于掃描在兩維微陣列中的位置陣列的方法，所述兩維微陣列是 由沿x軸具有選定寬度的行和沿y軸具有選定長度的列所構(gòu)成的；所述方法包括(a) 用掃描頭通過掩模來照明所述微陣列，所述掩模用于阻止來自所述掃描 頭的光除了通過一個窗口就無法到達(dá)所述微陣列，所述窗口露出了在一行中的多 個第一位置，同時使掃描頭沿著所述x軸在所述多個位置上沿著超出所述窗口的 寬度的行進(jìn)路徑而移動；以及，(b) 使所述微陣列相對于所述掩模而移動從而通過所述窗口露出所述微陣列 的多個第二位置，并且通過使所述掃描頭沿著x軸移動來照明多個第二位置。
12. 如權(quán)利要求ll所述的方法，其特征在于，所述多個第一位置是在一行中 的不止一個但小于所有的所述位置，其中步驟(b)包括使所述微陣列沿著所述y 軸相對于所述掃描頭而移動從而露出多個第二位置，并且所述方法還包括(C)在選定數(shù)量的行上重復(fù)步驟(b);以及，(d)通過(i)使所述掩模沿著x軸相對于所述微陣列和掃描頭而移動或者(ii) 使所述微陣列和掃描頭沿著x軸相對于所述掩模而移動從而移動通過所述窗口而露出的所述樣品位置。
13. 如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，步驟(d)包括使所述掩模沿 著X軸相對于所述微陣列和掃描頭而移動。
14. 如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，步驟(d)包括使所述微陣列和掃描頭沿著X軸相對于所述掩模而移動。
15. 如權(quán)利要求ll所述的方法，其特征在于，所述窗口具有平行于所述y軸的長度，它露出了所述行中的僅一行的樣品位置。
16. 如權(quán)利要求ll所述的方法，其特征在于，步驟(a)包括在所述行進(jìn)路 徑的多個部分中在其每一端處使所述掃描頭加速和減速，并且當(dāng)所述掃描頭處于 所述多個部分內(nèi)時所述掩模阻止光的通過。
17. 如權(quán)利要求ll所述的方法，其特征在于，所述掃描頭在步驟(a)中的 移動是用運(yùn)動線圈致動器來實(shí)現(xiàn)的。
18. 如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述掃描頭在步驟(a)中的 移動是用運(yùn)動線圈致動器來實(shí)現(xiàn)的，并且所述樣品位置在步驟(b)中的移動是用 步電機(jī)來實(shí)現(xiàn)的。
全文摘要
微陣列的掃描是通過能夠曝光微陣列上的多個但不是所有位置的掩模來實(shí)現(xiàn)的，并且掩?？上鄬τ谖㈥嚵幸苿踊蛘呶㈥嚵锌上鄬τ谘谀Ｒ苿?，或者兩者兼之。掩模作為在掃描頭的行進(jìn)處于待機(jī)、目標(biāo)速度時限制對能夠照明的微陣列上的微陣列位置的照明的部件是十分有用的，它能夠在掃描頭軌跡中的一些掃描頭加速或者減速的點(diǎn)上阻止光在掃描頭和微陣列之間的通過。通過防止光泄漏到與正在掃描的位置相鄰的位置上，掩?？梢允钟行У販p小在微陣列成像中的背景噪聲。
文檔編號G01N21/63GK101507256SQ200680045923
公開日2009年8月12日 申請日期2006年12月4日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月13日
發(fā)明者D·Y·楚 申請人:生物輻射實(shí)驗(yàn)室股份有限公司