專利名稱：分析裝置、該分析裝置中的測光機構的清潔方法和清潔用具的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及在構成為利用測光機構通過光學方法進行試料分析的 分析裝置中，清潔測光機構的技術。
背景技術：
如圖17和圖18所示，分析裝置9構成為在載置臺90的載置部 91上載置試驗片92，將試驗片92輸送到測光機構93，根據(jù)測光機構 93中的測光結果，對試樣進行分析(例如參照專利文獻l)。測光機構 93構成為發(fā)光元件95和受光元件96被保持在盒94中，盒94的下 部開口 97由透明板98塞住。
透明板98是使由發(fā)光元件95發(fā)射的光和在試驗片92的試劑座99 反射的光透過的部分。因此，在透明板98的表面98a有污漬的情況下， 透過透明板98吋，光會被吸收或被反射，因此優(yōu)選頻繁清潔透明板98 的表面98a。
但是，在分析裝置9中，為使受光元件96不接收外部光，將載置 臺90的上面90a和測光機構93的透明板98的表面98a之間的距離設 定得較小，將測光機構93配置在裝置深處的位置。因此，透明板98 的清潔，是通過例如用手電照射測光機構93和載置臺93之間的間隙， 在該間隙中插入在棉花部分含浸有清洗液的棉簽，用棉簽的棉花部分 擦拭透明板98而進行。因此，透明板98的清潔并不是件容易的工作。 此外，由于清潔作業(yè)不容易，有時用戶惰于進行透明板98的清潔作業(yè)。 這種情況下，分析結果的可信度差。并且，由于透明板98配置在深處 部位，且清潔作業(yè)為手工作業(yè)，因此，由于用戶的不同，清潔程度會 產生差異。該差異表現(xiàn)為分析精度的差異。
專利文獻1:日本專利第2561509號公報

發(fā)明內容
本發(fā)明的課題在于在清潔分析裝置的測光機構時，減輕用戶的負 擔并提高分析精度。本發(fā)明的第一方面提供一種分析裝置，具備用于對滴附有試樣的 分析用具的試劑座進行測光的測光機構，和具有用于載置上述分析用 具的載置部的載置臺，其特征在于，清潔用具載置在上述載置臺上， 在上述測光機構中的光的出射面或入射面由上述清潔用具的按壓部按 壓的狀態(tài)下，對上述出射面或上述入射面進行清潔。本發(fā)明的分析裝置優(yōu)選構成為能夠利用清潔用具的按壓部，對 測光機構的出射面或入射面進行擦拭。測光機構例如能夠相對于載置臺進行相對的上下移動。相對于載 置臺的測光機構的相對的上下移動，可以通過僅有測光機構上下移動， 或僅有載置臺上下移動，或測光機構和載置臺兩者上下移動而達到。優(yōu)選，本發(fā)明的分析裝置構成為在載置部載置清潔用具，對上 述出射面或上述入射面進行清潔。此吋的分析裝置優(yōu)選構成為在將 清潔用具載覽在載置部上的狀態(tài)下，使測光機構位于與載置部對應的 位置時，清潔用具的按壓部對上述出射面或上述入射面進行按壓。載置臺構成為例如具備沿該載置臺的移動方向延伸并具有凹部 的導向件。在此情況下，測光機構例如具備與導向件接觸的接觸部， 且接觸部構成為在載置部位于能夠對試劑座測光的位置時，進入凹 部。本發(fā)明的分析裝置優(yōu)選構成為，在將含浸有清洗液的清潔用具的 按壓部按壓在測光機構的出射面或入射面上的狀態(tài)下，能夠使出射面 或入射面升溫。本發(fā)明的分析裝置也可構成為利用己知反射率的基準板對測光 機構的出射面或入射面的污漬程度進行檢查。此時，上述出射面或上 述入射面的污漬檢查優(yōu)選在例如電源導通時，或出射面或入射面清潔 后即刻實施。作為基準板，使用例如在對測光機構的光源的輸出進行 檢査時，被光源發(fā)出的光照射的基準板。本發(fā)明的第二方面，提供分析裝置中的測光機構的清潔方法，用 于在本發(fā)明的第一方面的分析裝置中對上述出射面或上述入射面進行 清潔，其特征在于，包括在上述清潔用具的按壓部含浸有清洗液的狀
態(tài)下，利用上述按壓部對上述出射面或上述入射面進行擦拭的第一步 驟，且還包括下述第二和第三步驟中的至少一個步驟。在此，第二步驟是先于第一步驟實施的，為在按壓測光機構的出 射面或入射而按壓含浸有清洗液的清潔用具的按壓部的狀態(tài)下，對出 射面或入射面進行加熱的步驟；第三步驟是在第一步驟之后實施的， 為利用反射率已知的基準板，確認出射面或入射面的污漬程度的步驟。本發(fā)明的第三方面提供一種清潔用具，其特征在于，用于在分析 裝置中，對測光機構的光的出射面或入射面進行清潔，其中，該分析 裝置具備用于對滴附有試樣的分析用具的試劑座進行測光的測光機 構，和具有用于載置上述分析用具的載置部的載置臺，該清潔工具具 備基材，和由該基材支撐的l個或多個按壓部。基材與例如用于支撐分析用具中的試劑座的基材實質上呈同樣的 形狀，1個或多個按壓部設在例如至少與分析用具中的試劑座對應的位 置。優(yōu)選1個或多個按壓部與分析用具中的試劑座呈同樣的俯視形狀， 且設胃在與試劑座對應的位置。按壓部還優(yōu)選形成的比分析用具的試劑座厚。這種情況下，按壓 部的厚度為例如試劑座的厚度的2 30倍，優(yōu)選為3 20倍。按壓部優(yōu)選構成為還具備彈性及吸水性中的至少一種。在賦予 按壓部彈性的情況下，例如部分或全部的按壓部可由橡膠等非多孔質 材料形成；在賦予按壓部吸水性的情況下，例如部分或全部按壓部可 由棉纖維等吸水性高的材料形成的布、或微纖維(分割糸)等極細纖 維形成的布形成。此外，在賦予按壓部彈性和吸水性的情況下，也可 將具有彈性的材料和具有吸水性的材料組合形成按壓部，或使用發(fā)泡 樹脂(海綿)等多孔質材料形成整個按壓部。按壓部還可以采用在彈性層的表面疊層吸水層的結構。這種情況 下的彈性層例如可由硅橡膠或硅海綿構成；吸水層由例如尼龍或聚酯 的微纖維(極細纖維)形成的布構成，或以聚酯、尼龍或人造絲等樹 脂為原料的無紡布構成，或由例示的樹脂形成的網(wǎng)狀物利用丙烯酸系 等樹脂粘接的無紡布構成。按壓部并不一定要形成座狀，例如也可以形成由多個線條部形成 的刷子狀，或涵蓋比試劑座更廣范圍形成延伸帶狀。


圖1為本發(fā)明的分析裝置一例的整體立體示意圖。圖2為沿圖i的n—n線的剖面圖。圖3為圖i所示分析裝置的載置臺的立體圖。圖4為圖i所示分析裝置中使用的試驗片的整體立體圖。圖5A為圖1所示分析裝置中使用的清潔用具的整體立體圖，圖 5B為其側視圖。圖6為圖1所示分析裝置中的測光機構的整體立體圖。 圖7為圖6所示測光機構的分解立體圖。圖8A為沿圖6的Wla—Wla線的剖面圖，圖8B為沿圖6的Vlllb—Vlllb線的剖面圖。圖9為用于說明圖1所示分析裝置的動作的流程圖。圖IO為用于說明圖l所示分析裝置中的污漬檢査處理的流程圖。圖11為用于說明污漬檢査處理中分析裝置的動作的重要部分的剖而圖。圖12為用于說明圖1所示分析裝置中的清潔處理的流程圖。圖13為用于說明清潔處理中分析裝置的動作的重要部分的剖面圖。圖14為用于說明清潔處理中分析裝置的動作的重要部分的剖面圖。圖15為用于說明圖1所示分析裝置中的分析處理的流程圖。圖16為用于說明分析處理中分析裝置的動作的重要部分的剖面圖。圖17為用于說明現(xiàn)有分析裝置的重要部分的立體圖。 圖18為圖17所示分析裝置的重要部分的剖面圖。符號說明1分析裝置20、 21試驗片(分析用具) 20A、 21A (試驗片的)基材20B、 21B (試驗片的)試劑座 22清潔用具22A (清潔用具的)基材22B (清潔用具的)清潔座(按壓部)22Ba (清潔座的)彈性層22Bb (清潔座的)吸水層4試驗片載置臺(載置臺)41 (試驗片載置臺的)第一槽(載置部)43導向部(導向件)43Bb (導向部的)第二凹部(凹部)45A黑色基準板(基準板)45B白色基準板(基準板)6測光機構62 (測光機構的)輥(接觸部)68 (測光機構的)透明板(具有出射面和入射面的板)具體實施方式
圖1和圖2所示的分析裝置1構成為使用試驗片20、 21進行血液中特定成分的濃度分析，具備筐體3、試驗片載置臺4、分注裝置5和測光機構6?？痼w3用于規(guī)定分析裝置1的外觀形狀，并收容各種部件，具有 開口 30、 31。開口 30是用于容許試驗片載置臺4的一部分突出到筐體3的外部 的開口，設置于筐體3的前面33。該開口 30利用蓋34選擇開放狀態(tài) 或關閉狀態(tài)。能夠選擇在開口30呈開放狀態(tài)時，筐體3的內部與外 部連通，試驗片載置臺4收容在筐體3的內部的狀態(tài)；和試驗片載置 臺4的大部分突出到筐體3的外部的狀態(tài)。在試驗片載置臺4突出到 筐體3的外部的狀態(tài)下，后述的試驗片載置臺4中的第一和多個第二 槽41、 42呈露出狀態(tài)。開口 31是在架35相對于筐體3出入時使用的開口。該開口 31設 置在筐體3的側面36，利用架35選擇開放狀態(tài)或關閉狀態(tài)。在此，架
35不僅用于保持觸頭52和收容試樣和/或清洗液的容器(圖示略)， 還用于收容使用完畢的觸頭52。筐體3上還設置有操作面板37和顯示器38。操作面板37設置有 各種操作按鈕37A，這些操作按鈕37A用于設定測定條件或用于規(guī)定 分析裝置1的動作。顯示器38用于表示測定結果、操作按鈕37A的操 作結果等，或用于進行出錯信息等各種報告。如圖1和圖3所示，試驗片載置臺4不僅用于載置試驗片20、 21， 還用于使試驗片20、 21移動到目標位置，可相對于筐體3沿D1、 D2 方向往復移動。該試驗片載置臺4具有第一槽41、多個(在本實施方 式中為6個)第二槽42、 一對導向部43、傳動部44、黑色和白色基準 板45A、 45B，整體形成為例如黑色。第一槽41用于保持圖4A所示的多成分測定用試驗片20或圖5A 所示的清潔用具22，沿D3、 D4方向延伸形成。如圖4A所示，多成分測定用試驗片20是在基材20A上設置有多 個(本實施方式中為6個)試劑座20B的機構?；?0A呈與第一槽 41對應的形狀，由例如非吸水性或難吸水性的樹脂材料形成。各試劑 座20B分別構成為在紡布、濾紙等吸水性載體上載持有與葡萄糖、 白蛋白、鈣等特定成分反應并顯色的試劑。如圖5A所示，清潔用具22用于對后述的測光機構6的透明板68 (參照圖8B)進行清潔。該清潔用具22在基材22A上設有六個清潔 座22B?；?2A與試驗片20同樣，呈與第一槽41對應的形狀，由 例如非吸水性或難吸水性的樹脂材料形成。各清潔座22B形成于與試 驗片20的試劑座20B對應的位置，其厚度比試劑座20B的厚度大。各 清潔座22B的厚度為例如試劑座20B的厚度的2 30倍，優(yōu)選為3 20倍。這一方面是因為清潔座22B的厚度過小時，不能充分按壓測光 機構6的透明板68 (參照圖8B)，達不到充分的清潔效果，另一方面 是因為清潔座22B的厚度過大時，賦予測光機構6的透明板68 (參照 圖8B)的按壓力增大，會造成透明板68受損，或使清潔座22B (清潔 用具22)難以相對于透明板68移動(擦拭)。清潔座22B由具有彈性和吸水性的材料形成。該清潔座22B既可 以形成一層具有彈性和吸水性的結構，也可以如圖5B所示，形成在具
有彈性的彈性層22Ba上疊層具有吸水性的吸水層22Bb的雙層結構。 這種情況下，彈性層22Ba除了具有彈性，還可以具有吸水性。作為用于形成清潔座22B的材料，在例如清潔座22B采用單層結 構時，可使用棉、發(fā)泡樹脂(海綿)、編布等。在清潔座22B采用雙層 結構時，作為用于形成彈性層22Ba的材料，可使用硅橡膠等彈性體， 或硅海綿等樹脂發(fā)泡體；作為用于形成吸水層22Bb的材料，可使用濾 紙、紡布或無紡布。更具體而言，吸水層22Bb由使用了作為聚酯和尼 龍的微纖維的極細纖維的布，以聚酯、尼龍或人造絲等樹脂為原料的 無紡布，或利用丙烯酸系等樹脂將例示的樹脂形成的網(wǎng)狀物粘接而得 的無紡布形成。此外，在清潔座22B上，還可以預先載持卜l)卜y X 一100 (聚氧乙烯一對叔辛基苯基醚)等表而活性劑。與之相對，圖1和圖3所示的各第二槽42是用于保持單一成分測 定用的試驗片21的機構，沿D1、 D2方向延伸而形成。單一成分測定 用試驗片21如圖4B所示，在基材21A上設置有1個試劑座21B。試 劑萍21B由例如紡布或濾紙等吸水性載體載持有與葡萄糖、白蛋白、 鈣等特定成分反應并顯色的試劑。如圖3所示，各導向部43是在使試驗片載置臺4沿D、D2方向 移動時，使后述測光機構6的輥62轉動的部分(參照圖11、圖13、 圖14和圖16)，在試驗片載置臺4的D3、 D4方向的端部沿著Dl、 D2方向延伸設置。各導向部43具有由多個導軌部43A規(guī)定的第一^^ 第三凹部43Ba、 43Bb、 43Bc。第一凹部43Ba設置在與黑色和白色基 準板45A、 45B對應的位置，第二凹部43Bb設置在與第一槽41對應 的位置，第三凹部43Bc設置在與第二槽42對應的位置。如圖2所示，傳動部44是用于將電動機46的旋轉驅動力輸入試 驗片載置臺4的部分。該傳動部44具有用于與固定在電動機46的輸 出軸47上的傳動部48卡合的多個齒(圖示略)。因此，試驗片載置臺 4根據(jù)電動機46的輸出軸47的旋轉方向，可相對于筐體3沿Dl方向 或D2方向(參照圖l和圖3)進行往復移動。如圖3所示，黑色和白色基準板45A、 45B是在檢査后述測光機 構6的發(fā)光元件66的輸出時，或在檢查測光機構6的透明板68的清 潔狀態(tài)時，被由發(fā)光元件66發(fā)出的光照射的部分。這些基準板45A、45B是反射率已知的部件，由例如玻璃或樹脂形成。各基準板45A、 45B通過嵌入設置在試驗片載置臺4上的凹部49中而與試驗片載置臺 4形成一體。此外，也可省略黑色基準板45A和白色基準板45B中的 一方，或者在將試驗片載置臺4形成為黑色時，也可將試驗片載置臺4 的表面代替黑色基準板45A使用。此外，也可使用由表面反射率高的 材料(例如金屬)形成的基準板代替白色基準板45B。
圖2所示的分注裝置5是用于將試樣滴附在圖4A和圖4B所示的 試驗片20、 21的試劑座20B、 21B上，或將清洗液滴附在圖5A或圖 5B所示的清潔用具22的清潔座22B上的裝置。在此，作為分析裝置1 中的使用對象的試樣，可舉出例如血液、尿液等。作為清洗液，可使 用例如水、有機溶劑、含有表面活性劑的溶液等。但是，在使用清潔 用具22的清潔座22B中預先含浸有表面活性劑的清潔用具吋，作為清洗液沒有必要使用含有表面活性劑的溶液。
該分注裝置5具備噴嘴50和杣吸單元51 ，利用抽吸單元51對噴 嘴50施加吸附力或排il',力。圖2所示的噴嘴50是前端部安裝有觸頭52而使用的機構，可沿 水平方向和垂直方向移動。該噴嘴50可選擇能夠利用來自抽吸單元 51的動力吸引空氣的狀態(tài)，和能夠排出空氣的狀態(tài)。即，在噴嘴50 中，在安裝有觸頭52的狀態(tài)下，通過進行能夠吸引空氣的動作，可將 試樣抽吸到觸頭52內部并將試樣保持，另一方面，通過進行能夠排出 空氣的動作，可將保持在觸頭52中的試樣排出。
抽吸單元51構成為利用脈沖電動機53使直動軸54上下運動。 直動軸54與活塞56連接，活塞56通過直動軸54的上下運動相對于 汽缸55上下運動。即，抽吸單元51通過控制脈沖電動機53使活塞56 上下運動，將液體吸引到安裝在噴嘴50上的觸頭52中，使保持在觸 頭52中的液體排出。
圖2所示的測光裝置6用于把握試驗片20、 21的試劑座20B、 21B (參照圖1)的顯色狀態(tài)。該測光裝置6如圖6 圖8所示，具有盒60、 支架61和一對輥62。
盒60具有整體上在D3、 D4方向伸長的形態(tài)，具有上壁63、 一對 傾斜壁64A、 64B，和下部開口65。 上壁63沿D3、 D4方向水平延伸，支撐在D3、 D4方向上并列的 多個(圖中為6個)發(fā)光元件66。多個發(fā)光元件66對應于試驗片20 中的多個試劑座20B的配置而設置，各發(fā)光元件66以豎直向下出射光、 向試驗片20、 21的試劑座20B、 21B或基準板45A、 45B垂直照射光 (參照圖8B和圖I1B)的方式被支撐。作為發(fā)光元件66，可使用例如 LED燈等。各傾斜壁64A、 64B在相對于上壁63呈45度傾斜的狀態(tài)下，沿 D3、 D4方向延伸，傾斜壁64A支撐多個(圖中為6個)受光元件67。 各受光元件67以接收由試驗片20、 21的試劑座20B、 21B或基準板 45A、45B中反射的光中從45度角反射而來的光(參照圖8B和圖11B) 的方式被支撐。作為受光元件67，可使用例如光電二極管。下部開口 65用于允許由發(fā)光元件66發(fā)射的光由盒60出射，且允 許試驗片20、 21的試劑座20B、 21B中反射的光入射到盒60的內部。 在該下部開口65處，固定有透明板68。透明板68由透明樹脂或玻璃 形成。支架61用于使包括盒60的測光機構6能夠上下移動，具有用于 保持盒60的貫通孔61A。該支架61還在D3、 D4方向的端部設有開 口61B、 61C和槽61D。開口 61B用于允許輥62的旋轉。開口61C如 圖2所示，是銷39插通的部分，由銷39引導測光機構6的上下移動。 槽61D是用于在測光機構6移動到下方時，避免支架61干擾試驗片載 置臺4的導向部43的機構。如圖2、圖6 圖8所示， 一對輥62設置在盒60的長度方向(D3、 D4方向)的端部，其中一部分以在支架61的下方突出、并可相對于 盒60旋轉的方式而被支撐。各輥62設在與試驗片載置臺4的導向部 43 (參照圖3)對應的位置，在使試驗片載置臺4相對于測光機構6 沿D1、 D2方向相對移動時，在導向部43上轉動。其中，各導向部43 具有第一 第三凹部43Ba、 43Bb、 43Bc。為此，測光機構6在輥62 位于導軌部43A上時，整體位于高位；在輥62位于凹部43Ba 43Bc 時，整體位于低位。即，通過使輥62沿著導向部43在D1、 D2方向 上相對移動，使測光機構6可沿上下方向移動，在位于與黑色和白色 基準板45A、 45B對應的位置、與第一和第二槽4K 42對應的位置時， 位于低位。此外，導軌部43A的高度在輥62位于導軌部43A之上時，設定 使后述的測光機構6的透明板68的表面位于比載置在第一槽41的狀 態(tài)下的清潔用具22的清潔座22B的上面更靠上方的位置(參照圖13B 和圖13C);另一方面，在輥62位于第一^^第三凹部43Ba 43Bc時， 設定使透明板68的表面位于比清潔用具22載置在第一槽41的狀態(tài)下 的清潔座22B的上面更靠下方的位置，且使透明板68位于比載置在第 一和第二槽41、 42的試驗片20、 21的試劑座20B、 21B的上面更靠上 方的位置(參照圖14C和圖16)。接著參照流程圖說明分析裝置1的動作。如圖9所示，在分析裝置l中，在電源導通的情況下(Sl)，首先 檢査測光機構6中的透明板68的污漬(S2)。如圖10所示，在透明板68的污漬的檢查處理中(S2)，分析裝置 1測定黑色基準板45A和白色基準板45B的反射率(S20、 S21)。如圖 IIA和圖11B所示，黑色和白色基準板45A、45B的反射率的測定(S20、 S21)在將測光機構6定位于與黑色或白色基準板45A、 45B對應的部 分以后，利用測光機構6對基準板45A、 45B進行測光而進行。基準 板45A、 45B的測光通過由發(fā)光元件66向基準板45A、 45B照射光， 由受光元件67接收此時的反射光而進行。在分析裝置1中，根據(jù)受光 元件67中的受光量，計算基準板45A、 45B的反射率。然后，在分析裝置1中，判斷黑色基準板45A的反射率是否在一 定值以下(S22)，當反射率在一定值以下時(S22: YES)，判斷白色 基準板45B的反射率是否在一定值以上(S23)。分析裝置1在S23中 判斷白色基準板45B的反射率在一定值以上時，判斷透明板68上沒有 污漬(S24);另一方面，在S22中判斷黑色基準板45A的反射率在一 定值以上時(S22: NO)，或在S23中判斷白色基準板45B的反射率在 一定值以下時(S23: NO)，判斷透明板68有污漬(S25)。其中，作為透明板68是否有污漬的判斷基準的黑色和白色基準板 45A、 45B的反射率的閾值，可根據(jù)例如照射的光的波長、和該波長下 的黑色和白色基準板45A、 45B清潔時的反射率(基準板45A、 45B的 組成等)適當設定。
如圖9所示，透明板68的污漬檢查(S2)完畢時，在分析裝置l 中，判斷透明板68上是否有污漬(S3)，在透明板68上有污漬的情況 下(S2: YES)，報知透明板68有污漬的信息(S4)。分析裝置1在判斷透明板68沒有污漬的情況下(S3: NO)，或在 報知透明板68有污漬的信息(S4)的情況下，由用戶判斷是否選擇清 潔模式(S5)。在此，由用戶進行清洗模式的選擇通過例如由用戶操作 操作按鈕37A來進行。分析裝置1在判斷選擇清潔模式的情況下(S5: YES)，實施清潔 處理(S6)。如圖12所示，在清潔處理中(S6)，首先判斷第一槽41是否載置 有清潔用具22 (S60)。在S60中，在判斷未載置清潔用具22的情況下 (S60: NO)，判斷選擇清潔模式后是否經過了一定吋間(時間是否已 到)(S61)。在分析裝置1判斷未經過一定時間的情況下(S61: NO)， 再次判斷是否載置有清潔用具22 (S60)。 S60、 S61的判斷反復實施， 直至在S60中判斷為載置有清潔用具22 (S60: YES)或在S61中判斷 為經過了一定時間(時間己到)(S61: YES)為止。在S60中，在判斷為載置有清潔用具22的情況下(S60: YES)， 向清潔用具22的清潔座22B滴附清洗液(例如水、表面活性劑的溶液、 溶劑)(S62)。向清潔座22B滴附清洗液通過在分注裝置5的噴嘴50 上安裝觸頭52的狀態(tài)下，將清洗液吸引到觸頭52內以后，將其排出 到清潔座22B上而實施(參照圖2)。在此，由于清潔座22B如上所述 由具有吸水性的材料形成，因此，在將清洗液滴附在清潔座22B上時， 清洗液含浸并保持在清潔座22B中。在對清潔座22B滴附清洗液(S62)完畢時，移動試驗片載置臺4， 使清潔座22B與測光機構6的透明板68緊密接觸(S63)。在該過程中，如圖13A 圖13C所示，在直到清潔座22B位于透 明板68中的發(fā)光元件66正下方區(qū)域之前為止，測光機構6的輥62位 于導向部43的導軌部43A上。因此，在直到清潔座22B位于上述正 下方區(qū)域為止，整個測光機構6位于高位置，因此，清潔座22B不會 干擾測光機構6。另一方面，如圖14A 圖14C所示，在清潔座22B 位于透明板68中的發(fā)光元件66的正下方區(qū)域時，測光機構6的輥62
位于導向部43的第二凹部43Bb內。因此，在清潔座22B位于上述正 下方區(qū)域時，整個測光機構6位于低位，清潔座22B被壓接在透明板 68上。此時，由于清潔座22B采用具有柔軟性的材料，因此，清潔座 22B發(fā)生彈性變形，利用其反彈力，維持清潔座22B與透明板68緊密 接觸的狀態(tài)。然后，如圖12所示，在分析裝置1中，加熱透明板68 (S63)。透 明板68的加熱可利用例如在使試驗片20、 21的試劑座20B、 21B的試 劑和試樣反應吋使用的加熱器進行，透明板68的加熱溫度設定為試樣 與試劑的反應溫度(例如30 4(TC)。在此，在加熱透明板68的情況 下，呈透明板68與清潔座22B緊密接觸的狀態(tài)；另一方面，由于清潔 座22B中含浸有清洗液，因此清洗液滲透附著在透明板68上的污漬， 使污漬浮起。然后，在分析裝置1中，利用清潔座22B擦拭透明板68的污漬 (S64)。擦拭污漬的作業(yè)如圖14C所示，通過將試驗片載置臺4沿Dl、 D2方向往復移動規(guī)定次數(shù)而進行。通過S63中的對透明板68的加熱， 使透明板68的污漬浮起，因此，利用這樣的擦拭操作，可以恰當?shù)貜?透明板68擦去污漬。在污漬的擦拭操作(S64)完畢時，進行透明板68的污漬檢查(S65)。 該污漬檢查(S65)與之前說明的S2中的污漬檢査處理同樣進行(參 照圖10和圖11)。在S66中判斷透明板68有污漬的情況下(S66: YES)，反復實施 S64中的擦拭和S65中的污漬檢査，至S66中判斷透明板68上沒有污 漬(S66: NO)，或判斷僅運行了規(guī)定次數(shù)的污漬擦拭作業(yè)為止(S67: YES)。當在污漬的擦拭作業(yè)(S64)之后實施污漬檢查時(S65),即使在 1次擦拭作業(yè)不能充分除去透明板68的污漬時，利用此后實施的擦拭 作業(yè)(S64)，也可以確保除去透明板68的污漬。此外，即使在假定污 漬未充分除去的情況下，也可以向用戶告知有可能不能實施精確測定 的信息。在S66中判斷為透明板68沒有污漬(S66: NO)或僅進行了規(guī)定 次數(shù)的污漬的擦拭作業(yè)(S64)的情況下(S67:YES)，報知該信息(S68)。 在S68中，在S66中判斷為透明板68沒有污漬的情況下(S66: NO)， 報知透明板68的污漬被恰當?shù)爻サ男畔ⅲ辉赟67中，在判斷為實施 了規(guī)定次數(shù)的擦拭作業(yè)(S64)的情況下(S67: YES)，報知透明板68 的污漬未被充分除去的信息。這樣的報知通過例如在顯示器38上根據(jù) 需要報知的內容以代碼表示，或用文字表示需要報知的內容來實施。然后，在分析裝置l中，判斷是否從試驗片載置臺4的第一槽41 卸去了清潔用具22 (S69)，在判斷未卸去清潔用具22的情況下(S69: NO)，直至判斷為由S68中的報知經過了一定時間(S70: YES)或判 斷卸去了清潔用具22為止(S69: YES)，反復實施S69和S70的判斷。然后，在S69中判斷卸去了清潔用具22的情況下(S69: YES)， 終止清潔處理。此外，在S61中判斷為從選擇清潔模式經過一定時間 后也未載置清潔用具22的情況下(S61: YES)，或在S68中報知經過 了一定吋間后，判斷為未卸去清潔用具22的情況下(S70: YES)，報 知該信息(S71)，終止清潔處理。在S71中，在S61中判斷為經過一 定吋間也未載置清潔用具22的情況下(S61: YES)，因未載置清潔用 具22報知不能恰當?shù)剡M行清潔處理；在S61中判斷為經過一定時間后 也未卸去清潔用具22的情況下(S70: YES)，報知未卸去清潔用具22。如圖9所示，分析裝置1在S5中判斷為未選擇清潔模式的情況下 (S5: NO)，或在清潔處理(S6)完畢的情況下，由用戶判斷是否選 擇分析模式(S7)。由用戶進行分析模式的選擇可通過對操作按鈕37A 的操作進行。分析裝置1在判斷為未選擇分析模式的情況下(S7: NO)，判斷 是否選擇了清潔模式(S5)或是否選擇了分析模式(S7)。另一方面，分析裝置1在判斷選擇了分析模式的情況下(S7:YES)， 進行分析處理(S8)。如圖15所示，在分析處理中(S8)，首先判斷分析裝置1是否在 第一或第二槽41、 42載置試驗片20、 21 (S80)。該判斷基于由用戶對 操作按鈕37A的操作生成的信號來進行。此外，也可在第一和第二槽 41、 42中設置傳感器，由該傳感器判斷第一和第二槽41、 42中是否載 置試驗片20、 21。在S80中，在判斷為第一和第二槽41、 42中載置了試驗片20、 21 的情況下(S80: YES)，將試樣滴附在試驗片20、 21的試劑座20B、 21B上(S81)。向試劑座20B、 21B滴附試樣通過在分注裝置5的噴嘴 50上安裝有觸頭52的狀態(tài)下，將試樣吸引到觸頭52內以后，將其排 出到試劑座20B、 21B上而進行(參照圖2)。在此，由于試劑座20B、 21B是含有用于與特定成分反應的試劑的機構，因此，在將試樣滴附 在試劑座20B、 21B上時(S81)，在試劑座20B、 21B中，試樣的特定 成分與試劑反應，試劑座20B、21B顯示出與特定成分的量對應的顏色。 在試樣的滴附(S81)完畢時，如圖16所示，試驗片載置臺4沿 Dl方向移動，使試驗片20、 21的試劑座20B、 21B位于測光機構6 的透明板68的對面，利用發(fā)光元件66向試劑座20B、21B照射光(S82)。 在分析裝置1中，進一步檢測在受光元件67中接收的來自試劑座20B、 21B的反射光的光量(S83)，根據(jù)該檢測量，計算試樣中的特定成分 的濃度(S84)。濃度計算的結果表示在例如顯示器38上，或打印在附圖之外的記 錄紙上。此外，在清潔處理中(S6)，無論是在判斷為透明板68的污 漬未充分除去(S66: NO)或未實施污漬的擦拭操作即終止了清潔處 理的情況下(S6h YES)，或盡管判斷為透明板68有污漬(S3: YES)， 但未選擇清潔模式(S5: NO)，而是選擇了分析模式的情況下(S7: YES)，都可以附記對分析結果有可能不正確的擔心的信息。以上說明的分析裝置1構成為電源導通時，檢查測光機構6中 的透明板68的污漬，在產生了污漬的情況下，報知需要清潔透明板68 的信息。即，在分析裝置1中，可向用戶傳達需要清潔的信息(有可 能不能實施正確分析的信息)。這樣，由于可在透明板68有污漬的狀 態(tài)下，降低用戶進行試樣分析的可能性，因此可提高進行正確分析的 可能性。此外，透明板68的清潔僅通過對操作按鈕37A進行操作等選擇清 潔模式，將清潔用具22載置在試驗片載置臺4上，就可以在分析裝置 l中自動實施。因此，在對透明板68進行清潔時，可降低因用戶為減 輕負擔而惰于進行清潔作業(yè)的可能性，并且在利用裝置進行自動清潔 時，也不會因用戶不同造成清潔程度的差異。其結果是，在分析裝置l 中，與用戶通過手工作業(yè)對透明板68進行清潔時相比，能夠實現(xiàn)分
析精度的提高。本發(fā)明并不限于上述實施方式中采用的方案。例如，使測光機構6相對于試驗片載置臺4上下移動的結構并不限于作為分析裝置1說明 的例子，也可以采用其它結構，且測光機構6只要可相對于試驗片載 置臺4上下移動，也可以采用例如試驗片載置臺4上下移動，或者測 光機構6和試驗片載置臺4兩者上下移動的結構。此外，作為清潔用具，也可使用清洗液滴附部分(濕式座)和清 洗液未滴附部分(干式座)沿基材的寬度方向并列設置的清潔用具。 再者，作為清潔用具，不一定必須形成具有吸水性的多孔質狀，且也 不必將按壓在測光機構的透明板上的部分(按壓部)形成座狀。例如， 按壓部也可以由橡膠等形成非多孔質的座狀，或形成包括多根線條部 的刷子狀，或者沿基材的長度方向延伸的非座狀。
權利要求
1.一種分析裝置，其特征在于，具備用于對滴附有試樣的分析用具的試劑座進行測光的測光機構，和具有用于載置所述分析用具的載置部的載置臺，該分析裝置以下述方式構成在所述載置臺上載置清潔用具，在由所述清潔用具的按壓部按壓所述測光機構中的光的出射面或入射面的狀態(tài)下，對所述出射面或所述入射面進行清潔。
2. 如權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，所述分析裝置以 能夠利用所述按壓部對所述出射面或所述入射面進行擦拭的方式構 成。
3. 如權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，所述測光機構能 夠相對于所述載置臺進行相對的上下移動。
4. 如權利要求3所述的分析裝置，其特征在于，所述分析裝置以 在所述載置部載置所述清潔用具、對所述出射面或所述入射面進行清 潔的方式構成。
5. 如權利要求4所述的分析裝置，其特征在于，所述分析裝置以下述方式構成在將所述清潔用具載置于所述載置部的狀態(tài)下，使所 述測光機構位于與所述載置部對應的位置時，所述清潔用具的按壓部 對所述出射面或所述入射面進行按壓。
6. 如權利要求5所述的分析裝置，其特征在于，所述載置臺具備沿該載置臺的移動方向延伸并具有凹部的導向件， 所述測光機構具備與所述導向件接觸的接觸部，并且 所述接觸部以在所述載置部位于能夠對所述試劑座進行測光的位置時進入所述凹部的方式構成。
7. 如權利要求1所述的分析裝置，其特征在于，所述分析裝置以 下述方式構成在將含浸有清洗液的所述按壓部按壓在所述出射面或 所述入射面上的狀態(tài)下，使所述出射面或所述入射面升溫。
8. —種分析裝置中的測光機構的清潔方法，用于在分析裝置中， 對所述測光機構的光出射面或入射面進行清潔，其特征在于，所述分析裝置具備用于對滴附有試樣的分析用具的試劑座進行 測光的測光機構，和具有用于載置所述分析用具的載置部的載置臺， 所述清潔方法包括在所述清潔用具的按壓部含浸有清洗液的狀態(tài)下，利用所述按壓 部對所述出射面或所述入射面進行擦拭的第一步驟，并且還包括下述 第二和第三步驟中的至少一個步驟，第二步驟在所述第一步驟之前進行，并且在將含浸有清洗液的 所述按壓部按壓在所述出射面或所述入射面上的狀態(tài)下，對所述出射 而或所述入射而進行加熱，第三步驟在所述第一步驟之后進行，并且利用己知反射率的基 準板，確認所述出射面或所述入射而的污漬的程度。
9. 一種清潔用具，用于在分析裝置中，對測光機構中的光出射面 或入射面進行清潔，其特征在于，所述分析裝置具備用于對滴附有試樣的分析用具的試劑座進行 測光的測光機構，和具有用于載置所述分析用具的載置部的載置臺， 所述清潔用具具備基材；和支撐該基材的一個或多個按壓部。
10. 如權利要求9所述的清潔用具，其特征在于，所述基材采用與 用于支撐所述分析用具中的所述試劑座的基材實質上相同的形狀，所述按壓部至少存在于與所述分析用具中的試劑座對應的位置。
11. 如權利要求io所述的清潔用具，其特征在于，所述一個或多個按壓部具有與所述試劑座同樣的俯視形狀，并且形成于與所述試劑 座對應的位置。
12. 如權利要求9所述的清潔用具，其特征在于，所述按壓部比所 述分析用具的試劑座的厚度大。
13. 如權利要求12所述的清潔用具，其特征在于，所述按壓部的 厚度形成為所述試劑座的厚度的2 30倍。
14. 如權利要求9所述的清潔用具，其特征在于，所述按壓部具有 彈性。
15. 如權利要求9所述的清潔用具，其特征在于，所述按壓部具有 吸水性。
16. 如權利要求9所述的清潔用具，其特征在于，所述按壓部具有 彈性和吸水性。
17. 如權利要求16所述的清潔用具，其特征在于，所述按壓部為 在具有彈性的彈性層的表面疊層有具有吸水性的吸水層的結構。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種分析裝置(1)，其具備用于對滴附有試樣的分析用具的試劑座進行測光的測光機構(6)，和具有用于載置分析用具的載置部(41)的載置臺(4)。該分析裝置構成為清潔用具(22)載置在載置臺(4)上，對測光機構(6)中的來自發(fā)光元件(66)的光的出射面(68)或入射面(68)進行清潔。本發(fā)明還涉及用于對分析裝置(1)的測光機構(6)進行清潔的清潔用具(22)。
文檔編號G01N21/78GK101163959SQ200680013218
公開日2008年4月16日 申請日期2006年4月19日 優(yōu)先權日2005年4月20日
發(fā)明者丹治秀樹, 宇佐川順之, 藤原稔典 申請人:愛科來株式會社