專利名稱：動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)闹谱鞣椒?br> 技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及表面分析技術(shù)，更具體地說，涉及動態(tài)參考平面校平(leveling)。
背景技術(shù)：
很多技術(shù)應(yīng)用都涉及測量表面的狀況。例如，在盤驅(qū)動器領(lǐng)域，在生產(chǎn)期間的不同階段確定盤表面的微觀拓?fù)湔诔蔀樵诠烙嬌a(chǎn)滿意質(zhì)量的盤的可能性時的越來越重要的因素。鑒于在這樣的盤上存儲著高密度的數(shù)據(jù)，因而以1微米量級的橫向分辨率來監(jiān)視高度范圍從小于1納米到數(shù)十微米的表面形貌分布。
在諸如硬盤驅(qū)動器一類的存儲設(shè)備中，讀寫頭非常靠近旋轉(zhuǎn)盤。讀寫頭使得對盤的磁方式訪問(而不是物理訪問)能夠進(jìn)行，以讀出和/或?qū)懭肴舾杀忍?bit)的數(shù)據(jù)。然而，如果讀/寫頭接觸到了盤表面，則可能損壞以磁方式存儲在盤上的數(shù)據(jù)。另外，如果頭部與旋轉(zhuǎn)盤發(fā)生物理接觸，則可能對頭部造成損壞。在當(dāng)前的一些硬盤驅(qū)動器中，由于盤可能以每分鐘幾千轉(zhuǎn)(RPM)的速度旋轉(zhuǎn)，所以如果頭部和旋轉(zhuǎn)盤發(fā)生物理接觸，則可能對它們二者都造成相當(dāng)大的損壞。
為了在硬盤驅(qū)動器的給定占用面積(footprint)中存儲盡可能多的數(shù)據(jù)，頭部被保持在離旋轉(zhuǎn)盤越來越短的距離上。因此，準(zhǔn)確地測量頭部和旋轉(zhuǎn)盤之間的距離是很有用的。

發(fā)明內(nèi)容
在各種實(shí)施方案中，描述了在測量和/或測試環(huán)境中用于動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)募夹g(shù)。測量和/或測試環(huán)境可以包括用于測量兩個表面之間的距離的環(huán)境，例如測量旋轉(zhuǎn)盤的表面和外部物體之間的距離?？商鎿Q地或可附加地，測量和/或測試環(huán)境可以包括用于測量旋轉(zhuǎn)盤的表面狀況的環(huán)境。
在一個實(shí)施方案中，用于動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)募夹g(shù)涵蓋動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)姆椒?。在一個實(shí)施方案中，來自第一輻射源的輻射被照射(impinged)到一個物體的表面。根據(jù)從該表面上的第一位置反射的輻射，以及從第二位置反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號，并且根據(jù)從該表面上的第三位置和第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號。使用所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號來生成補(bǔ)償后測量信號。
在另一個實(shí)施方案中，一種用于動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)南到y(tǒng)包括將來自第一輻射源的輻射照射到一個物體的第一表面的輻射引導(dǎo)部件(assembly)；根據(jù)從該表面上的第一位置反射的輻射，以及從第二位置反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號的測量信號生成部件；根據(jù)從該表面上的第三位置和第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號的補(bǔ)償信號生成部件；以及根據(jù)所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號的補(bǔ)償后測量信號生成部件。
在另一個實(shí)施方案中，一種測量盤表面和讀寫頭之間的距離的方法包括相對于中心軸旋轉(zhuǎn)物體；將來自第一輻射源的輻射引導(dǎo)至所述物體的第一表面上的第一位置處，并且引導(dǎo)至位于鄰近所述第一位置的第二位置處的測試塊上；將來自第二輻射源的輻射引導(dǎo)至所述物體的第一表面上的第三位置和第四位置處；根據(jù)從所述表面上的第一位置以及從所述測試塊反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號；根據(jù)從所述物體的所述表面上的第三位置和第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號；根據(jù)所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號；以及根據(jù)所述補(bǔ)償后測量信號確定盤的第一表面和讀寫頭之間的距離。
在以下詳細(xì)的描述中部分闡述了本發(fā)明的實(shí)施方案的其他優(yōu)點(diǎn)、目的和特征。應(yīng)當(dāng)理解，以上總體描述和以下詳細(xì)描述都只是對本發(fā)明的實(shí)施方案的示例性說明，是為了理解本發(fā)明的實(shí)施方案的本質(zhì)和特性所給出的概述或框架。


參考附圖進(jìn)行了詳細(xì)的描述。
圖1是根據(jù)一個實(shí)施方案的用于動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)南到y(tǒng)的示意圖。
圖2是根據(jù)一個實(shí)施方案的雙通道差分相位檢測器的示意圖。
圖3是根據(jù)一個實(shí)施方案的用于動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)姆椒ǖ牧鞒虉D。
具體實(shí)施例方式
在以下描述中，闡述了大量具體的細(xì)節(jié)，以提供對本發(fā)明的實(shí)施方案的完整理解。本發(fā)明的實(shí)施方案可以在沒有這些具體細(xì)節(jié)中的一部分或全部的情況下實(shí)現(xiàn)。此外，沒有詳細(xì)描述公知的處理操作，以免不必要地模糊了本發(fā)明。
另外，在說明書中提及“一個實(shí)施方案”或“實(shí)施方案”是指結(jié)合該實(shí)施方案描述的具體特征、結(jié)構(gòu)或特性被包括在至少一種實(shí)施方式中。短語“在一個實(shí)施方案中”在說明書不同地方的出現(xiàn)可能全是指同一個實(shí)施方案，也可能不全是指同一個實(shí)施方案。
圖1是根據(jù)一個實(shí)施方案的用于動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)南到y(tǒng)的示意圖。參考圖1，該系統(tǒng)包括雙通道差分相位檢測器100、測量信號相位計算器(calculator)140、補(bǔ)償信號相位計算器160和合并器170。在一個實(shí)施方案中，雙通道差分相位檢測器100被調(diào)適為測量旋轉(zhuǎn)盤130和模擬諸如讀/寫頭一類的頭部134的器件(device)之間的距離。在該實(shí)施方案中，旋轉(zhuǎn)盤130可以用玻璃或者允許電磁輻射穿過盤130的另一種材料來制造，模擬頭部的器件134可以用反射電磁輻射的材料來制造，例如AlTiC((鋁鈦碳(Aluminum TitaniumCarbide))。
在操作中，雙通道差分相位檢測器100將多束輻射引導(dǎo)至盤130上。至少一個輻射束可以穿過盤130并被模擬頭部的器件134反射。此外，至少一個束從盤130的下表面反射。這里將例如參考圖2和3進(jìn)一步討論，因所述輻射束之間的光程差導(dǎo)致的相位差可被測量信號相位計算器140用來測量盤130的下表面和模擬頭部的器件134之間的間隙。測量信號相位計算器140輸出信號，該信號指示了盤130的下表面和模擬頭部的器件134之間的間隙。
在一個實(shí)施方案中，系統(tǒng)被調(diào)適為補(bǔ)償參考平面的動態(tài)改變，這種動態(tài)改變例如可能是由于檢測器100和盤130的相對位置發(fā)生改變而引起的。為了補(bǔ)償參考平面的動態(tài)改變，雙通道差分相位檢測器100將一個或更多個額外的輻射束引導(dǎo)至盤130上。補(bǔ)償信號相位計算器160確定并輸出補(bǔ)償信號。測量信號和補(bǔ)償信號被引導(dǎo)到合并器170，所述合并器170合并所述信號以生成補(bǔ)償后測量信號。
在一個實(shí)施方案中，雙通道差分相位檢測器100使用光學(xué)干涉儀的原理。在美國專利No.5,392,116和6,687,008中公開了典型的光學(xué)干涉儀，它們的公開內(nèi)容作為參考被包括在本文之中。圖2是根據(jù)一個實(shí)施方案的雙通道差分相位檢測裝置(detector)200的示意圖。參考圖2，檢測裝置200包括第一激光二極管210和準(zhǔn)直透鏡212、以及第二激光二極管214和準(zhǔn)直透鏡216、分束器220、沃拉斯頓(Wollaston)棱鏡222、和聚焦透鏡224、226。在替換的實(shí)施方案中，激光二極管可以用任何適當(dāng)?shù)墓庠磥泶?，例如非半?dǎo)體激光器、Xe弧光燈、水銀燈、發(fā)光二極管(LED)、白熾燈等。在替換的實(shí)施方案中，所述光源可以被分光，以生成適于測量和補(bǔ)償通道的光束。
可選地，檢測裝置200包括用于減小測量環(huán)境的負(fù)面影響的護(hù)罩228。在名為“受擾環(huán)境中的干涉測量”(Interferometry Measurement in Disturbed Environments)的共同轉(zhuǎn)讓的美國專利申請No.11/127,428(以此作為優(yōu)先權(quán)的中國專利申請于2006年5月10日遞交，申請?zhí)枮?00610078709.9)中描述了護(hù)罩228的一個實(shí)施方案，該專利申請的公開內(nèi)容作為參考被包括在本文之中。
檢測裝置200包括測量信號生成部件，所述測量信號生成部件包括衍射光柵240、聚焦透鏡242和244、移相器246、偏振器248和檢測器部件250。檢測裝置200還包括補(bǔ)償信號生成部件，所述補(bǔ)償信號生成部件包括衍射光柵260、聚焦透鏡262和264、移相器266、偏振器268和檢測器部件270。
在操作中，二極管210產(chǎn)生第一輻射束，該輻射束通過準(zhǔn)直透鏡212和分束器220。沃拉斯頓棱鏡222將第一輻射束分束成第一部分和第二部分，它們被引導(dǎo)通過透鏡224和226。類似地，二極管214產(chǎn)生第二輻射束，該輻射束通過準(zhǔn)直透鏡216和分束器220。沃拉斯頓棱鏡222將第二輻射束分束成第三部分和第四部分，它們被引導(dǎo)通過透鏡224和226。
第一輻射束和第二輻射束之一用作測量束，另一個用作補(bǔ)償束。僅僅出于解釋的目的，本說明書將二極管214生成的第二輻射束指定為測量束。
測量束的第一部分從盤230的下表面232的第一位置反射，而測量束的第二部分從模擬頭部的器件234的表面反射。測量束的反射部分往回通過透鏡226、224，并由沃拉斯頓棱鏡222重新合并為疊加光束。該疊加光束從分束器220反射到測量信號生成部件。
反射束通過衍射光柵240，該光柵將疊加光束分成多對衍射級(order)，每一對衍射級都是兩個反射光束的衍射級的疊加。透鏡242、244將多個衍射級以軸向平行等距光束的形式聚焦到移相器246、偏振器248和檢測器部件250上。檢測器部件使用從模擬頭部的器件234的表面反射的測量束的第一部分和從盤230的下表面反射的測量束的第二部分之間的相位差來生成信號，該信號是這兩個表面之間的距離的函數(shù)。在該實(shí)施方案中，檢測器部件使用基本如美國專利No.5,392,116所描述的技術(shù)。
如上所述，補(bǔ)償束被分為第三部分和第四部分，這兩個部分從盤230的下表面的各自位置反射。補(bǔ)償束從分束器220被引導(dǎo)至補(bǔ)償信號生成部件，該部件包括與測量信號生成部件中類似的組件(component)。檢測器部件270根據(jù)從盤230的下表面上的第一點(diǎn)反射的補(bǔ)償束的第一部分和從盤230的下表面上的第二點(diǎn)反射的補(bǔ)償束的第二部分之間的相位差來生成補(bǔ)償信號。補(bǔ)償信號是補(bǔ)償束的兩個部分的光程(optical path)之差的函數(shù)。因此，補(bǔ)償信號將根據(jù)檢測裝置200和盤230的相對位置的改變而改變。
回頭參考圖1，在一個實(shí)施方案中，從檢測器部件250輸出的測量信號被輸入到測量信號相位計算器，該計算器計算測量信號的反射分量之間的相位差θ。類似地，從檢測器270輸出的(一個或多個)補(bǔ)償信號被輸入到補(bǔ)償信號相位計算器160，該計算器計算補(bǔ)償信號的反射分量之間的相位差θaux。合并器170合并這些信號以產(chǎn)生校正后相位信號，該信號對由于檢測器部件250和待測試物體的相對位置改變而引起的誤差進(jìn)行補(bǔ)償。在一個實(shí)施方案中，使用以下公式來計算校正后相位信號θcorr＝θ-θaux(d/daux)(λaux/λ)其中，θcorr是校正后相位差，θ是在測量束之間的測得的相位差，θaux是在補(bǔ)償束之間的測得的相位差，d是測量束的第一部分的入射點(diǎn)和測量束的第二部分的入射點(diǎn)之間的距離，以及daux是補(bǔ)償束的第一部分的入射點(diǎn)和補(bǔ)償束的第二部分的入射點(diǎn)之間的距離。
λ是用于測量束的輻射的波長，λaux是用于補(bǔ)償束的輻射的波長。
需要注意的是，上面描述的公式和示例性的實(shí)施方案所針對的是測量斑點(diǎn)(spot)(第一和第二位置)和補(bǔ)償斑點(diǎn)(第三和第四位置)分別定義基本相互平行的兩段(segment)的情形。在這種情形中，補(bǔ)償信號正比于測量中需要補(bǔ)償?shù)恼`差，因而是簡單的公式。所附權(quán)利要求書還包含以下情形其中使用兩個以上的補(bǔ)償斑點(diǎn)(和/或一個以上的補(bǔ)償信號)，不一定與測量斑點(diǎn)所定義的段基本平行，以利用所述補(bǔ)償信號的簡單代數(shù)組合實(shí)現(xiàn)對所要補(bǔ)償?shù)臏y量誤差的確定。
在一個實(shí)施方案中，測量信號相位計算器140、補(bǔ)償信號相位計算器160和合并器170可以被具體實(shí)施為存儲在計算機(jī)可讀介質(zhì)中并且可在適當(dāng)?shù)奶幚砥魃蠄?zhí)行的邏輯指令。所述邏輯指令可被具體實(shí)施為存儲在適當(dāng)?shù)拇鎯ζ髦械能浖?，所述存儲器例如是通用計算設(shè)備的易失性或非易失性存儲器模塊。當(dāng)被執(zhí)行時，邏輯指令將通用計算設(shè)備配置為執(zhí)行這些邏輯指令的操作。在替換實(shí)施方案中，邏輯指令可以被具體實(shí)施為固件，或者被轉(zhuǎn)換(reduce to)為硬連線專用電路。在另一個實(shí)施方案中，接收測量和補(bǔ)償通道的檢測器可以是一個檢測器，例如攝像相機(jī)(CCD、CMOS或任何適當(dāng)?shù)念愋?或者任何適當(dāng)種類的專門的像素陣列。
圖1-2中描繪的實(shí)施方案圖示了從四個不同的斑點(diǎn)反射的輻射，所述四個斑點(diǎn)中有三個位于盤的表面上。實(shí)際上，只有三個不同的斑點(diǎn)是必要的。測量信號可以由從第一斑點(diǎn)和第二斑點(diǎn)反射的輻射的特性來產(chǎn)生，補(bǔ)償信號可以由從第三斑點(diǎn)和第一斑點(diǎn)或第二斑點(diǎn)之一反射的輻射的特性來產(chǎn)生。因此，使用在這里，提及盤的表面上的第一、第二或第三點(diǎn)不要求所有的點(diǎn)都是分離的；這些點(diǎn)中的兩個點(diǎn)可以重疊或是相同的。
圖3是根據(jù)一個實(shí)施方案的用于動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)姆椒ǖ牧鞒虉D。在操作310處，輻射被照射到一個表面上，例如旋轉(zhuǎn)盤的表面。在一個實(shí)施方案中，所述輻射包括這里所描述的測量激光束和補(bǔ)償激光束。在操作320處，生成測量信號。在一個實(shí)施方案中，測量信號代表測量信號的兩個反射分量之間的相位差。在操作330處，生成補(bǔ)償信號。在一個實(shí)施方案中，補(bǔ)償信號代表補(bǔ)償信號的兩個反射分量之間的相位差。操作320和330可以同時執(zhí)行。在操作340處，生成補(bǔ)償后測量信號。在一個實(shí)施方案中，如上所述地計算補(bǔ)償后測量信號。
因此，在這里描述的實(shí)施方案中，雙干涉儀利用第一干涉儀和輔助干涉儀，其中第一干涉儀生成代表距離測量結(jié)果的信號，輔助干涉儀生成代表例如因檢測器和盤之間的相對位置改變或者因表面變化引起的測量信號誤差的信號。輔助信號可被用來校正測量信號。
在替換實(shí)施方案中，可以使用單個激光源，并且該激光源可以被分束成分離的測量束和補(bǔ)償束，它們可以如上所述地來處理。
在替換實(shí)施方案中，測量束可被用來測量例如盤或半導(dǎo)體襯底(substrate)的表面橫截面輪廓中的差異。
在各種實(shí)施方案中，這里討論的技術(shù)可以允許硬盤驅(qū)動器的浮動塊(slider)或讀/寫頭更加靠近旋轉(zhuǎn)盤飛行(fly)，以在硬盤驅(qū)動器的制造和/或測試中不斷地發(fā)揮作用。所述技術(shù)還可以增加靈敏度和/或降低測量噪聲，以便例如在光學(xué)飛行高度測試儀中為旋轉(zhuǎn)盤和浮動塊之間的間隙提供更加準(zhǔn)確的測量。隨著這一間隙的減小，磁間隔也減小了，這使得硬盤驅(qū)動器設(shè)計能夠具有更加緊湊的占用面積。
在說明書和權(quán)利要求書中，可以使用術(shù)語“耦合”和“連接”及其派生詞。在本發(fā)明的一些實(shí)施方案中，“連接”可被用來指兩個或更多的元件相互直接物理接觸?！榜詈稀笨梢灾竷蓚€或更多的元件直接物理接觸。然而，“耦合”也可以指兩個或更多的元件相互之間可以不直接接觸，但仍然相互協(xié)同或交互。
雖然已經(jīng)用特定于結(jié)構(gòu)特征和/或方法動作的語言描述了多個實(shí)施方案，但是應(yīng)當(dāng)理解，所要求保護(hù)的主題可不限于所描述的具體特征或動作。相反，所公開的具體特征和動作是實(shí)現(xiàn)多種實(shí)施方案的示例形式。雖然上面結(jié)合一個或更多個具體實(shí)施方案描述了本發(fā)明，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不想被限制到一個實(shí)施方案。本發(fā)明想要覆蓋可被包括在本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)的替換、修改和等同物，例如由所附權(quán)利要求書限定的部分。
權(quán)利要求
1.一種動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)姆椒?，包括將來自第一輻射?210)的輻射照射到物體(230)的表面(232)上；根據(jù)從所述表面(232)上的第一位置反射的輻射，以及從第二位置反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號；根據(jù)從所述表面(232)上的第三位置和第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號；以及使用所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括將來自第二輻射源(214)的輻射照射到物體的所述表面(232)上。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中根據(jù)從所述表面上的第一位置反射的輻射，以及從第二位置反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號的步驟包括確定從所述第一位置和所述第二位置反射的輻射之間的相位差。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中根據(jù)從所述表面上的第三位置和所述表面上的第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號的步驟包括確定從所述第三位置和所述第四位置反射的輻射之間的相位差。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中根據(jù)所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號的步驟包括確定所述測量信號和所述補(bǔ)償信號之間的差。
6.一種用于動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)南到y(tǒng)，包括輻射引導(dǎo)部件，所述輻射引導(dǎo)部件將來自第一輻射源的輻射照射到物體的表面上；測量信號生成部件，所述測量信號生成部件根據(jù)從所述表面上的第一位置反射的輻射，以及從第二位置反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號；補(bǔ)償信號生成部件，所述補(bǔ)償信號生成部件根據(jù)從所述表面上的第三位置和第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號；以及補(bǔ)償后測量信號生成部件，所述補(bǔ)償后測量信號生成部件根據(jù)所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號。
7.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中所述輻射引導(dǎo)部件包括第一激光二極管(210)，用來產(chǎn)生用于所述測量信號的第一激光束；第二激光二極管(214)，用來產(chǎn)生用于所述補(bǔ)償信號的第二激光束。
8.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中所述輻射引導(dǎo)部件包括單個光學(xué)部件，所述單個光學(xué)部件將所述第一激光束的一部分和所述第二激光束的一部分引導(dǎo)至所述表面上。
9.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中所述測量束被引導(dǎo)至所述表面上，基本上平行于從旋轉(zhuǎn)盤的中心向外延伸的徑向線。
10.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中所述測量信號生成部件和所述補(bǔ)償信號生成部件包括衍射光柵(240)；移相部件(246)；以及信號生成部件，所述信號生成部件基于從所述第一位置和所述第二位置反射的輻射之間的相位差生成測量信號。
11.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中所述補(bǔ)償后測量信號生成部件包括根據(jù)所述測量信號計算相位差的裝置；計算所述補(bǔ)償信號的相位差的裝置；根據(jù)所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號的裝置。
12.一種測量物體(230)的表面(232)和測試塊(234)之間的距離的方法，包括相對于中心軸旋轉(zhuǎn)所述物體；將來自第一輻射源(210)的輻射引導(dǎo)至所述物體的表面(232)上的第一位置，并且引導(dǎo)至位于鄰近所述第一位置的第二位置處的測試塊(234)上；將來自第二輻射源的輻射引導(dǎo)至所述物體(230)的表面(232)上的第三位置和第四位置；根據(jù)從所述表面(232)上的第一位置反射的輻射，以及從所述測試塊(234)反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號；根據(jù)從所述物體(230)的表面(232)上的第三位置和第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號；根據(jù)所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號；以及根據(jù)所述補(bǔ)償后測量信號確定所述物體的所述表面和所述測試塊(234)之間的距離。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中將來自第一輻射源的輻射引導(dǎo)至所述物體的表面(232)上的第一位置，并且引導(dǎo)至位于鄰近所述第一位置的第二位置處的測試塊(234)上的步驟包括發(fā)射激光束通過光學(xué)部件，所述光學(xué)部件將所述激光束分束成第一束和第二束的。
14.如權(quán)利要求12所述的方法，其中將來自第二輻射源的輻射引導(dǎo)至所述物體的所述表面上的第三位置和第四位置的步驟包括發(fā)射激光束通過光學(xué)部件(222)，所屬光學(xué)部件(222)將所述激光束分束成第三束和第四束。
15.如權(quán)利要求12所述的方法，其中來自所述第一輻射源的所述輻射和來自所述第二輻射源的所述輻射被發(fā)射通過公共的光學(xué)部件。
16.如權(quán)利要求12所述的方法，其中根據(jù)從所述表面上的第一位置反射的輻射，以及從所述測試塊(234)反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號的步驟包括確定從所述第一位置和所述測試塊(234)反射的輻射之間的相位差。
17.如權(quán)利要求12所述的方法，其中根據(jù)從所述表面上的第三位置和第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號的步驟包括確定從所述第三位置和所述第四位置反射的輻射之間的相位差。
18.如權(quán)利要求12所述的方法，其中根據(jù)所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號的步驟包括確定所述第一測量信號和所述補(bǔ)償信號之間的差。
全文摘要
在一個實(shí)施方案中，一種動態(tài)參考平面補(bǔ)償?shù)姆椒ò▽碜缘谝惠椛湓吹妮椛湔丈涞轿矬w(230)的表面(232)上，根據(jù)從所述表面(232)上的第一位置反射的輻射，以及從第二位置反射的輻射生成未補(bǔ)償測量信號；根據(jù)從所述表面(232)上的第三位置和第四位置反射的輻射生成補(bǔ)償信號；并且使用所述未補(bǔ)償測量信號和所述補(bǔ)償信號生成補(bǔ)償后測量信號。
文檔編號G01B9/02GK1865846SQ20061008072
公開日2006年11月22日 申請日期2006年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月17日
發(fā)明者哈拉爾德·赫斯, 湯姆·卡爾, 羅曼·薩裴 申請人:恪納騰技術(shù)公司